[發明專利]基片處理裝置和基片處理方法在審
| 申請號: | 202110274735.3 | 申請日: | 2021-03-15 |
| 公開(公告)號: | CN113433797A | 公開(公告)日: | 2021-09-24 |
| 發明(設計)人: | 牧準之輔;寺本聰寬 | 申請(專利權)人: | 東京毅力科創株式會社 |
| 主分類號: | G03F7/16 | 分類號: | G03F7/16;G03F7/20;B65G23/04;B65G43/02 |
| 代理公司: | 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322 | 代理人: | 龍淳;劉芃茜 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 處理 裝置 方法 | ||
本發明提供能夠維持生產率并且檢查傳送帶的狀態的基片處理裝置和基片處理方法。基片處理裝置包括:對基片實施規定處理的處理單元;輸送單元,其具有保持基片的保持部及包括傳送帶并且通過使該傳送帶移動來使保持部在第1方向上移位的驅動部;能夠獲取與因保持部的移位而產生的傳送帶的振動相應的振動信號的測量單元;和控制單元。控制單元包括:實施工藝處理的處理控制部,工藝處理包括用處理單元對包含基片的多個基片依次實施規定處理的第1處理及用輸送單元進行對處理單元的多個基片各自的送入送出的第2處理;從測量單元獲取振動信號的信號獲取部;和基于振動信號來判斷傳送帶的狀態的狀態判斷部。信號獲取部在執行工藝處理時獲取振動信號。
技術領域
本發明涉及基片處理裝置和基片處理方法。
背景技術
專利文獻1中公開了一種帶狀板的張力測定方法,其包括:測定通過帶狀板的振動而產生的空氣的壓力變動的第1工序;提取帶狀板的固有頻率的第2工序;和基于所提取的固有頻率求取帶狀板的張力的第3工序。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開2005-337846號公報
發明內容
發明要解決的技術問題
在對基片進行規定的處理的基片處理裝置中,存在利用具有傳送帶的輸送單元進行基片的輸送的情況。本發明提供能夠維持生產率并且檢查傳送帶的狀態的基片處理裝置和基片處理方法。
用于解決技術問題的技術方案
本發明的一個方面的基片處理裝置包括:對基片實施規定的處理的處理單元;輸送單元,其具有保持基片的保持部、和包括傳送帶并且通過使該傳送帶移動來使保持部在第1方向上移位的驅動部;測量單元,其以靠近傳送帶的狀態設置,能夠獲取與因保持部的移位而產生的傳送帶的振動相應的振動信號;以及控制處理單元、輸送單元和測量單元的控制單元。控制單元包括:執行工藝處理的處理控制部,該工藝處理包括通過處理單元對包含基片在內的多個基片依次實施規定的處理的第1處理、和通過輸送單元進行對處理單元的多個基片的每個基片的送入送出的第2處理;從測量單元獲取振動信號的信號獲取部;以及基于振動信號來判斷傳送帶的狀態的狀態判斷部。信號獲取部在工藝處理的執行期間中獲取振動信號。
發明效果
依照本發明,能夠提供能夠維持生產率并且檢查傳送帶的狀態的基片處理裝置和基片處理方法。
附圖說明
圖1是示意性地表示基片處理系統的一例的立體圖。
圖2是表示涂敷顯影裝置的一例的示意圖。
圖3是示意性地表示輸送單元的一例的平面圖。
圖4是示意性地表示輸送單元的一例的側面圖。
圖5的(a)是表示水平驅動部的內部的一例的示意圖。圖5的(b)是表示測量單元的一例的示意圖。
圖6的(a)是表示升降驅動部的內部的一例的示意圖。圖6的(b)是表示水平驅動部的內部的一例的示意圖。
圖7是表示控制裝置的功能構成的一例的框圖。
圖8是表示控制裝置的硬件構成的一例的框圖。
圖9是表示基片處理方法的一例的流程圖。
圖10是表示輸送動作和傳送帶檢查的處理時序的一例的圖。
圖11是表示傳送帶檢查方法的一例的流程圖。
圖12的(a)是表示與傳送帶的振動相應的振動信號的一例的圖表。圖12的(b)是表示振動信號的頻譜分析結果的一例的圖表。
附圖標記說明
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