[發(fā)明專利]一種元件清潔裝置及方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110299511.8 | 申請(qǐng)日: | 2021-03-22 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112676262A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-04-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 趙燁梁;胡曉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院上海高等研究院 |
| 主分類號(hào): | B08B5/02 | 分類號(hào): | B08B5/02;B08B7/00;B08B13/00 |
| 代理公司: | 上海智信專利代理有限公司 31002 | 代理人: | 鄧琪;熊俊杰 |
| 地址: | 201210 *** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 元件 清潔 裝置 方法 | ||
1.一種元件清潔裝置,位于超凈間內(nèi),其特征在于,包括:
高壓噴射組件,位于所述超凈間的回風(fēng)地板的上方,包括相互連通的離子風(fēng)槍和高壓氣瓶;
風(fēng)道,其具有風(fēng)道入口和風(fēng)道出口,所述風(fēng)道入口與所述離子風(fēng)槍位于同一水平面且共軸相向設(shè)置,所述風(fēng)道出口位于所述回風(fēng)地板的下方;所述風(fēng)道包括相互連通的水平段和豎直段;所述風(fēng)道入口位于水平段上,所述風(fēng)道出口位于所述豎直段上;所述風(fēng)道入口處還安裝有阻流板,所述阻流板包括插入所述風(fēng)道入口的軸頸部和直徑漸擴(kuò)的喇叭口;
至少一個(gè)微粒計(jì)數(shù)器,位于所述風(fēng)道內(nèi);
抽氣過(guò)濾組件,包括位于所述風(fēng)道出口下方的過(guò)濾風(fēng)機(jī)箱體,所述過(guò)濾風(fēng)機(jī)箱體具有入風(fēng)口和出風(fēng)口,所述入風(fēng)口與所述風(fēng)道出口連通,所述出風(fēng)口則通向所述回風(fēng)地板的下方。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的元件清潔裝置,其特征在于,所述過(guò)濾風(fēng)機(jī)箱體內(nèi)具有至少一組上下設(shè)置的出氣風(fēng)扇和過(guò)濾器。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的元件清潔裝置,其特征在于,所述水平段和豎直段的連接處的內(nèi)壁具有呈彎弧狀的導(dǎo)流板。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的元件清潔裝置,其特征在于,所述風(fēng)道的水平段的內(nèi)壁上依次設(shè)置有靜電中和器和粘塵貼。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的元件清潔裝置,其特征在于,在所述靜電中和器與所述風(fēng)道入口之間、所述風(fēng)道的豎直段的上端和下端分別安裝有所述微粒計(jì)數(shù)器。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的元件清潔裝置,其特征在于,在所述風(fēng)道外側(cè)還安裝有氣管,該氣管與一前級(jí)泵連通,所述氣管分別與所述微粒計(jì)數(shù)器的出口連通。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的元件清潔裝置,其特征在于,所述高壓噴射組件還包括移動(dòng)支架、高壓發(fā)生器和位置感應(yīng)器,所述移動(dòng)支架設(shè)置在所述回風(fēng)地板上,所述離子風(fēng)槍固定在所述移動(dòng)支架上,所述高壓發(fā)生器與所述離子風(fēng)槍電連接,所述位置感應(yīng)器固定于所述離子風(fēng)槍上。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的元件清潔裝置,其特征在于,還包括控制器,其分別與所述微粒計(jì)數(shù)器、所述前級(jí)泵、所述高壓發(fā)生器和所述位置感應(yīng)器電連接。
9.一種元件清潔方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟S1:搭建一種如權(quán)利要求8中所述的元件清潔裝置,通過(guò)移動(dòng)支架使離子風(fēng)槍與風(fēng)道入口在同一水平面且距離小于等于30cm,并使離子風(fēng)槍的噴口正對(duì)風(fēng)道入口;
步驟S2:根據(jù)待清潔元件的結(jié)構(gòu),設(shè)置離子風(fēng)槍的噴出氮?dú)獾娘L(fēng)壓和風(fēng)量,并設(shè)置位置感應(yīng)器的感應(yīng)距離范圍;
步驟S3:在控制器中設(shè)置各個(gè)微粒計(jì)數(shù)器的計(jì)數(shù)閾值;
步驟S4:將待清潔元件置于離子風(fēng)槍與風(fēng)道入口之間且位于步驟S2中設(shè)置的感應(yīng)距離范圍內(nèi),控制器控制離子風(fēng)槍自動(dòng)開(kāi)始噴出高壓氮?dú)猓{(diào)整待清潔元件的位置以使得其外表面得到充分清潔;
步驟S5:當(dāng)各個(gè)微粒計(jì)數(shù)器均達(dá)到閾值后,控制器控制離子風(fēng)槍停止噴氣;
步驟S6:將清潔后的元件進(jìn)行裝配或暫存于潔凈位置。
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