[發明專利]用氙準分子光源制備臭氧的脈動消毒方法及其裝備

有效

• 申請號: 202110317294.0
• 申請日: 2021-03-18
• 公開（公告）號: CN113368282B
• 公開（公告）日: 2023-08-08
• 發明（設計）人: 盧紅梅;韓思遠;李彥;李大治;何娟;張昊婧;祝賀宇;高藝歌
• 申請（專利權）人: 鄭州圣華藥物食品技術開發有限公司
• 主分類號: A61L2/20
• 分類號: A61L2/20;A61L2/26;A61L101/10;A61L101/22
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本發明涉及采用氙準分子光源發射的172nm深紫外光臭氧現用現制技術的消毒方法和核酸清除方法及其配套裝備的設計方法，是應用于低溫消毒領域和核酸清除領域的一類新穎的消毒和核酸清除技術和新型的低溫消毒與核酸清除裝備的設計方案。

技術領域

本發明涉及采用氙準分子光源發射的172nm深紫外光臭氧現用現制技術的消毒方法和核酸清除方法及其配套裝備的設計，是應用于低溫消毒領域和核酸清除領域的一類新穎的消毒和核酸清除技術和新型的低溫消毒與核酸清除裝備的設計方案。

背景技術

低溫消毒技術始終是人類面對有害微生物防御中迫切需要的技術。但是低溫消毒所面臨的問題是大量采用對環境造成污染的化學消毒劑，如含氯、含溴、含碘的化學消毒劑、烷烴類消毒劑，如環氧乙烷，等。一些化學消毒劑不存在化學污染問題，但是存在易燃易爆炸和強烈的腐蝕性，如過氧化氫、過氧乙酸等。

目前還有一些低溫消毒技術在被引起重視，其中如大氣低溫等離子消毒、大氣低溫等離子射頻消毒的技術，被應用于當前的疫情消殺。但是當仔細審視這些技術時，發現起主要消殺作用的仍然是活性氧原子。但是這些技術在應用時，會同時滋生氮氧化合物，而一些有效的實驗研究證實，氮氧化合物對有害微生物的消殺能力是非常低下的，更為重要的是氮氧化合物會與活性氧原子產生化學反應，將活性氧原子還原成氧氣和其他新的氮氧化合物，由此降低了大氣低溫等離子和大氣低溫射頻等離子所產生的活性氧原子的量，降低活性氧原子的濃度，從而削弱活性氧原子的消殺能力。

采用兩種或兩種以上的化學消殺劑顯然會提高化學消殺劑的消殺效果。例如專利201180044130.X就公布了一種使用環氧乙烷與過氧化氫交替消殺清除核酸的低溫核酸清除方法。將核酸清除所需要的消殺強度遠遠的大于將有害微生物滅活所需要的消殺強度，所以該專利的核酸清除方法是可以廣泛的應用于需要低溫消殺的場合。但是環氧乙烷的毒性和殘留顯然對使用場所存在嚴重的環境污染和對周邊人存在嚴重損傷的因素，致使這種較好的兩種化學消殺劑協同應用方法受到限制。

臭氧顯然具有優越于絕大多數化學消殺劑的消殺能力，其原因是臭氧的活性氧原子在發揮著強大無比的消殺作用。但是目前以空氣為氣源的臭氧制備方法存在同時滋生氮氧化物的弊端，例如介質阻擋放電制備臭氧消毒方式，以及上面提到的大氣低溫等離子和大氣低溫射頻等離子消毒方式，都存在同時滋生氮氧化合物的弊端，這樣就很難將臭氧的消殺作用發揮出來。這就是盡管從化學理論的角度認為臭氧是當前消毒能力最強、消毒速度最快、消毒后殘留物最環保的消殺劑，但是在消殺實踐中仍然被旁落的主要原因。

采用更好的不會滋生氮氧化合物的臭氧制備技術，并以純粹的臭氧消毒技術為基礎，與其他化學消殺劑配套，尤其是與那些使用后代謝產物不會進一步污染環境的化學消殺劑配套，形成協同消殺作用，且不會污染環境的消殺技術，顯然是具有技術進步意義的。

本發明人已經提交了專利申請文件：《集中傳輸式氙準分子光源臭氧發生器》(202010875608.4)、《集中傳輸式氙準分子光源臭氧發生器的臭氧噴灑架構》(202010867969.4)、《氙準分子臭氧汽霧的一種一流體噴嘴的噴灑架構》(202021830130.5)、《氙準分子臭氧汽霧的一種二流體噴嘴的噴灑架構》(202021830451.5)，提出了使用氙準分子光源激發空氣中的氧氣產生臭氧的現用現制技術和臭氧氣霧噴灑技術應用于消殺領域。由于氙準分子光源所產生的172nm窄頻紫外光的輻射能可以達到氧分子激發成活性氧原子所需要的能量，而達不到氮分子激發成活性氮原子的能量，所以使用氙準分子光源制備臭氧就不會產生可以減弱活性氧原子消殺能力的氮氧化合物。本專利申請所提出的技術是上述已經提交的專利申請技術的后續技術專利申報。與本專利申報文件提交的同日，本發明人也同時提交了《氙準分子光源臭氧與過氧化氫交替脈動消毒柜》和《一種氙準分子光源臭氧脈動消毒柜》的專利申請文件。本專利申請文件所表述的技術實質，在同日提交的兩個專利申請文件中也同時體現。

發明內容