[發明專利]一種元件清潔裝置及方法在審
| 申請號: | 202110299511.8 | 申請日: | 2021-03-22 |
| 公開(公告)號: | CN112676262A | 公開(公告)日: | 2021-04-20 |
| 發明(設計)人: | 趙燁梁;胡曉 | 申請(專利權)人: | 中國科學院上海高等研究院 |
| 主分類號: | B08B5/02 | 分類號: | B08B5/02;B08B7/00;B08B13/00 |
| 代理公司: | 上海智信專利代理有限公司 31002 | 代理人: | 鄧琪;熊俊杰 |
| 地址: | 201210 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 元件 清潔 裝置 方法 | ||
本發明涉及一種元件清潔裝置及方法,裝置位于超凈間內,包括:高壓噴射組件,位于超凈間的回風地板的上方,包括相互連通的離子風槍和高壓氣瓶;風道,其具有風道入口和風道出口,風道入口與離子風槍位于同一水平面且共軸相向設置,風道出口位于回風地板的下方;至少一個微粒計數器,位于風道內;抽氣過濾組件,包括位于風道出口下方的過濾風機箱體,過濾風機箱體具有入風口和出風口,入風口與風道出口連通,出風口則通向超凈間的回風層。本發明的元件清潔裝置及方法,通過在風道入口設置阻流板,能夠避免大范圍湍流的產生,減少微塵的擴散;通過設置控制器,可實現整個清潔流程的自動化,提高清潔效率。
技術領域
本發明涉及無塵化加工制造領域,更具體地涉及一種元件清潔裝置及方法。
背景技術
無塵加工制造對加工的環境有嚴格的潔凈度要求,比如IOS4(FED STD 209E)潔凈標準要求環境中的尺寸大于0.1微米的顆粒數少于10000個/立方米,在某些應用領域中,如生物醫藥、高端裝備制造、半導體行業、高能粒子加速器中,需要在潔凈環境中對數以萬計的元件進行裝配,因此在最終裝配前對每個元件的清潔除塵尤為重要。目前常用的方法是通過離子風槍噴射出的帶有正負電荷的高壓氣流來清除元件表面的微塵及靜電,在高壓氣流作用下脫離元件表面的一部分微塵會隨著超凈間內風機過濾單元產生的氣流方向運動至超凈間回風層內,由于高壓氣流與元件的相互作用會破壞附近區域的潔凈層流,從而形成湍流,另一部分脫離元件表面的微塵則有較大的幾率隨湍流向周圍擴散,最終附著在近鄰的物體上,即對這些原本清潔的物體造成污染。目前的解決方法是設置特定的清潔工位,待元件清潔完成后再轉移至最終裝配區,該方法的缺點是清潔工位距離最終裝配區域較遠,元件在轉移的過程中易被二次污染,且清潔-轉移-裝配的流程較為繁瑣,不適用于大規模的生產。
另外,現有技術中標準的高壓氣體清潔流程中,技術工人需要一手持離子風槍對另一手持的元件進行清潔,并需要同時觀察微粒計數器的示數,整個流程效率較低且容易造成交叉污染。
發明內容
本發明的目的在于提供一種元件清潔裝置及方法,以避免大范圍湍流的產生,減少微塵的擴散,并提高整個清潔流程的自動化和清潔效率。
本發明一方面提供一種元件清潔裝置,包括:
高壓噴射組件,位于所述超凈間的回風地板的上方,包括相互連通的離子風槍和高壓氣瓶;
風道,其具有風道入口和風道出口,所述風道入口與所述離子風槍位于同一水平面且共軸相向設置,所述風道出口位于所述回風地板的下方;
至少一個微粒計數器,位于所述風道內;
抽氣過濾組件,包括位于所述風道出口下方的過濾風機箱體,所述過濾風機箱體具有入風口和出風口,所述入風口與所述風道出口連通,所述出風口則通向所述回風地板的下方。
進一步地,所述過濾風機箱體內具有至少一組上下設置的出氣風扇和過濾器。
進一步地,所述風道入口處還安裝有阻流板,所述阻流板包括插入所述風道入口的軸頸部和直徑漸擴的喇叭口。
進一步地,所述風道包括相互連通的水平段和豎直段,所述水平段和豎直段的連接處的內壁具有呈彎弧狀的導流板。
進一步地,所述風道的水平段的內壁上依次設置有靜電中和器和粘塵貼。
進一步地,在所述靜電中和器與所述風道入口之間、所述風道的豎直段的上端和下端分別安裝有所述微粒計數器。
進一步地,在所述風道外側還安裝有氣管,該氣管與一前級泵連通,所述氣管分別與所述微粒計數器的出口連通。
進一步地,所述高壓噴射組件還包括移動支架、高壓發生器和位置感應器,所述移動支架設置在所述回風地板上,所述離子風槍固定在所述移動支架上,所述高壓發生器與所述離子風槍電連接,所述位置感應器固定于所述離子風槍上。
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