[發明專利]一種硫化銀-還原氧化石墨烯-二氧化鈦復合材料及其制備方法和應用有效
| 申請號： | 202110301947.6 | 申請日： | 2021-03-22 |
| 公開（公告）號： | CN113101947B | 公開（公告）日： | 2022-05-24 |
| 發明（設計）人： | 王立世;李新;何澤偉;黃雪金;陸曉潔;郭秋雨 | 申請（專利權）人： | 華南理工大學 |
| 主分類號： | B01J27/04 | 分類號： | B01J27/04;B01J37/34;C02F1/30 |
| 代理公司： | 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205 | 代理人： | 齊鍵 |
| 地址： | 510641 廣*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 硫化 還原 氧化 石墨 復合材料 及其 制備 方法 應用 | ||
1.一種硫化銀-還原氧化石墨烯-二氧化鈦復合材料的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
1)將葡萄糖酸鈉和還原氧化石墨烯加水配制成電解液，再設置兩塊鈦片分別作為陽極和陰極，進行陽極氧化，得到修飾有還原氧化石墨烯的二氧化鈦氧化膜；
2)將修飾有還原氧化石墨烯的二氧化鈦氧化膜浸入可溶性銀鹽溶液中進行電沉積，再浸入硫脲溶液中進行電沉積，再浸入乙醇溶液中進行電沉積，再取出干燥，完成一次硫化銀沉積，重復操作沉積多次，即得硫化銀-還原氧化石墨烯-二氧化鈦復合材料；
所述硫化銀-還原氧化石墨烯-二氧化鈦復合材料的組成包括二氧化鈦薄膜以及修飾在二氧化鈦薄膜表面的片狀還原氧化石墨烯和硫化銀顆粒；
步驟2)所述可溶性銀鹽、硫脲的摩爾比為1:0.8～1:1.2。
2.根據權利要求1所述的硫化銀-還原氧化石墨烯-二氧化鈦復合材料的制備方法，其特征在于：步驟1)所述鈦片預先進行過堿洗、酸洗和水洗。
3.根據權利要求1或2所述的硫化銀-還原氧化石墨烯-二氧化鈦復合材料的制備方法，其特征在于：步驟1)所述陽極氧化在電壓90V～110V下進行，陽極氧化時間為8min～12min。
4.根據權利要求1所述的硫化銀-還原氧化石墨烯-二氧化鈦復合材料的制備方法，其特征在于：步驟2)所述可溶性銀鹽為硝酸銀、乙酸銀中的至少一種。
5.根據權利要求1所述的硫化銀-還原氧化石墨烯-二氧化鈦復合材料的制備方法，其特征在于：步驟2)所述電沉積在電位-0.2V～0.8V下進行，時間為50s～400s。
6.根據權利要求1所述的硫化銀-還原氧化石墨烯-二氧化鈦復合材料的制備方法，其特征在于：步驟2)所述硫化銀沉積的次數為10次～16次。
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