[發明專利]等離子體射流裝置及等離子體切割系統

在審

• 申請號: 202110286312.3
• 申請日: 2021-03-17
• 公開（公告）號: CN113068295A
• 公開（公告）日: 2021-07-02
• 發明（設計）人: 李海龍;吳丹陽;王彬;殷勇;蒙林;師嘉豪
• 申請（專利權）人: 電子科技大學
• 主分類號: H05H1/24
• 分類號: H05H1/24;B23K10/00
• 代理公司: 成都正華專利代理事務所(普通合伙) 51229
• 代理人: 李蕊

1.一種等離子體射流裝置，其特征在于，所述等離子體射流裝置包括殼體(12)以及與所述殼體(12)可拆卸連接的底座(13)，所述底座(13)上設置有注氣孔(16)以及多個陰極柱插入孔，所述等離子體射流裝置還包括多個陰極柱(11)以及與多個所述陰極柱(11)一一對應的多個子裝置(4)，多個所述子裝置(4)裝設于所述殼體(12)中，多個所述陰極柱(11)通過多個所述陰極柱插入孔插入對應所述子裝置(4)中。

2.根據權利要求1所述的等離子體射流裝置，其特征在于，多個所述子裝置(4)間隔設置。

3.根據權利要求2所述的等離子體射流裝置，其特征在于，所述殼體(12)內開設有多個安裝腔，多個所述安裝腔與多個所述子裝置(4)一一對應，以用于容納所述子裝置(4)。

4.根據權利要求1所述的等離子體射流裝置，其特征在于，所述殼體(12)上開設有多個螺紋孔，所述殼體(12)與所述子裝置(4)通過多個螺栓(14)固定，多個所述螺栓(14)與多個所述螺紋孔一一對應。

5.根據權利要求1所述的等離子體射流裝置，其特征在于，所述殼體(12)遠離所述底座(13)的一端設置有陽極(46)以及連接所述陽極(46)的等離子體輸出腔(15)，沿等離子體(3)輸出方向，所述等離子體輸出腔(15)逐漸變窄。

6.根據權利要求1所述的等離子體射流裝置，其特征在于，所述底座(13)與所述殼體(12)可拆卸連接。

7.根據權利要求1-6中任意一項所述的等離子體射流裝置，其特征在于，所述子裝置(4)包括第一電極(41)，所述陰極柱(11)設置于所述第一電極(41)的中心位置，用于在所述子裝置(4)內形成環形的放電腔(47)。

8.根據權利要求7所述的等離子體射流裝置，其特征在于，所述子裝置(4)還包括隔熱層(42)，所述隔熱層(42)的外壁與所述第一電極(41)的內壁貼合。

9.根據權利要求7所述的等離子體射流裝置，其特征在于，所述子裝置(4)還包括放電通道(48)，所述放電通道(48)連接所述放電腔(47)，沿所述放電通道(48)的長度方向，所述子裝置(4)還設置有中間電極。

10.一種等離子體切割系統，其特征在于，所述等離子體切割系統包括根據權利要求1-9中任意一項所述的等離子體射流裝置，還包括總控面板(2)，所述總控面板(2)連接有注氣控制單元(21)、電壓調節單元(22)以及探針測控單元(23)，所述注氣控制單元(21)連接并控制注氣瓶(211)，所述注氣瓶(211)通過導氣管連接所述注氣孔(16)，所述電壓調節單元連接所述陰極柱(11)和多個螺栓(14)，所述探針測控單元(23)連接探針(231)，以用于獲取等離子體輸出信號。