[發(fā)明專利]一種光刻機(jī)的晶圓平臺(tái)潔凈度的表征方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110273756.3
• 申請(qǐng)日: 2021-03-15
• 公開（公告）號(hào): CN113128023A
• 公開（公告）日: 2021-07-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 韓洋;黃俊;徐曉敏
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號(hào): G06F30/20
• 分類號(hào): G06F30/20;G03F7/20
• 代理公司: 上海浦一知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31211
• 代理人: 戴廣志

本發(fā)明公開了一種光刻機(jī)的晶圓平臺(tái)潔凈度的表征方法，包括制作原始數(shù)據(jù)；獲得原始數(shù)據(jù)；運(yùn)用建模軟件建立晶圓平臺(tái)的平坦度模型；平坦度模型中任選一特定位置，該特定位置對(duì)應(yīng)的數(shù)據(jù)顯示于平坦度模型中。本發(fā)明通過(guò)建模軟件基于光刻機(jī)掃描系統(tǒng)生產(chǎn)的晶圓平臺(tái)的平坦度數(shù)據(jù)建立平坦度模型，當(dāng)已知平坦度標(biāo)準(zhǔn)時(shí)，既可以直接從模型中獲得超出平坦度標(biāo)準(zhǔn)的超標(biāo)值，還可以直接獲得超標(biāo)處的坐標(biāo)值；當(dāng)已知特定關(guān)注點(diǎn)的坐標(biāo)時(shí)，還可以直接獲得該特定位置坐標(biāo)處的高度值。因此，實(shí)現(xiàn)了對(duì)晶圓平臺(tái)平坦度的量化管理，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)了對(duì)晶圓平臺(tái)潔凈度的量化管理。另外，將數(shù)據(jù)的處理過(guò)程錄制為宏，節(jié)省了數(shù)據(jù)處理時(shí)間，提高了數(shù)據(jù)處理效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及潔凈度表征，特別涉及一種光刻機(jī)的晶圓平臺(tái)潔凈度的表征方法。

背景技術(shù)

光刻機(jī)的潔凈度對(duì)保證產(chǎn)品的質(zhì)量起到了重要的作用，尤其是與晶圓接觸的晶圓平臺(tái)的潔凈度。為了保證晶圓平臺(tái)的潔凈度，除正常的清潔流程外，對(duì)晶圓平臺(tái)的監(jiān)控也是重要的環(huán)節(jié)。對(duì)監(jiān)控到的晶圓平臺(tái)上污染較重的區(qū)域，可以有針對(duì)性的清潔，以防止晶圓被連續(xù)污染。

對(duì)潔凈度的衡量是基于晶圓平臺(tái)的平坦度數(shù)據(jù)進(jìn)行評(píng)判。主要是因?yàn)榛谛袠I(yè)的特殊需求，對(duì)光刻機(jī)的晶圓平臺(tái)的平坦度有較為嚴(yán)格的標(biāo)準(zhǔn)，其平坦度被限定于一定的高度范圍內(nèi)，一般為納米級(jí)，光刻機(jī)裝機(jī)完成后且投入生產(chǎn)之前，會(huì)對(duì)晶圓平臺(tái)的平坦度進(jìn)行嚴(yán)格的測(cè)試并保證其符合要求。使用光刻機(jī)的過(guò)程中，也會(huì)對(duì)其晶圓平臺(tái)進(jìn)行測(cè)試，并得到晶圓平臺(tái)的平坦度數(shù)據(jù)，而當(dāng)晶圓平臺(tái)上存在污染物時(shí)，所測(cè)得的污染物區(qū)域的平坦度數(shù)據(jù)會(huì)超出標(biāo)準(zhǔn)值。基于此，當(dāng)所測(cè)得的晶圓平臺(tái)的平坦度數(shù)據(jù)中，有超出標(biāo)準(zhǔn)值范圍的，可以推定為存在污染物。

目前，行業(yè)內(nèi)對(duì)晶圓平臺(tái)的潔凈度判定依賴于光刻機(jī)自帶的掃描成像系統(tǒng)，該系統(tǒng)對(duì)晶圓平臺(tái)的表面進(jìn)行掃描并將測(cè)得的高度值與對(duì)應(yīng)位置關(guān)系生成與晶圓平臺(tái)形狀相同的二維圖像。在二維圖像中，高度值不同，二維圖像中的顏色不同，如圖1所示，操作者根據(jù)顏色判斷晶圓平臺(tái)的潔凈度。但該方法目前存在的缺陷是無(wú)法定量獲得特定位置處高度值的數(shù)據(jù)，只能根據(jù)顏色得出高度值范圍，也無(wú)法獲得高度值對(duì)應(yīng)的具體位置信息，因此，無(wú)法滿足越來(lái)越精細(xì)化的管理需求。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種光刻機(jī)的晶圓平臺(tái)潔凈度的表征方法，既可以定量獲取特定位置的高度值，也能獲得高度值對(duì)應(yīng)的具體位置信息，還可以根據(jù)給定的位置信息，得到對(duì)應(yīng)的高度值。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供的表征方法，包括如下步驟：

步驟A：制作原始數(shù)據(jù)：

定義所述晶圓平臺(tái)的平坦度作為表征所述晶圓平臺(tái)的潔凈度的依據(jù)；

利用所述光刻機(jī)自帶的掃描系統(tǒng)對(duì)所述晶圓平臺(tái)進(jìn)行掃描，并生成格式文件；

所述格式文件記載有所述晶圓平臺(tái)的平坦度數(shù)據(jù)作為原始數(shù)據(jù)；

所述平坦度數(shù)據(jù)包括坐標(biāo)數(shù)據(jù)、晶圓平臺(tái)的高度值，每一所述高度值對(duì)應(yīng)特定的所述坐標(biāo)數(shù)據(jù)；

步驟B：獲得所述原始數(shù)據(jù)；

在所述光刻機(jī)的數(shù)據(jù)文件中找到記載有所述平坦度數(shù)據(jù)的所述格式文件，并將所述格式文件導(dǎo)出；

步驟C：運(yùn)用建模軟件建立所述晶圓平臺(tái)的平坦度模型：

將所述格式文件導(dǎo)入所述建模軟件，所述建模軟件基于所述平坦度數(shù)據(jù)建立所述平坦度模型；

步驟D：在所述平坦度模型中任選一特定位置，所述特定位置所對(duì)應(yīng)的所述平坦度數(shù)據(jù)顯示于所述平坦度模型中。

較佳地，步驟A中所述掃描系統(tǒng)對(duì)所述晶圓平臺(tái)的掃描頻率執(zhí)行每次搭載晶圓前掃描一次并生產(chǎn)一份所述格式文件。

較佳地，步驟A中的所述格式文件為TXT文件。

較佳地，步驟C中的建模軟件為Excel軟件；