[發明專利]一種深度計算方法及系統

在審

• 申請號: 202110314157.1
• 申請日: 2021-03-24
• 公開（公告）號: CN113052889A
• 公開（公告）日: 2021-06-29
• 發明（設計）人: 蘭富洋;李秋平;王兆民;楊鵬;黃源浩;肖振中
• 申請（專利權）人: 奧比中光科技集團股份有限公司
• 主分類號: G06T7/564
• 分類號: G06T7/564;G06T7/521;G06T7/514
• 代理公司: 深圳中一聯合知識產權代理有限公司 44414
• 代理人: 冷仔

1.一種深度計算方法，其特征在于，包括：

獲取第一斑點圖像和第二斑點圖像，所述第一斑點圖像和所述第二斑點圖像是投影模塊投射規則斑點經目標區域分別反射至第一相機單元和第二相機單元的成像區域形成的圖像；

獲取所述第一斑點圖像和所述第二斑點圖像中每個對應所述區域中斑點的第一位置信息和第二位置信息；

基于所述第一位置信息和所述第二位置信息，計算所述第一斑點圖像和所述第二斑點圖像每個對應所述區域的斑點的視差；

根據所述視差，計算所述目標區域的深度；

其中，所述成像區域預先已被劃分為多個區域，每個所述區域僅包括一個斑點。

2.根據權利要求1所述的深度計算方法，其特征在于，所述獲取所述第一斑點圖像和所述第二斑點圖像中每個對應所述區域中斑點的第一位置信息和第二位置信息；包括：

計算每個所述區域的斑點在所述第一斑點圖像和所述第二斑點圖像的斑點輪廓邊緣點的坐標信息；

基于所述斑點輪廓邊緣點的坐標信息，計算每個所述區域的斑點的中心坐標。

3.根據權利要求2所述的深度計算方法，其特征在于，所述計算每個所述區域的斑點在所述第一斑點圖像和所述第二斑點圖像的斑點輪廓邊緣點的坐標信息包括：

利用方差的高斯核對所述第一斑點圖像和所述第二斑點圖像進行高斯濾波，得到經濾波的第一斑點圖像和第二斑點圖像；

對所述經濾波的第一斑點圖像和第二斑點圖像進行拉普拉斯變換，得到所述經濾波的第一斑點圖像的拉普拉斯圖像和所述經濾波的第二斑點圖像的拉普拉斯圖像；

結合所述經濾波的第一斑點圖像和所述經濾波的第一斑點圖像的拉普拉斯圖像，得到第一斑點圖像的輪廓邊緣點求解方程；

對所述第一斑點圖像的輪廓邊緣點求解方程求解即可得到第一斑點圖像的輪廓邊緣點的坐標信息；

結合所述經濾波的第二斑點圖像和所述經濾波的第二斑點圖像的拉普拉斯圖像，得到第二斑點圖像的輪廓邊緣點求解方程；

對所述第二斑點圖像的輪廓邊緣點求解方程求解即可得到第二斑點圖像的輪廓邊緣點的坐標信息。

4.根據權利要求2所述的深度計算方法，其特征在于，所述基于所述斑點輪廓邊緣點的坐標信息，計算每個所述區域的斑點的中心坐標包括：

基于所述第一斑點輪廓邊緣點的坐標信息，計算所述第一斑點圖像的每個所述區域的斑點的中心坐標；

基于所述第二斑點輪廓邊緣點的坐標信息，計算所述第二斑點圖像的每個所述區域的斑點的中心坐標。

5.根據權利要求4所述的深度計算方法，所述基于所述第一位置信息和所述第二位置信息，計算所述第一斑點圖像的每個所述區域的斑點與對應的所述第二斑點圖像的每個所述區域的斑點的視差包括：

基于所述第一斑點圖像的每個所述區域的斑點的中心坐標和所述第二斑點圖像的每個所述區域的斑點的中心坐標，計算所述第一斑點圖像的每個所述區域的斑點與對應的所述第二斑點圖像的每個所述區域的斑點的視差。

6.一種深度計算系統，其特征在于，包括：

投影模塊，用于向目標區域投射規則斑點圖案；

相機模塊，包括第一相機單元和第二相機單元，所述第一相機單元和第二相機單元的成像區域已被劃分為多個區域，用于采集經目標區域反射回的斑點圖像并生成第一斑點圖像和第二斑點圖像；

控制與處理模塊，用于控制所述投影模塊和所述相機模塊，并用于根據所述第一斑點圖像和所述第二斑點圖像計算每個對應所述區域中的視差以進一步獲取深度；

其中，所述成像區域中的每個所述區域僅包括一個斑點。

7.根據權利要求6所述的深度計算系統，其特征在于，所述投影模組包括光源和光學組件，其中，所述光學組件至少包括透鏡元件、光學衍射元件或微透鏡陣列中一種。

8.根據權利要求6所述的深度計算系統，其特征在于，所述成像區域劃分為所述區域的寬度大于或等于所述第一相機單元和所述第二相機單元的最大視差值；所述成像區域劃分為所述區域的高度大于或等于所述投影模組投影的斑點的直徑尺寸。