[發(fā)明專利]顯示面板的對(duì)位方法、補(bǔ)償方法、系統(tǒng)及可讀存儲(chǔ)介質(zhì)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110308579.8 | 申請(qǐng)日: | 2021-03-23 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113077478A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-07-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王巖巖;熊星 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 蘇州華興源創(chuàng)科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G06T7/11 | 分類號(hào): | G06T7/11;G06T7/00;G06K9/62 |
| 代理公司: | 蘇州威世朋知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32235 | 代理人: | 沈曉敏 |
| 地址: | 215000 江*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 面板 對(duì)位 方法 補(bǔ)償 系統(tǒng) 可讀 存儲(chǔ) 介質(zhì) | ||
1.一種顯示面板的對(duì)位方法,其特征在于,包括步驟:
獲取待檢測(cè)顯示面板顯示的目標(biāo)圖像;
沿水平方向切割掉所述目標(biāo)圖像上的邊角而得到第一矩形圖像;
沿垂直方向切割掉所述目標(biāo)圖像上的邊角而得到第二矩形圖像;
獲取所述第一矩形圖像的第一頂點(diǎn)坐標(biāo)組以及所述第二矩形圖像的第二頂點(diǎn)坐標(biāo)組;
根據(jù)所述第一頂點(diǎn)坐標(biāo)組及所述第二頂點(diǎn)坐標(biāo)組得到所述目標(biāo)圖像的實(shí)際頂點(diǎn)坐標(biāo)組;
根據(jù)所述實(shí)際頂點(diǎn)坐標(biāo)組對(duì)所述目標(biāo)圖像的外輪廓進(jìn)行對(duì)位。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對(duì)位方法,其特征在于,步驟“沿水平方向切割掉所述目標(biāo)圖像上的邊角而得到第一矩形圖像;沿垂直方向切割掉所述目標(biāo)圖像上的邊角而得到第二矩形圖像”具體包括:
根據(jù)所述邊角與所述目標(biāo)圖像之間的比例關(guān)系獲取沿水平方向延伸的第一切割線及沿豎直方向延伸的第二切割線,所述第一切割線及所述第二切割線均與所述邊角相互分離;
沿所述第一切割線切割所述目標(biāo)圖像而得到第一矩形圖像;
沿所述第二切割線切割所述目標(biāo)圖像而得到第二矩形圖像。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對(duì)位方法,其特征在于,步驟“沿水平方向切割掉所述目標(biāo)圖像上的邊角而得到第一矩形圖像;沿垂直方向切割掉所述目標(biāo)圖像上的邊角而得到第二矩形圖像”具體包括:
根據(jù)所述邊角與所述目標(biāo)圖像之間的比例關(guān)系獲取沿水平方向延伸的兩條第一切割線及沿豎直方向延伸的兩條第二切割線,兩條第一切割線分別位于所述目標(biāo)圖像的水平中心線的兩側(cè),兩條第二切割線分別位于所述目標(biāo)圖像的垂直中心線的兩側(cè),且所述第一切割線及所述第二切割線均與所述邊角相互分離;
沿兩條第一切割線切割所述目標(biāo)圖像而得到第一矩形圖像;
沿兩條第二切割線切割所述目標(biāo)圖像而得到第二矩形圖像。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的對(duì)位方法,其特征在于,步驟“根據(jù)所述邊角與所述目標(biāo)圖像之間的比例關(guān)系獲取沿水平方向延伸的第一切割線及沿豎直方向延伸的第二切割線”具體包括:
根據(jù)所述目標(biāo)圖像的整體像素范圍以及所述邊角與所述待檢測(cè)顯示面板之間的尺寸比例得到所述邊角在所述目標(biāo)圖像中的局部像素范圍,所述局部像素范圍包括水平方向的水平像素范圍以及垂直方向的垂直像素范圍;
根據(jù)所述垂直像素范圍獲取沿水平方向延伸的第一切割線;
根據(jù)所述水平像素范圍獲取沿垂直方向延伸的第二切割線。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對(duì)位方法,其特征在于,步驟“獲取所述第一矩形圖像的第一頂點(diǎn)坐標(biāo)組以及所述第二矩形圖像的第二頂點(diǎn)坐標(biāo)組”具體包括:
匹配所述第一矩形圖像及直角匹配模板,根據(jù)模板匹配函數(shù)獲取所述第一矩形圖像的第一頂點(diǎn)坐標(biāo)組;
匹配所述第二矩形圖像及直角匹配模板,根據(jù)模板匹配函數(shù)獲取所述第二矩形圖像的第二頂點(diǎn)坐標(biāo)組。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對(duì)位方法,其特征在于,步驟“獲取待檢測(cè)顯示面板顯示的目標(biāo)圖像”具體包括:
獲取待檢測(cè)顯示面板顯示的待檢測(cè)圖像;
對(duì)所述待檢測(cè)圖像進(jìn)行二值化處理而得到初始圖像;
通過(guò)邊緣檢測(cè)方法獲取所述初始圖像的外輪廓;
通過(guò)直線檢測(cè)方法獲取所述初始圖像的當(dāng)前頂點(diǎn)坐標(biāo)組;
通過(guò)透射變換方法及所述當(dāng)前頂點(diǎn)坐標(biāo)組對(duì)所述初始圖像進(jìn)行校正而得到目標(biāo)圖像。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的對(duì)位方法,其特征在于,步驟“獲取待檢測(cè)顯示面板顯示的目標(biāo)圖像”之后還包括步驟:
通過(guò)直線檢測(cè)方法對(duì)所述目標(biāo)圖像的外輪廓進(jìn)行初步對(duì)位而得到所述目標(biāo)圖像的初始頂點(diǎn)坐標(biāo)組。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的對(duì)位方法,其特征在于,步驟“根據(jù)所述實(shí)際頂點(diǎn)坐標(biāo)組對(duì)所述目標(biāo)圖像的外輪廓進(jìn)行對(duì)位”具體包括:
根據(jù)所述實(shí)際頂點(diǎn)坐標(biāo)組與所述初始坐標(biāo)組之間的偏差量對(duì)所述目標(biāo)圖像的外輪廓進(jìn)行重新對(duì)位。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于蘇州華興源創(chuàng)科技股份有限公司,未經(jīng)蘇州華興源創(chuàng)科技股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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