[發明專利]干刻蝕基材形成蒙砂的方法、蒙砂基材和應用

有效

• 申請號: 202110274308.5
• 申請日: 2021-03-15
• 公開（公告）號: CN113060939B
• 公開（公告）日: 2023-06-27
• 發明（設計）人: 唐文江;黃文;吳承晚
• 申請（專利權）人: 藍思科技股份有限公司
• 主分類號: C03C15/00
• 分類號: C03C15/00;C03C17/00;C09K13/00
• 代理公司: 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙) 11371
• 代理人: 聞盼盼

本發明提供了一種干刻蝕基材形成蒙砂的方法、蒙砂基材和應用，涉及表面加工技術領域，包括：將改性紫外固化壓印材料均勻涂布在清潔后的基材上，形成紫外固化壓印材料層；將具有浮雕圖形結構的壓印模板對紫外固化壓印材料層進行壓印，并進行UV固化，使壓印模板上的浮雕圖形轉印到紫外固化壓印材料層上；采用干刻蝕工藝對紫外固化壓印材料層和基材進行刻蝕，使微圖形轉移到基材上。本發明采用紫外固化層代替沉積硬掩模膜層及軟模膜層，通過改進紫外固化壓印材料和工藝條件，一次壓印固化和一次反應離子刻蝕就可實現對不同材料的產品進行蒙砂處理，節省材料，減少工藝步驟，節約成本。

技術領域

本發明涉及表面加工技術領域，尤其是涉及一種干刻蝕基材形成蒙砂的方法、蒙砂基材和應用。

背景技術

對基材特別是玻璃基材進行蒙砂可以提升基材的質感，或實現不同的光學效果以滿足不同使用場景，以提高產品的附加值。但目前的蒙砂工藝較為繁瑣，工藝不穩定，且蒙砂效果不佳。

例如，專利號CN108751730A公開了一種采用在玻璃表面沉積二氧化硅層作為硬掩模膜，然后將紫外固化聚合物材料涂布在硬掩模膜上，然后將具有凹陷的軟模以壓印方式壓印在紫外固化聚合物層上，然后進行UV固化制作固化層，然后將軟膜進行脫模，然后以反應離子刻蝕對紫外固化層進行刻蝕，然后以固化層的模型為掩膜，以感應耦合等離子體刻蝕工藝將固化層上的模型轉移到硬掩模膜上，然后以硬掩膜上的模型為掩膜，以感應耦合等離子體刻蝕工藝繼續刻蝕，直至在玻璃模板上形成蒙砂效果。該技術方案需要沉積二氧化硅作為硬掩模膜，涂布紫外固化聚合物材料做為軟模膜層，然后分別采用三次干刻蝕工藝對固化層、硬掩模膜層和玻璃模板進行刻蝕，工藝步驟繁瑣，成本高，且沉積二氧化硅工藝限制了該發明基本只能對玻璃基材進行表面加工，因為二氧化硅在非玻璃基材上的粘附性差。

有鑒于此，特提出本發明。

發明內容

本發明的目的之一在于提供一種干刻蝕基材形成蒙砂的方法，工藝簡單，應用領域更廣泛，通過一次紫外固化壓印工藝和一次刻蝕工藝可完成對多種材料蒙砂制備。

本發明的目的之二在于提供一種蒙砂基材，該微結構蒙砂基材易加工，批量生產成本低，可靠性好，具有很高的實用價值。

本發明的目的之三在于提供一種上述干刻蝕基材形成蒙砂的方法或上述蒙砂基材在制備電子產品中的應用。

為了實現本發明的上述目的，特采用以下技術方案：

第一方面，本發明提供了一種干刻蝕基材形成蒙砂的方法，包括以下步驟：

(a)將改性紫外固化壓印材料均勻涂布在清潔后的基材上，形成紫外固化壓印材料層；

(b)將具有浮雕圖形結構的壓印模板對紫外固化壓印材料層進行壓印，并進行UV固化，使壓印模板上的浮雕圖形轉印到紫外固化壓印材料層上，然后脫模；

(c)采用干刻蝕工藝對紫外固化壓印材料層和基材進行刻蝕，使微圖形轉移到基材上，形成蒙砂基材；

其中，所述改性紫外固化壓印材料通過以下方法制備得到：將納米硅化合物加入到偶聯劑溶液中分散均勻，然后再與紫外固化壓印材料充分混合，得到改性紫外固化壓印材料；納米硅化合物占改性紫外固化壓印材料的體積分數為4-5％；

刻蝕反應氣體的流量范圍如下：CF₄流量100-120sccm，CHF₃流量70-80sccm，O₂流量8-12sccm；基材和紫外固化壓印材料層的刻蝕選擇比為0.9-1.1。

進一步的，涂布為噴涂、條縫涂布或旋涂中的一種；

優選地，紫外固化壓印材料層的厚度為500nm-5μm。

進一步的，所述基材包括玻璃、石英、柔性聚酰亞胺材料中的一種。