[發明專利]帶電粒子的照射控制裝置在審
| 申請號： | 202110301725.4 | 申請日： | 2021-03-22 |
| 公開（公告）號： | CN113450940A | 公開（公告）日： | 2021-09-28 |
| 發明（設計）人： | 酒井弘滿 | 申請（專利權）人： | 住友重機械工業株式會社 |
| 主分類號： | G21K5/10 | 分類號： | G21K5/10;A61N5/10 |
| 代理公司： | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人： | 任玉敏 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 帶電 粒子 照射 控制 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種帶電粒子的照射控制裝置，其對包含受到帶電粒子束的照射而產生中子的物質的靶進行所述帶電粒子的照射控制，所述照射控制裝置具有：
偏轉機構，使所述帶電粒子偏轉；及
控制機構，控制所述偏轉機構，以使通過使所述帶電粒子束在所述靶的照射面上移動，在所述照射面的中央與端部之間形成多個由所述射束生成的熱密度的峰。
2.根據權利要求1所述的帶電粒子的照射控制裝置，其中，
所述控制機構控制所述偏轉機構，以使所述帶電粒子束的直徑小于所述照射面的半徑。
3.根據權利要求1或2所述的帶電粒子的照射控制裝置，其中，
所述控制機構控制所述偏轉機構，以在所述照射面的中央側和端部側改變所述射束的移動速度或對同一照射區域的照射次數。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于住友重機械工業株式會社，未經住友重機械工業株式會社許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110301725.4/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
