[發明專利]數字曝光方法、電子元器件基板及其制備方法

在審

• 申請號: 202110293656.7
• 申請日: 2021-03-19
• 公開（公告）號: CN113050386A
• 公開（公告）日: 2021-06-29
• 發明（設計）人: 欒興龍;馮京;萇川川;王志沖;劉鵬;袁廣才;董學
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 尚偉凈

本發明提供了數字曝光方法、電子元器件基板及其制備方法，該數字曝光方法包括：提供由多個圖案單元構成的目標圖案，每個所述圖案單元具有目標曝光劑量；確定每個所述圖案單元經過相同理論劑量的曝光后接收到的實際曝光劑量，得到第一實際曝光劑量分布圖；根據所述第一實際曝光劑量分布圖，將目標圖案拆分為多個分解圖案，每個分解圖案的形狀與所述目標圖案的形狀相同或者為所述目標圖案的形狀的一部分，且多個所述分解圖案疊加得到所述目標圖案；根據多個所述分解圖案進行疊加曝光。該方法可以大大提高曝光均一性。

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，具體涉及曝光方法、電子元器件基板及其制備方法。

背景技術

數字曝光機是一種新型的曝光設備，它通過數字微鏡器件(DMD)調制光的反射，得到曝光圖案，與傳統的曝光機相比(如Nikon)，數字曝光機將設計版圖的信息數字化，不需要掩膜版(Mask，光罩)，極大的降低了生產成本，還便于設計的優化，縮短了開發周期。實現數字化曝光的核心器件是DMD，DMD反射光的效率取決于應用專屬的設計變量，如照明波長、照明角度、投影孔徑尺寸、DMD微鏡陣列的填充率等，綜合上述各種因素DMD陣列中各個微鏡片的總光學效率存在一定差異，這直接影響著光學成像的均一性。

目前提高DMD成像均一性的方法主要有兩種：一是控制DMD陣列成像的范圍，二是通過多次掃描疊加曝光，但控制DMD陣列成像的范圍，選取DMD鏡片反射均一性更高的區域進行曝光，減少了一次掃描成像的有效面積，增加了掃描次數，影響設備的產能；而控制機臺的移動實現同一位置多次掃描曝光，多次掃描疊加成像也增加了掃描次數，對曝光機的產能有不利影響。

因而，目前數字曝光相關技術仍有待改進。

發明內容

本發明旨在至少在一定程度上解決相關技術中的技術問題之一。為此，本發明的目的在于提出一種有效提高數字曝光成像均一性且對曝光機產能沒有不利影響的數字曝光方法、制備電子元件的方法和曝光圖形。

在本發明的一個方面，本發明提供了一種數字曝光方法。根據本發明的實施例，該方法包括：提供由多個圖案單元構成的目標圖案，每個所述圖案單元具有目標曝光劑量；確定每個所述圖案單元經過相同理論劑量的曝光后接收到的實際曝光劑量，得到第一實際曝光劑量分布圖；根據所述第一實際曝光劑量分布圖，將目標圖案拆分為多個分解圖案，每個分解圖案的形狀與所述目標圖案的形狀相同或者為所述目標圖案的形狀的一部分，且多個所述分解圖案疊加得到所述目標圖案；根據多個所述分解圖案進行疊加曝光。根據本發明實施例的數字曝光方法，可以大大提高曝光均勻性，成像質量得到明顯改善，一方面，曝光圖案的關鍵尺寸波動范圍明顯變小，另一方面，曝光圖案的邊緣光滑度得到明顯改善，更加平滑。

根據本發明的實施例，所述第一實際曝光劑量分布圖是通過光熱轉化傳感器或光電轉化傳感器確定的。

根據本發明的實施例，所有所述圖案單元的所述目標曝光劑量均相同，所述根據所述第一實際曝光劑量分布圖，將目標圖案拆分為多個分解圖案包括：根據經過相同理論劑量的曝光后圖案單元接收到的實際曝光劑量由大到小，將多個所述圖案單元劃分為圖案單元組1、……、圖案單元組n，每個所述圖案單元組中，任意兩個所述圖案單元經過相同理論劑量的曝光后接收到的實際曝光劑量大致相同，n為大于等于2的整數；根據每個所述圖案單元組對應確定一個所述分解圖案，其中，圖案單元組i對應的分解圖案i的形狀與圖案單元組i至圖案單元組n中的圖案單元構成的形狀相同，i為1～n的整數。

根據本發明的實施例，定義一次曝光后圖案單元組j接收到的實際曝光劑量為D_j，圖案單元組j對應的分解圖案j的曝光次數為N_j，所述圖案單元組的曝光次數滿足以下條件：N₁＝A÷D₁，其中，A為所述目標曝光劑量，j為1～n的整數，k為2～n的整數，l為2～n的整數。