[發(fā)明專利]顯示面板殘影風(fēng)險評估方法及顯示面板在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110284315.3 | 申請日: | 2021-03-17 |
| 公開(公告)號: | CN113075806A | 公開(公告)日: | 2021-07-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 羅國仁 | 申請(專利權(quán))人: | TCL華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/13 | 分類號: | G02F1/13 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570 | 代理人: | 張曉薇 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 面板 風(fēng)險 評估 方法 | ||
本申請?zhí)峁┮环N顯示面板殘影風(fēng)險評估方法及顯示面板,該顯示面板殘影風(fēng)險評估方法通過測量顯示面板中液晶的介電系數(shù),確定介電系數(shù)是否小于或等于介電閾值,在介電系數(shù)小于或等于介電閾值時,判定該顯示面板存在殘影風(fēng)險,從而對顯示面板的殘影風(fēng)險進行有效預(yù)測,為改善產(chǎn)品良率提供指導(dǎo);本申請通過將顯示面板中液晶的介電系數(shù)控制為大于介電閾值,大大降低了顯示面板出現(xiàn)殘影缺陷的風(fēng)險,提高了產(chǎn)品品質(zhì)和良率。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種顯示面板殘影風(fēng)險評估方法及顯示面板。
背景技術(shù)
液晶顯示是當(dāng)前的主流顯示技術(shù),隨著市場需求的變化,液晶顯示裝置正朝著大尺寸、高分辨率的方向發(fā)展。但是,隨著液晶顯示裝置尺寸的不斷增大以及分辨率的不斷提高,諸多問題也在逐漸顯現(xiàn),其中較為嚴重的就是顯示殘影問題,尤其是線狀殘影。目前,線狀殘影的產(chǎn)生原因尚不得知,因此,在產(chǎn)品檢驗時無法對該問題進行有效預(yù)測,往往會造成一部分存在殘影風(fēng)險的產(chǎn)品流向客戶,嚴重影響用戶體驗及產(chǎn)品形象。
因此,當(dāng)前在生產(chǎn)顯示面板時,無法對顯示面板的殘影風(fēng)險進行有效預(yù)測,生產(chǎn)出的顯示面板出現(xiàn)殘影問題會嚴重影響顯示品質(zhì)和產(chǎn)品良率。
發(fā)明內(nèi)容
本申請?zhí)峁┮环N顯示面板殘影風(fēng)險評估方法及顯示面板,用于解決當(dāng)前無法預(yù)測顯示面板的殘影風(fēng)險的技術(shù)問題。
本申請?zhí)峁┮环N顯示面板殘影風(fēng)險評估方法,其包括:
提供一顯示面板,所述顯示面板包括液晶;
檢測所述液晶的介電系數(shù);
在所述液晶的介電系數(shù)小于或等于介電閾值時,判定所述顯示面板存在殘影風(fēng)險。
在本申請的顯示面板殘影風(fēng)險評估方法中,所述在所述液晶的介電系數(shù)小于或等于介電閾值時,判定所述顯示面板存在殘影風(fēng)險的步驟,包括:
當(dāng)所述液晶的介電系數(shù)小于或等于負3時;
判定所述顯示面板存在殘影風(fēng)險。
在本申請的顯示面板殘影風(fēng)險評估方法中,所述在所述液晶的介電系數(shù)小于或等于介電閾值時,判定所述顯示面板存在殘影風(fēng)險的步驟,還包括:
當(dāng)所述液晶的介電系數(shù)大于負3時;
判定所述顯示面板無殘影風(fēng)險。
在本申請的顯示面板殘影風(fēng)險評估方法中,所述在所述液晶的介電系數(shù)小于或等于介電閾值時,判定所述顯示面板存在殘影風(fēng)險的步驟,還包括:
當(dāng)所述液晶的介電系數(shù)小于或等于介電閾值時;
判定所述液晶中存在具有下列通式的至少其中之一的高極性分子,所述通式包括:
其中,n為大于或等于1的整數(shù);
判定所述顯示面板存在殘影風(fēng)險。
在本申請的顯示面板殘影風(fēng)險評估方法中,所述顯示面板還包括第一基板和第二基板,所述液晶位于所述第一基板和所述第二基板之間;
所述檢測所述液晶的介電系數(shù)的步驟,包括:
檢測所述顯示面板未設(shè)置所述液晶時,所述第一基板與所述第二基板之間的空盒電容;
檢測所述液晶在未偏轉(zhuǎn)狀態(tài)時,所述第一基板與所述第二基板之間的第一介質(zhì)電容;
檢測所述液晶在偏轉(zhuǎn)狀態(tài)時,所述第一基板與所述第二基板之間的第二介質(zhì)電容;
根據(jù)所述第一介質(zhì)電容與所述空盒電容的比值,確定第一介電參量;
根據(jù)所述第二介質(zhì)電容與所述空盒電容的比值,確定第二介電參量;
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
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