[發明專利]一種消旋漢防己甲素的全合成新方法有效
| 申請號: | 202110293100.8 | 申請日: | 2021-03-18 |
| 公開(公告)號: | CN113045578B | 公開(公告)日: | 2023-05-26 |
| 發明(設計)人: | 袁偉成;周鳴強;金慶平;陳宇;葛真真;戴艷群;金巖;王浩宇 | 申請(專利權)人: | 浙江金華康恩貝生物制藥有限公司;成都麗凱手性技術有限公司 |
| 主分類號: | C07D491/18 | 分類號: | C07D491/18 |
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| 地址: | 321000 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 消旋漢 防己 合成 新方法 | ||
1.一種消旋漢防己甲素的全合成方法,其特征在于,包括下述步驟:
(1)以5-溴香蘭素為起始原料,在堿性條件下經羥基保護后合成化合物2;
(2)?化合物2與硝基甲烷在催化劑作用下,經過Henry反應合成化合物3;
(3)?化合物3經過還原劑還原合成化合物4;
(4)?以4-羥基苯乙酸為原料,在堿性條件下與溴代試劑反應合成化合物5;
(5)?化合物5在堿性條件下經羥基保護后合成化合物6;
(6)?化合物4和化合物6在縮合劑作用下,經過酸胺縮合反應合成化合物7;
(7)?化合物7在無水惰性溶劑中,在脫水劑作用下脫水關環合成化合物8;
(8)?化合物8經過還原劑還原合成化合物9;
(9)?化合物9與甲基化試劑反應合成化合物10;
(10)?化合物10分別在酸性條件和堿性條件下脫去羥基保護基合成化合物11;
(11)?化合物11在堿性條件下與甲基化試劑反應合成化合物12;
(12)?化合物10在催化劑作用下脫去鹵素合成化合物13;
(13)?化合物13在酸性或堿性條件下脫去羥基保護基合成化合物14;
(14)?化合物12與化合物14在催化劑及配體作用下,堿性、高溫條件下經過分子間Ullmann反應合成化合物15;
(15)?化合物15在酸性或堿性條件下脫去羥基保護基合成化合物16;
(16)?化合物16在催化劑及配體作用下,堿性、高溫條件下經過分子內Ullmann反應合成目標產物消旋漢防己甲素;
上述各化合物的結構式及反應式如下:
;
上述結構式中,R1和R2均為羥基保護基,其中,R1選自叔丁基二甲基硅基、芐基、對甲氧基芐基或對甲苯磺酰基中的一種,R2選自叔丁基二甲基硅基、芐基、對甲氧基芐基或對甲苯磺酰基中的一種。
2.根據權利要求1所述的一種消旋漢防己甲素的全合成方法,其特征在于:所述步驟(1)中,堿性試劑選自氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鉀或三乙胺中的一種;羥基保護基選自叔丁基二甲基硅基、芐基、對甲氧基芐基或對甲苯磺酰基中的一種;溶劑選自甲醇、乙醇、二氯甲烷或乙腈中的一種;
所述步驟(1)中,5-溴香蘭素與羥基保護試劑的摩爾比為1:1~1:4,反應溫度為0℃至回流,反應時間為3~10小時。
3.根據權利要求2所述的一種消旋漢防己甲素的全合成方法,其特征在于:所述步驟(1)中,堿性試劑選自氫氧化鈉;羥基保護基選自芐基;溶劑選自二氯甲烷。
4.根據權利要求1所述的一種消旋漢防己甲素的全合成方法,其特征在于:所述步驟(2)中,催化劑選自氫氧化鈉、氫氧化鉀、醋酸銨或三乙胺中的一種;溶劑選自硝基甲烷、乙醇、異丙醇或醋酸中的一種;
所述步驟(2)中,化合物2與硝基甲烷的摩爾比為1:1~1:5,催化劑用量為化合物2重量的10%~50%,反應溫度為50℃至回流,反應時間為10~20小時。
5.根據權利要求4所述的一種消旋漢防己甲素的全合成方法,其特征在于:所述步驟(2)中,催化劑選自三乙胺;溶劑選自乙醇。
6.根據權利要求1所述的一種消旋漢防己甲素的全合成方法,其特征在于:所述步驟(3)中,還原劑選自鋅粉、氫化鋁鋰或硼烷中的一種;溶劑選自甲醇、乙醇、四氫呋喃或甲苯中的一種;
所述步驟(3)中,化合物3與還原劑的摩爾比為1:1~1:10,反應溫度為0℃至回流,反應時間為6~20小時。
7.根據權利要求6所述的一種消旋漢防己甲素的全合成方法,其特征在于:所述步驟(3)中,還原劑選自氫化鋁鋰;溶劑選自四氫呋喃。
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