[發明專利]強度分布的光學測定方法

在審

• 申請號: 202110308584.9
• 申請日: 2021-03-23
• 公開（公告）號: CN113433393A
• 公開（公告）日: 2021-09-24
• 發明（設計）人: P·尼茨;A·海姆薩特;P·肖特爾;G·伯恩;M·比特林;T·施密特
• 申請（專利權）人: 弗勞恩霍夫應用研究促進協會
• 主分類號: G01R29/08
• 分類號: G01R29/08
• 代理公司: 北京英創嘉友知識產權代理事務所(普通合伙) 11447
• 代理人: 南毅寧

1.一種強度分布光學測定方法，該方法包括如下方法步驟：

a.通過有源輻射源或無源輻射源產生空間不均勻的電磁輻射場；

b.在位置分辨圖像傳感器(2)和所述輻射源之間產生第一相對運動，使得所述輻射場沿著第一測量軌跡在所述圖像傳感器的傳感器場上運動，以使所述圖像傳感器(2)被所述輻射場的第一測量軌跡區域掃過；

c.在所述第一相對運動期間，通過所述圖像傳感器記錄所述輻射場的多個位置分辨圖像，得到第一圖像集；

d.在所述圖像傳感器(2)和所述輻射源之間產生第二相對運動，使得所述輻射場沿第二測量軌跡在所述圖像傳感器的所述傳感器場上運動，以使所述圖像傳感器(2)被所述輻射場的第二測量軌跡區域掃過，

其中，所述第二測量軌跡不同于所述第一測量軌跡，并且選擇為，使得所述第一測量軌跡至少局部地不平行于所述第二測量軌跡；

e.在所述第二相對運動期間，通過所述圖像傳感器記錄所述輻射場的多個位置分辨圖像，得到第二圖像集；

f.至少在交點處評估所述第一圖像集和第二圖像集的所述位置分辨圖像，所述交點的位置點通過評估線限定，其中在所述第一測量軌跡區域內預設和/或確定第一組評估線，并且在所述第二測量軌跡區域之內預設和/或確定至少一個第二組評估線，

其中至少所述第一組評估線中具有至少兩條彼此隔開的評估線，

并且，所述第一組評估線的每條評估線與所述第二組評估線的至少一條評估線具有交點，

其中，為每個圖像集，至少對每個交點確定特征灰度值；

g.至少在交點的子集處確定相對強度分布，以表征所述圖像傳感器和/或所述輻射場。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，從所述位置分辨圖像中確定至少一條運動軌跡、優選確定兩條運動軌跡的變化曲線。

3.根據前述權利要求中的任一項所述的方法，其特征在于，每組評估線具有至少5條評估線、尤其是具有至少10條評估線、優選具有至少50條評估線。

4.根據前述權利要求中任一項所述的方法，其特征在于，同一組的所述評估線彼此間沒有交點。

5.根據前述權利要求中任一項所述的方法，其特征在于，通過所述方法進行所述圖像傳感器的校準、特別是白圖像校正。

6.根據前述權利要求中任一項所述的方法，其特征在于，所述輻射場由輻射面(1)有源或無源地發射。

7.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，通過所述方法確定所述輻射面(1)的空間不均勻性。

8.根據權利要求5至6中任一項所述的方法，其特征在于，通過成像光學裝置將所述輻射面(1)成像到所述圖像傳感器上。

9.根據權利要求5至7中任一項所述的方法，其特征在于，所述輻射面(1)是無源輻射面(1)，并由至少一個、優選剛好一個有源輻射發生器施加輻射。

10.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，所述輻射面(1)是漫反射的輻射面(1)。

11.根據前述權利要求中任一項所述的方法，其特征在于，在所述第一相對運動期間和在所述第二相對運動期間，所述輻射場相對于輻射發生器位置固定。