[發明專利]一種還原蒸餾反應器的液位控制裝置及控制方法

有效

• 申請號: 202110287475.3
• 申請日: 2021-03-17
• 公開（公告）號: CN113204251B
• 公開（公告）日: 2023-04-18
• 發明（設計）人: 王剛;許偉春;劉正紅;鄧超;郭磊;張琪林
• 申請（專利權）人: 洛陽雙瑞萬基鈦業有限公司
• 主分類號: G05D9/12
• 分類號: G05D9/12;C22B34/12
• 代理公司: 北京市中聯創和知識產權代理有限公司 11364
• 代理人: 李向陽;王錚

1.一種還原蒸餾反應器的液位控制裝置，還原蒸餾反應器用于海綿鈦的生產，其特征在于：包括液下裝置、氬氣管道和液位測量裝置，所述液下裝置位于還原蒸餾反應器下部，液下裝置內設有空腔，液下裝置的底面位于還原蒸餾反應器中氯化鎂排放管的進液口上方，液下裝置底面開設有多個連通空腔內外的孔道，液下裝置的側面開口并與所述氬氣管道的下端連接，氬氣管道的上端從還原蒸餾反應器頂部的大蓋穿出，并在氬氣管道上端安裝有閥門；所述液位測量裝置用于測量還原蒸餾反應器的液面高度；

所述還原蒸餾反應器的液位的控制方法包括如下步驟：

步驟一，將氬氣充入還原蒸餾反應器內的液下裝置中，使得氬氣充滿液下裝置的空腔；

步驟二，將液態鎂加入還原蒸餾反應器，并將此時的液位定義為初始液位，然后加入四氯化鈦進行反應；

步驟三，隨著還原蒸餾反應器內反應的進行，還原蒸餾反應器內液位升高，當液位達到工藝允許的液位范圍中的最高值時，打開所述氬氣管道上的閥門對液下裝置進行泄壓，在泄壓的過程中，還原蒸餾反應器底部的氯化鎂液體通過液下裝置底面的孔道進入液下裝置的空腔中；

步驟四，在氯化鎂液體充滿液下裝置的空腔之前，通過氬氣管道向液下裝置的空腔內充入氬氣，將液下裝置空腔內的氯化鎂液體強制排出，隨著氬氣的充入，氯化鎂液體進入還原蒸餾反應器底部的氯化鎂排放管的進液口，沿氯化鎂排放管流出還原蒸餾反應器，還原蒸餾反應器內的液位高度恢復到液位測量裝置的設定范圍內；

步驟五，重復步驟三和步驟四，直至還原蒸餾反應器內的反應完成。

2.根據權利要求1所述的一種還原蒸餾反應器的液位控制裝置，其特征在于：所述的液位測量裝置包括液位測量管、氬氣進氣管和壓差液位計，所述液位測量管通過所述大蓋上的孔插入還原蒸餾反應器，液位測量管露出還原蒸餾反應器的部分連接所述氬氣進氣管和壓差液位計。

3.根據權利要求1所述的一種還原蒸餾反應器的液位控制裝置，其特征在于，在步驟三的泄壓過程中，液下裝置空腔中的氯化鎂液體的液位被控制在液下裝置側面開口的下方。

4.根據權利要求1所述的一種還原蒸餾反應器的液位控制裝置，其特征在于，所述的液位測量裝置包括液位測量管、氬氣進氣管和壓差液位計，所述液位測量管穿過還原蒸餾反應器頂部大蓋插入還原蒸餾反應器，液位測量管露出還原蒸餾反應器的部分連接所述氬氣進氣管和壓差液位計。

5.根據權利要求4所述的一種還原蒸餾反應器的液位控制裝置，其特征在于，所述液位測量管插入液面10～15cm。

6.根據權利要求4所述的一種還原蒸餾反應器的液位控制裝置，其特征在于，還原蒸餾反應器內的反應在進行過程中，通過氬氣進氣管向液位測量管內通入正壓氬氣。