[發明專利]等離子體射流裝置及等離子體切割系統

在審

• 申請號: 202110286312.3
• 申請日: 2021-03-17
• 公開（公告）號: CN113068295A
• 公開（公告）日: 2021-07-02
• 發明（設計）人: 李海龍;吳丹陽;王彬;殷勇;蒙林;師嘉豪
• 申請（專利權）人: 電子科技大學
• 主分類號: H05H1/24
• 分類號: H05H1/24;B23K10/00
• 代理公司: 成都正華專利代理事務所(普通合伙) 51229
• 代理人: 李蕊

本發明公開了一種等離子體射流裝置及等離子體切割系統，所述等離子體射流裝置包括殼體、與所述殼體可拆卸連接的底座，所述底座上設置有注氣孔以及多個陰極柱插入孔，所述等離子體射流裝置還包括多個陰極柱以及與多個所述陰極柱一一對應的多個子裝置，多個所述子裝置裝設于所述殼體中，多個所述陰極柱通過多個所述陰極柱插入孔插入所述子裝置中。本發明所提供地等離子體射流裝置，一方面，能夠產生足夠的射流以滿足切割需求；另一方面，能夠減少單一射流裝置的工作壓力，均和能量輸出，提高切割效率。

技術領域

本發明涉及電子發生裝置技術領域，具體涉及一種等離子體射流裝置及等離子體切割系統。

背景技術

等離子體(plasma)又叫做電漿，是由部分電子被剝奪后的原子及原子團被電離后產生的正負離子組成的離子化氣體狀物質，尺度大于德拜長度(也叫德拜半徑，是描述等離子體中電荷的作用尺度的典型長度)的宏觀電中性電離氣體，其運動主要受電磁力支配，并表現出顯著的集體行為。

基于等離子體所具有的體積小、能量密度高、能量轉化快速、電弧激發平穩等優點，在很多行業，例如航空航天、環保、能源、物質材料、生物醫學等，對于等離子體的應用都較為廣泛。然而，單一的等離子體發生裝置所產生的射流或可導致能量無法達到要求，以及可控性較低的問題。

發明內容

本發明的目的在于提供一種等離子體射流裝置及等離子體切割系統，以解決現有的單一的等離子體發生裝置所產生的激流可控性較低的問題。

本發明解決上述技術問題的技術方案如下：

本發明提供一種等離子體射流裝置，所述等離子體射流裝置包括殼體、與所述殼體可拆卸連接的底座，所述底座上設置有注氣孔以及多個陰極柱插入孔，所述等離子體射流裝置還包括多個陰極柱以及與多個所述陰極柱一一對應的多個子裝置，多個所述子裝置裝設于所述殼體中，多個所述陰極柱通過多個所述陰極柱插入孔插入所述子裝置中。

可選地，多個所述子裝置間隔設置。

可選地，所述殼體內開設有多個安裝腔，多個所述安裝腔與多個所述子裝置一一對應，以用于容納所述子裝置。

可選地，所述殼體上開設有多個螺紋孔，所述殼體與所述子裝置通過螺栓固定。

可選地，所述殼體遠離所述底座的一端設置有陽極以及連接所述陽極的等離子體輸出腔，沿所述等離子體輸出方向，所述等離子體輸出腔逐漸變窄。

可選地，所述底座與所述殼體可拆卸連接。

可選地，所述子裝置包括第一電極，所述陰極柱設置于所述所述第一電極的中心位置，從而使得所述子裝置具有環形的放電腔。

可選地，所述子裝置還包括隔熱層，所述隔熱層的外壁與所述第一電極的內壁貼合。

可選地，所述子裝置還包括放電通道，所述放電通道連接所述放電腔，沿所述放電通道的長度方向，所述子裝置還設置有中間電極。

基于上述技術方案，本發明還提供一種等離子體切割系統，還包括總控面板，所述總控面板連接有注氣控制單元、電壓調節單元以及探針測控單元，所述注氣控制單元連接并控制注氣瓶，所述注氣瓶通過導氣管連接所述注氣孔，所述電壓調節單元連接所述陰極柱和多個螺栓，所述探針測控單元連接探針，以用于獲取等離子體輸出信號。

本發明具有以下有益效果：

通過上述技術方案，即通過本發明實施例所提供的等離子體射流裝置，多個子裝置的存在，一方面，能夠產生足夠的射流以滿足切割需求；另一方面，能夠減少單一射流裝置的工作壓力，均和能量輸出，提高切割效率。

附圖說明

圖1為本發明實施例所提供的等離子體切割系統結構示意圖；

圖2為本發明實施例所提供的等離子體射流裝置的立體圖；