[發明專利]顯示面板的制作方法和顯示面板

有效

• 申請號: 202110287203.3
• 申請日: 2021-03-17
• 公開（公告）號: CN113054149B
• 公開（公告）日: 2022-08-09
• 發明（設計）人: 金玉;李磊;陸蘊雷;王恩來;黃麗麗;馬明冬
• 申請（專利權）人: 昆山國顯光電有限公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;H01L51/52;H01L27/32
• 代理公司: 北京遠智匯知識產權代理有限公司 11659
• 代理人: 范坤坤

1.一種顯示面板的制作方法，所述顯示面板具有透光區、圍繞所述透光區的顯示區，其特征在于，包括：

提供襯底，在所述襯底上形成驅動電路層并圖案化，并在所述透光區位置露出部分所述襯底；

在所述驅動電路層上形成平坦化層；

對所述平坦化層進行圖案化，以形成陽極過孔，并在所述透光區位置減薄處理或全部保留所述平坦化層；

在所述平坦化層上形成陽極；

在形成陽極后，去除位于所述透光區的平坦化層。

2.根據權利要求1所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，對所述平坦化層進行圖案化包括：

采用半色調掩膜版刻蝕所述平坦化層，以在形成陽極過孔的同時減薄位于所述透光區的平坦化層。

3.根據權利要求2所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，所述半色調掩膜版包括全透區、不透區和半透區；

所述全透區對應所述陽極過孔，所述半透區對應所述透光區，所述不透區對應所述陽極過孔和所述透光區以外的區域。

4.根據權利要求3所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，所述半色調掩膜版包括襯底和位于所述襯底上的透光調整材料；

所述襯底的材料包括氧化硅，所述半透區的透光調整材料包括氧化鉻，所述不透區的透光調整材料包括鉻。

5.根據權利要求3所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，通過調整所述半透區的光透過率來調整減薄的所述透光區的平坦化層的厚度。

6.根據權利要求1所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，減薄位于所述透光區的平坦化層后剩余的所述平坦化層的厚度范圍為0.1μm~0.2μm。

7.根據權利要求1所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，在所述平坦化層上形成陽極之后，還包括：

在所述陽極上依次形成像素定義層、支撐柱、發光層和陰極；其中，所述陰極覆蓋所述發光層和所述支撐柱；

在形成所述陰極之后，去除位于所述透光區的平坦化層。

8.根據權利要求1所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，去除位于所述透光區的平坦化層的工藝包括：干灰化工藝。

9.根據權利要求8所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，所述干灰化工藝采用的氣體包括六氟化硫和氧氣。

10.根據權利要求1所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，在所述驅動電路層和所述透光區形成所述平坦化層的工藝包括：涂布工藝。

11.一種顯示面板，其特征在于，所述顯示面板由權利要求1-10任一項所述的顯示面板的制作方法制作而成。