[發明專利]一種用于回旋加速器抗干擾電流靶

有效

• 申請號: 202110276487.6
• 申請日: 2021-03-15
• 公開（公告）號: CN113050150B
• 公開（公告）日: 2022-08-09
• 發明（設計）人: 丁開忠;姚凱;宋云濤;吳昱城;陳永華;胡越;錢浩;陳馨宇
• 申請（專利權）人: 合肥中科離子醫學技術裝備有限公司
• 主分類號: G01T1/29
• 分類號: G01T1/29;H05H13/00
• 代理公司: 合肥正則元起專利代理事務所(普通合伙) 34160
• 代理人: 劉念

本發明公開了一種用于回旋加速器抗干擾電流靶，包括銅片靶、內部聚酰亞胺絕緣層、銅屏蔽層、外部聚酰亞胺絕緣層、屏蔽網、陶瓷套管層和屏蔽雙絞線，所述銅片靶為長條形，且銅片靶整體加工而成，所述銅片靶由內部聚酰亞胺絕緣層和外部聚酰亞胺絕緣層整體包裹，所述內部聚酰亞胺絕緣層和外部聚酰亞胺絕緣層之間設置有銅屏蔽層，該抗干擾電流靶能夠測量加速器中心區束流流強和位置信息，可以在加速器中心區上下氣隙僅為±5mm的緊湊型空間測量束流流強和位置信息，也可以靠近RF電場的位置測量束流，具有抗RF電場干擾的優勢。

技術領域

本發明屬于加速器束流測量應用技術領域，具體是一種用于回旋加速器抗干擾電流靶。

背景技術

束流測量探針是加速器的“眼睛”。回旋加速器是利用磁場和電場共同使帶電粒子作回旋運動，在運動中經高頻電場反復加速的裝置。現在越來越多的醫用質子加速器和重離子加速器設備被制造出來。為了完成加速器的調試、維護、檢修，有一雙明亮的“眼睛”是非常重要的，尤其在中心區小半徑時，上、下氣隙小僅僅為幾個毫米的間隙：而且小半徑更靠近RF電場，這是高頻電場干擾是非常大的，常規屏蔽手段無法直接測量。而在加速器研發階段，中心區束流測量又至關重要。所以有一套可靠的電流靶是非常有必要的。

發明內容

本發明的目的在于提供一種用于回旋加速器抗干擾電流靶，該抗干擾電流靶可以測量加速器中心區束流流強和位置信息，也可以在加速器中心區上下氣隙小的緊湊型空間安裝使用，同時也可以靠近RF電場安裝使用，具有抗RF電場屏蔽的特點，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現上述目的，本發明提供如下技術方案：

一種用于回旋加速器抗干擾電流靶，包括銅片靶、內部聚酰亞胺絕緣層、銅屏蔽層、外部聚酰亞胺絕緣層、屏蔽網、陶瓷套管層和屏蔽雙絞線，所述銅片靶為長條形，且銅片靶整體加工而成，所述銅片靶由內部聚酰亞胺絕緣層和外部聚酰亞胺絕緣層整體包裹，所述內部聚酰亞胺絕緣層和外部聚酰亞胺絕緣層之間設置有銅屏蔽層；

所述銅片靶的后端開設有一個U型缺口，所述屏蔽雙絞線的一端焊接在銅片靶后端的U型缺口上，所述屏蔽雙絞線設置在陶瓷套管層的內部，所述屏蔽雙絞線和陶瓷套管層設置在屏蔽網的內部。

作為本發明再進一步的方案：所述銅片靶的高度是根據中心區氣隙設定。

作為本發明再進一步的方案：抗干擾電流靶到上、下兩塊假Dee距離為1mm。

作為本發明再進一步的方案：所述銅片靶的長度是根據中心區半徑設定，所述銅片靶前端位于最小測量半徑時，銅片靶后端的U型缺口與屏蔽雙絞線接頭應位于中心區半徑外。

作為本發明再進一步的方案：所述銅屏蔽層由上下兩片折彎呈U型銅屏蔽片交叉合成，且兩片U型銅屏蔽片通過釬焊焊接連接。

作為本發明再進一步的方案：所述銅屏蔽層是由厚度為0.1mm-0.15mm厚的銅片折彎制成。

作為本發明再進一步的方案：所述屏蔽網的一端接地，所述屏蔽網的另一端與抗干擾電流靶的銅屏蔽層焊接。

作為本發明再進一步的方案：所述外部聚酰亞胺絕緣層將銅屏蔽層外部整體包裹。

作為本發明再進一步的方案：所述外部聚酰亞胺絕緣層、銅屏蔽層、內部聚酰亞胺絕緣層的前端均切掉方形塊結構露出銅片靶，使銅片靶露出的方形窗口用于接受束流轟擊。

作為本發明再進一步的方案：所述陶瓷套管層是由若干個陶瓷套管串聯制成。