[發(fā)明專利]一種微透鏡陣列膜及其制作方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110297530.7
• 申請日: 2021-03-19
• 公開（公告）號: CN112835136A
• 公開（公告）日: 2021-05-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 吳良杰;趙楠
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市科創(chuàng)防偽技術(shù)發(fā)展有限公司;深圳市西卡德科技有限公司
• 主分類號: G02B3/00
• 分類號: G02B3/00
• 代理公司: 深圳市恒和大知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44479
• 代理人: 林大超

一種微透鏡陣列膜及其制作方法，它涉及防偽技術(shù)領(lǐng)域。其中微透鏡陣列膜包括：基材；設(shè)置于所述基材一側(cè)上的微透鏡陣列層；設(shè)置于所述基材上遠(yuǎn)離所述微透鏡陣列層一側(cè)的微圖文陣列層，所述微圖文陣列周期與所述微透鏡陣列周期匹配；以及，設(shè)置于所述微透鏡陣列層表面上的反射層，所述反射層用于反射所述微圖文陣列層通過所述微透鏡陣列層形成的圖像，以實現(xiàn)在微圖文陣列一側(cè)查看微圖文。采用上述技術(shù)方案的微透鏡陣列膜，其具有可在微透鏡所在側(cè)封裝、安裝，可在微圖文側(cè)查看微圖文內(nèi)容，微圖文清晰，厚度更薄的優(yōu)勢。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及防偽技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種微透鏡陣列膜及其制作方法。

背景技術(shù)

偽造的鈔票、有價證券、證書、標(biāo)簽、高附加值的商品等給人民的生產(chǎn)和生活造成極大的損失和危害，甚至威脅國家安全，人們花費大量的時間和精力研究新型的安全技術(shù)，檢驗數(shù)據(jù)載體的真實性，防止偽造和生產(chǎn)。有別于少數(shù)的專家和技術(shù)人員，蕓蕓大眾需要大眾的防偽技術(shù)。大眾技術(shù)特點是在通常狀態(tài)下，不借助任何儀器，用肉眼或感覺器官能夠直接識別特征，最易為廣大人民群眾所辨別。

通常大眾技術(shù)主要有印刷、水印、激光全息、變色油墨等，在現(xiàn)階段，一種新型的技術(shù)高、成本低、易識別、可仲裁的新一代技術(shù)是將微透鏡陣列和微圖文陣列結(jié)合實現(xiàn)的摩爾放大技術(shù)。現(xiàn)有技術(shù)中通過摩爾放大技術(shù)制作的微透鏡陣列膜，其能夠在微透鏡所在側(cè)對微圖文進(jìn)行查看。當(dāng)微透鏡所在側(cè)做封裝要求時，便無法對微圖文進(jìn)行查看，因此，現(xiàn)有技術(shù)的微透鏡陣列膜有待改進(jìn)。

發(fā)明內(nèi)容

針對現(xiàn)有技術(shù)的缺陷和不足，本發(fā)明的第一種目的在于提供一種微透鏡陣列膜，其具有可在微透鏡所在側(cè)封裝、安裝，可在微圖文側(cè)查看微圖文內(nèi)容，微圖文清晰，厚度更薄的優(yōu)勢。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是：一種微透鏡陣列膜，包括：基材；設(shè)置于所述基材一側(cè)上的微透鏡陣列層；設(shè)置于所述基材上遠(yuǎn)離所述微透鏡陣列層一側(cè)的微圖文陣列層，所述微圖文陣列周期與所述微透鏡陣列周期匹配；以及，設(shè)置于所述微透鏡陣列層表面上的反射層，所述反射層用于反射所述微圖文陣列層通過所述微透鏡陣列層形成的圖像，以實現(xiàn)在微圖文陣列層一側(cè)查看微圖文。

進(jìn)一步地，所述反射層為涂覆于所述微透鏡陣列層表面上的介質(zhì)膜，所述介質(zhì)膜至少設(shè)置有一層。

進(jìn)一步地，所述介質(zhì)膜設(shè)置有一層，且該層介質(zhì)膜為高折射率介質(zhì)材料，所述高折射率介質(zhì)材料的折射率大于1.9，所述高折射率介質(zhì)材料選自硫化鋅、硒化鋅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦中的任意一種。

進(jìn)一步地，所述介質(zhì)膜至少設(shè)置有兩層，且分為高折射率介質(zhì)材料和低折射率介質(zhì)材料，所述介質(zhì)膜的涂覆順序為高折射率介質(zhì)材料和低折射率介質(zhì)材料交替，且靠近所述微透鏡陣列層表面一側(cè)涂覆高折射率介質(zhì)材料；所述低折射率介質(zhì)材料的折射率小于1.45，所述高折射率介質(zhì)材料的折射率大于1.9。

進(jìn)一步地，所述高折射率介質(zhì)材料選自硫化鋅、硒化鋅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦中的任意一種；所述低折射率介質(zhì)材料選自氟化鎂、氟化鋁、氟化鋇中的任意一種。

進(jìn)一步地，所述高折射率介質(zhì)材料的厚度在5納米-30納米或100納米-130納米之間；所述低折射率介質(zhì)材料的厚度在5納米-50納米或170納米-230納米之間。

進(jìn)一步地，所述反射層為金屬鍍層，所述金屬鍍層為鍍銀層或鍍鋁層。

進(jìn)一步地，所述微透鏡陣列膜還包括封裝層，所述封裝層設(shè)置于所述反射層上，所述封裝層用于實現(xiàn)微透鏡陣列層上遠(yuǎn)離所述微圖文陣列層一側(cè)的裝配。