[發明專利]非分散紅外光線帶補償氣室方式的交叉干擾處理裝置在審
| 申請號: | 202110271234.X | 申請日: | 2021-03-12 |
| 公開(公告)號: | CN113049518A | 公開(公告)日: | 2021-06-29 |
| 發明(設計)人: | 張俊龍;吳雪威;蔡名鋒;何剛;涂紅濤 | 申請(專利權)人: | 武漢敢為科技有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/3504 | 分類號: | G01N21/3504 |
| 代理公司: | 上海精晟知識產權代理有限公司 31253 | 代理人: | 王占房 |
| 地址: | 430000 湖北省武漢市東湖新技術開*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 分散 紅外光 線帶 補償 方式 交叉 干擾 處理 裝置 | ||
本發明提供一種非分散紅外光線帶補償氣室方式的交叉干擾處理裝置,包括紅外光源發射器、密閉的氣室、氣體吸收池以及探測器組件;所述氣室連接于所述紅外光源發射器與氣體吸收池之間,所述氣體吸收池上設置有進氣口和出氣口,所述探測器組件裝設于所述氣體吸收池上,所述氣室內收容有干擾氣體;所述紅外光源發射器用于向所述氣室內部發射紅外光線并能夠照射至所述氣體吸收池內,所述探測器組件用于接收經所述氣體吸收池照射過來的紅外光線。
【技術領域】
本發明涉及紅外線處理技術領域,尤其涉及一種非分散紅外光線帶補償氣室方式的交叉干擾處理裝置。
【背景技術】
在石油勘探過程中,經常需要對鉆井現場的有害氣體和易燃易爆氣體進行監測,防止危險和意外發生。當前比較常見的氣體檢測方法主要包括:氣敏傳感器法、紅外吸收光譜法、色譜法、光聲光譜法等。每種方法均存在不同問題:氣敏傳感器法檢測的精度較低,且對混合氣體產生交叉干擾;現有的消除交叉干擾的方式一種是需要定制某種特定的波長的濾光片,其半寬非常窄,而這種濾光片的加工工藝極高,成本非常高,還有一種方式是通過軟件的算法來是實現去除交叉干擾,這個種方式的一致性差。
鑒于此,實有必要提供一種新型的非分散紅外光線帶補償氣室方式的交叉干擾處理裝置以克服上述缺陷。
【發明內容】
本發明的目的是提供一種非分散紅外光線帶補償氣室方式的交叉干擾處理裝置,氣室內的干擾氣體吸收與紅外光線與干擾氣體相對應的波長,經過吸收后的紅外光線只剩下除干擾氣體對應的波長之外的波長,有效解決了紅外光線交叉干擾的問題。
為了實現上述目的,本發明提供一種非分散紅外光線帶補償氣室方式的交叉干擾處理裝置,包括紅外光源發射器、密閉的氣室、氣體吸收池以及探測器組件;所述氣室連接于所述紅外光源發射器與氣體吸收池之間,所述氣體吸收池上設置有進氣口和出氣口,所述探測器組件裝設于所述氣體吸收池上,所述氣室內收容有干擾氣體;所述紅外光源發射器用于向所述氣室內部發射紅外光線并能夠照射至所述氣體吸收池內,所述探測器組件用于接收經所述氣體吸收池照射過來的紅外光線。
優選的,所述氣室連接于所述紅外光源發射器與氣體吸收池之間,并位于所述氣體吸收池的一端,所述探測器組件裝設于所述氣體吸收池的另一端。
優選的,所述紅外光源發射器包括光源安裝板以及發射器;所述光源安裝板連接于所述氣室上,所述發射器夾設于所述光源安裝板和氣室內。
優選的,所述非分散紅外光線帶補償氣室方式的交叉干擾處理裝置還包括第一窗片,所述第一窗片夾設于所述光源安裝板與氣室之間,所述發射器發射的紅外光線能夠透過所述第一窗片照射至所述氣室內。
優選的,所述光源安裝板與氣室之間夾設有第一密封圈;所述氣室與氣體吸收池之間夾設有第二密封圈;所述氣體吸收池與探測器組件之間夾設有第三密封圈。
優選的,所述進氣口和出氣口均設置于所述氣體吸收池的頂面,且所述進氣口與出氣口間隔設置。
優選的,所述非分散紅外光線帶補償氣室方式的交叉干擾處理裝置還包括第二窗片,所述第二窗片夾設于所述氣室與氣體吸收池之間,所述氣室內的紅外光線能夠透過所述第二窗片照射至所述氣體吸收池內。
優選的,所述非分散紅外光線帶補償氣室方式的交叉干擾處理裝置還包括第三窗片,所述第三窗片夾設于所述氣體吸收池與探測器組件之間,所述氣體吸收池內的紅外光線能夠透過所述第三窗片照射至所述探測器組件上。
優選的,所述探測器組件包括探測器安裝板以及探測器;所述探測器安裝板安裝于所述氣體吸收池上,所述探測器夾設于所述氣體吸收池與探測器安裝板內。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于武漢敢為科技有限公司,未經武漢敢為科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110271234.X/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





