[發(fā)明專利]高能脈沖電弧蒸發(fā)源在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110296512.7 | 申請(qǐng)日: | 2021-03-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113186499A | 公開(公告)日: | 2021-07-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王叔暉;沈平;孟慶學(xué) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 法德(浙江)機(jī)械科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/32 | 分類號(hào): | C23C14/32;C23C14/50 |
| 代理公司: | 北京風(fēng)雅頌專利代理有限公司 11403 | 代理人: | 郭曼 |
| 地址: | 313100 浙江省湖*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 高能 脈沖 電弧 蒸發(fā) | ||
1.高能脈沖電弧蒸發(fā)源,包括箱體(1),其特征在于:所述箱體(1)的前部活動(dòng)鉸接有門體(11),所述箱體(1)與閉合狀態(tài)的門體(11)構(gòu)成六棱柱結(jié)構(gòu),且所述箱體(1)的內(nèi)側(cè)壁和門體(11)的背面安裝有若干電弧離子鍍裝置(2),所述箱體(1)的內(nèi)底壁安裝有轉(zhuǎn)盤(4);
所述轉(zhuǎn)盤(4)包括外盤(41)和放置盤(42),所述外盤(41)呈圓盤狀并活動(dòng)套接在箱體(1)的頂部,所述外盤(41)的上表面開設(shè)有圓形凹槽(411),所述圓形凹槽(411)的內(nèi)底壁中心處轉(zhuǎn)動(dòng)連接有主動(dòng)齒輪(421),所述主動(dòng)齒輪(421)的底面固定連接有貫穿外盤(41)底壁的轉(zhuǎn)動(dòng)管(426),所述圓形凹槽(411)的內(nèi)周側(cè)面固定連接有齒圈(422),所述主動(dòng)齒輪(421)與齒圈(422)之間設(shè)置有若干呈環(huán)形陣列分布的從動(dòng)齒輪(423),若干所述從動(dòng)齒輪(423)分別與主動(dòng)齒輪(421)和齒圈(422)嚙合,所述放置盤(42)固定安裝在從動(dòng)齒輪(423)的頂部;
所述箱體(1)的內(nèi)底壁中心處固嵌有固定管(12),所述轉(zhuǎn)動(dòng)管(426)活動(dòng)套接在固定管(12)內(nèi)部,所述固定管(12)的內(nèi)周側(cè)面上開設(shè)有弧形槽(121),所述轉(zhuǎn)動(dòng)管(426)的外周側(cè)面且靠近轉(zhuǎn)動(dòng)管(426)的底部固定連接有滑塊(4261),所述滑塊(4261)滑動(dòng)連接在弧形槽(121)內(nèi)部,所述轉(zhuǎn)動(dòng)管(426)的底面中心處開設(shè)有矩形槽,所述箱體(1)的底面栓接有的電機(jī)(5),且所述電機(jī)(5)的頂部輸出端固定連接有轉(zhuǎn)軸(51),所述轉(zhuǎn)軸(51)活動(dòng)套接在矩形槽內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高能脈沖電弧蒸發(fā)源,其特征在于,所述箱體(1)的內(nèi)側(cè)壁和門體(11)的背面還安裝有若干加熱塊(3),所述加熱塊(3)與電弧離子鍍裝置(2)電性連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高能脈沖電弧蒸發(fā)源,其特征在于,若干所述加熱塊(3)之間電性連接,若干所述電弧離子鍍裝置(2)之間電性配合并且相互獨(dú)立工作。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高能脈沖電弧蒸發(fā)源,其特征在于,所述電弧離子鍍裝置(2)包括靶座(21)和引弧針(22),若干所述靶座(21)和引弧針(22)均固嵌在箱體(1)的內(nèi)側(cè)壁和門體(11)的背面,所述引弧針(22)位于靶座(21)的頂部,所述靶座(21)的中心處固定安裝有靶材(211)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高能脈沖電弧蒸發(fā)源,其特征在于,所述外盤(41)的頂部栓接有隔離架(6),所述隔離架(6)與箱體(1)相適配。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高能脈沖電弧蒸發(fā)源,其特征在于,所述放置盤(42)的周側(cè)面設(shè)置有封裝板(424),所述放置盤(42)轉(zhuǎn)動(dòng)連接在封裝板(424)的中心處。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的高能脈沖電弧蒸發(fā)源,其特征在于,所述弧形槽(121)的頂部固定連接有內(nèi)盤(425),所述封裝板(424)滑動(dòng)連接在外盤(41)與內(nèi)盤(425)所形成的環(huán)形槽內(nèi)。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的高能脈沖電弧蒸發(fā)源,其特征在于,所述箱體(1)的內(nèi)底壁且位于固定管(12)的兩側(cè)開設(shè)有插孔(13),所述外盤(41)的底面固定安裝有兩個(gè)導(dǎo)向桿(412),所述導(dǎo)向桿(412)活動(dòng)套接在插孔(13)內(nèi)。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





