[發明專利]數字曝光方法、電子元器件基板及其制備方法在審
| 申請號: | 202110293656.7 | 申請日: | 2021-03-19 |
| 公開(公告)號: | CN113050386A | 公開(公告)日: | 2021-06-29 |
| 發明(設計)人: | 欒興龍;馮京;萇川川;王志沖;劉鵬;袁廣才;董學 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 尚偉凈 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 數字 曝光 方法 電子元器件 及其 制備 | ||
1.一種數字曝光方法,其特征在于,包括:
提供由多個圖案單元構成的目標圖案,每個所述圖案單元具有目標曝光劑量;
確定每個所述圖案單元經過相同理論劑量的曝光后接收到的實際曝光劑量,得到第一實際曝光劑量分布圖;
根據所述第一實際曝光劑量分布圖,將目標圖案拆分為多個分解圖案,每個分解圖案的形狀與所述目標圖案的形狀相同或者為所述目標圖案的形狀的一部分,且多個所述分解圖案疊加得到所述目標圖案;
根據多個所述分解圖案進行疊加曝光。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一實際曝光劑量分布圖是通過光熱轉化傳感器或光電轉化傳感器確定的。
3.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述目標圖案中所有所述圖案單元的所述目標曝光劑量均相同,所述根據所述第一實際曝光劑量分布圖,將目標圖案拆分為多個分解圖案包括:
根據經過相同理論劑量的曝光后圖案單元接收到的實際曝光劑量由大到小,將多個所述圖案單元劃分為圖案單元組1、……、圖案單元組n,每個所述圖案單元組中,任意兩個所述圖案單元經過相同理論劑量的曝光后接收到的實際曝光劑量大致相同,n為大于等于2的整數;
根據每個所述圖案單元組對應確定一個所述分解圖案,其中,圖案單元組i對應的分解圖案i的形狀與圖案單元組i至圖案單元組n中的圖案單元構成的形狀相同,i為1~n的整數。
4.根據權利要求3所述的方法,其特征在于,定義一次曝光后圖案單元組j接收到的實際曝光劑量為Dj,圖案單元組j對應的分解圖案j的曝光次數為Nj,所述圖案單元組的曝光次數滿足以下條件:
N1=A÷D1;
其中,A為所述目標曝光劑量,j為1~n的整數,k為2~n的整數,l為2~n的整數。
5.根據權利要求4所述的方法,其特征在于,還包括曝光次數驗證步驟,所述曝光次數驗證步驟包括:
若N2+……+Nn≤N1/2,則驗證合格;
若N2+……+Nn>N1/2,則使曝光鏡頭相對所述目標圖案進行移動,然后根據權利要求1~5中任一項所述的方法重新對所述目標圖案進行拆分得到新的分解圖案,直至驗證合格。
6.根據權利要求4所述的方法,其特征在于,所述目標劑量的相對誤差為a,分解圖案m的曝光次數滿足以下條件的至少之一:
A×(1-a)÷Dm-N1<Nm<A×(1+a)÷Dm-N1
其中,m為2~n的整數。
7.根據權利要求3所述的方法,其特征在于,還包括第一效果驗證步驟,所述第一效果驗證步驟包括:
根據多個所述分解圖案進行模擬計算,得到目標圖案的模擬實際曝光劑量分布圖;
若所述模擬實際曝光劑量分布圖的曝光不均勻度小于等于第一閾值,則驗證合格;
若所述模擬實際曝光劑量分布圖的曝光不均勻度大于所述第一閾值,則重新對所述目標圖案進行拆分,直到驗證合格。
8.根據權利要求3所述的方法,其特征在于,還包括第二效果驗證步驟,所述第二效果驗證步驟包括:
檢測根據多個所述分解圖案進行疊加曝光得到的實際曝光圖形的曝光不均勻度;
若所述實際曝光圖形的曝光不均勻度小于等于第二閾值,則驗證合格;
若所述實際曝光圖形的曝光不均勻度大于所述第二閾值,則重新對所述目標圖案進行拆分,直到驗證合格。
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