[發(fā)明專利]一種液態(tài)金屬靶極紫外光源系統(tǒng)

在審

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• 申請日: 2021-03-22
• 公開（公告）號: CN112835274A
• 公開（公告）日: 2021-05-25
• 發(fā)明（設計）人: 芶富均;陳波;陳建軍
• 申請（專利權）人: 芶富均
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 成都春夏知識產(chǎn)權代理事務所(特殊普通合伙) 51317
• 代理人: 夏琴

本發(fā)明公開了一種液態(tài)金屬靶極紫外光源系統(tǒng)，液態(tài)金屬靶從頂部插入真空腔室內(nèi)部，液態(tài)金屬靶內(nèi)部盛裝有液態(tài)金屬，真空腔室底部與等離子體源連接，等離子體源具有進氣口、放電區(qū)和噴口，噴口與真空腔室連通，噴口與液態(tài)金屬靶位置相對應，工作時液態(tài)金屬靶底部產(chǎn)生等離子蒸汽云團，等離子體源通過等離子體電源進行供電，真空腔室外側具有輸入口和引出口，輸入口處設置有激光器，激光器產(chǎn)生的激光束通過輸入口進入真空腔室并轟擊等離子蒸汽云團，引出口供極紫引光光路通過，真空腔室外側連通有真空泵，等離子體源和真空腔室下部區(qū)域外側設置有磁場線圈，磁場線圈通過線圈電源供電，解決現(xiàn)有技術中需要產(chǎn)生穩(wěn)定高效的13.5nm光源的技術問題。

技術領域

本發(fā)明屬于檢測裝置領域，尤其涉及一種液態(tài)金屬靶極紫外光源系統(tǒng)。

背景技術

光刻是芯片制造技術的主要環(huán)節(jié)之一，光刻機分為紫外光源（UV）、深紫外光源(DUV)、極紫外光源（EUV）。隨著集成電路的發(fā)展，高度集成技術需求也逐漸提高，大部分電子元器件和存儲單元趨于超小型化。采用極紫外光源（EUV）生產(chǎn)超小型芯片已最為核心的是新一代曝光技術。對于工業(yè)生產(chǎn)用EUV光刻機，其關鍵部件多層涂層鏡、光收集器等，因其性能參數(shù)要求較高，如果不滿足要求會影響到光學系統(tǒng)的工作效率。所以裝機前要采用13.5nm光源對其檢測評估，判斷是否滿足使用要求。這些器件使用過程中，會受到碳污染，影響到光學系統(tǒng)的工作效率，需對其進行清洗并重新檢測。也需要采用13.5nm光源對其檢測評估，所以如何開發(fā)一款高效穩(wěn)定產(chǎn)生13.5nm光源的系統(tǒng)是本領域技術人員一直思考的難題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種液態(tài)金屬靶極紫外光源系統(tǒng)，解決上述現(xiàn)有技術中需要產(chǎn)生穩(wěn)定高效的13.5nm光源的技術問題。

本發(fā)明解決其技術問題所采用的技術方案是：

一種液態(tài)金屬靶極紫外光源系統(tǒng)，包括：等離子體源、真空腔室、液態(tài)金屬靶、激光器和真空泵，所述液態(tài)金屬靶從頂部插入真空腔室內(nèi)部，所述液態(tài)金屬靶內(nèi)部盛裝有液態(tài)金屬，所述真空腔室底部與等離子體源連接，所述等離子體源具有進氣口、放電區(qū)和噴口，所述噴口與真空腔室連通，所述噴口與液態(tài)金屬靶位置相對應，工作時所述液態(tài)金屬靶底部產(chǎn)生等離子蒸汽云團，所述等離子體源通過等離子體電源進行供電，所述真空腔室外側具有輸入口和引出口，所述輸入口處設置有激光器，所述激光器產(chǎn)生的激光束通過輸入口進入真空腔室并轟擊等離子蒸汽云團，所述引出口供極紫引光光路通過，所述真空腔室外側連通有真空泵，所述等離子體源和真空腔室下部區(qū)域外側設置有磁場線圈，所述磁場線圈通過線圈電源供電。

本發(fā)明的一種液態(tài)金屬靶極紫外光源系統(tǒng)，所述液態(tài)金屬靶頂部設置有儲存罐，所述儲存罐內(nèi)儲存有液態(tài)金屬。

本發(fā)明的一種液態(tài)金屬靶極紫外光源系統(tǒng)，所述儲存罐外部設置有加熱器。

本發(fā)明的一種液態(tài)金屬靶極紫外光源系統(tǒng)，所述液態(tài)金屬靶底部設置有蒸發(fā)器。

本發(fā)明的一種液態(tài)金屬靶極紫外光源系統(tǒng)，所述液態(tài)金屬靶位于真空腔室內(nèi)部一段的外側設置有第一加熱絲。

本發(fā)明的一種液態(tài)金屬靶極紫外光源系統(tǒng)，所述液態(tài)金屬靶位于真空腔室外部一段的外側設置有第二加熱絲。

本發(fā)明的一種液態(tài)金屬靶極紫外光源系統(tǒng)，所述真空腔室外部設有接地端。

本發(fā)明的一種液態(tài)金屬靶極紫外光源系統(tǒng)，所述加熱器外部設置有保溫層。

本發(fā)明的一種液態(tài)金屬靶極紫外光源系統(tǒng)，所述第二加熱絲外設有保溫層。

本發(fā)明產(chǎn)生的有益效果是：

1、通過氬等離子體與蒸發(fā)器蒸發(fā)的錫/鋰液態(tài)金屬相互作用，形成錫/鋰等離子體蒸氣云團。

2、通過激光束與錫/鋰等離子體蒸氣云團相互作用，發(fā)出13.5nm極紫外光，從而實現(xiàn)極紫外光（EUV）的穩(wěn)定輸出；