[發(fā)明專利]涂覆有UV膠的元器件的回收方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110291561.1 | 申請(qǐng)日: | 2021-03-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113050391A | 公開(公告)日: | 2021-06-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張玉良;趙東峰;李瑩;韓興君;蔡璐;饒軼 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 歌爾股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F7/42 | 分類號(hào): | G03F7/42;B05D7/24 |
| 代理公司: | 北京鴻元知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11327 | 代理人: | 袁文婷;張娓娓 |
| 地址: | 261031 山東省濰*** | 國省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 涂覆有 uv 元器件 回收 方法 | ||
1.一種涂覆有UV膠的元器件的回收方法,包括:
利用弱堿性溶劑浸泡待回收的涂覆有UV膠的元器件;其中,在所述元器件的表面包覆有由底層包裹材料形成的納米級(jí)薄層,所述UV膠固化在所述納米級(jí)薄層外;所述弱堿性溶劑用于溶解所述底層包裹材料;
通過表層清洗去除所述UV膠,回收所述元器件。
2.一種UV膠的涂覆方法,其特征在于,包括:
將底層包裹材料涂覆到元器件表面;
將涂覆有底層包裹材料的元器件烘烤后,在紫外燈下曝光,使涂覆在所述元器件表面的底層包裹材料形成納米級(jí)薄層;
在所述納米級(jí)薄層外旋涂UV膠。
3.如權(quán)利要求1或2所述的UV膠的涂覆方法,其特征在于,
所述底層包裹材料為不飽和聚酯或丙烯酸酯類單官能度聚合物;其中,
所述不飽和聚酯為二元醇和二元酸縮合制得;且,
所述不飽和聚酯的濃度為4~10%。
4.如權(quán)利要求3所述的UV膠的涂覆方法,其特征在于,
所述二元醇為乙二醇、丙二醇以及1,4-丁二醇中的一種或者至少兩種的組合;
所述二元酸為鄰苯二甲酸、丁二酸以及丁二酸酐中的一種或者至少兩種的組合;
所述丙烯酸酯類單官能度聚合物為丙烯酸異葵酯、甲基丙烯酸羥乙酯、丙烯酸苯氧基乙酯或者甲基丙烯酸縮水甘油酯中的一種或者至少兩種的組合。
5.如權(quán)利要求2所述的UV膠的涂覆方法,其特征在于,在將底層包裹材料涂覆到元器件表面的過程中,
所述底層包裹材料在3500~4500rpm轉(zhuǎn)速下涂覆到所述元器件的表面。
6.如權(quán)利要求2所述的UV膠的涂覆方法,其特征在于,在烘烤涂覆有底層包裹材料的元器件的過程中,烘烤溫度為60-110℃,烘烤時(shí)間為1-3min。
7.一種UV膠的去除方法,用于去除利用權(quán)利要求2-6中任一項(xiàng)所述的UV膠的涂覆方法涂覆的UV膠的元器件上的UV膠,包括:
將涂覆UV膠的元器件放置在含有5-13%濃度的磷酸鈉、2-7%的油酸鈉、5-10%的碳酸鈉以及70-82%的水溶液中浸泡;
將浸泡過后的元器件放置在超聲波清洗槽中進(jìn)行超聲波清洗;
將清洗過后的元器件進(jìn)行烘烤處理。
8.如權(quán)利要求7所述的UV膠的去除方法,其特征在于,
所述浸泡的時(shí)間為5-10min。
9.如權(quán)利要求7所述的UV膠的去除方法,其特征在于,
將浸泡過后的元器件依次經(jīng)過兩個(gè)超聲波清洗槽進(jìn)行清洗,每個(gè)超聲波清洗槽的清洗時(shí)間為1-2min。
10.如權(quán)利要求7所述的UV膠的去除方法,其特征在于,
所述清洗過后的元器件的烘烤60-90℃,烘烤時(shí)間為5-15min。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于歌爾股份有限公司,未經(jīng)歌爾股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110291561.1/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷?;蝾愃朴∷⒛5闹谱鳎?,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備





