[發(fā)明專利]非分散紅外光線帶補償氣室方式的交叉干擾處理裝置

在審

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• 申請日: 2021-03-12
• 公開（公告）號: CN113049518A
• 公開（公告）日: 2021-06-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張俊龍;吳雪威;蔡名鋒;何剛;涂紅濤
• 申請（專利權(quán)）人: 武漢敢為科技有限公司
• 主分類號: G01N21/3504
• 分類號: G01N21/3504
• 代理公司: 上海精晟知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31253
• 代理人: 王占房

1.一種非分散紅外光線帶補償氣室方式的交叉干擾處理裝置，其特征在于，包括紅外光源發(fā)射器(1)、密閉的氣室(2)、氣體吸收池(3)以及探測器組件(4)；所述氣室(2)連接于所述紅外光源發(fā)射器(1)與氣體吸收池(3)之間，所述氣體吸收池(3)上設(shè)置有進氣口(31)和出氣口(32)，所述探測器組件(4)裝設(shè)于所述氣體吸收池(3)上，所述氣室(2)內(nèi)收容有干擾氣體；所述紅外光源發(fā)射器(1)用于向所述氣室(2)內(nèi)部發(fā)射紅外光線并能夠照射至所述氣體吸收池(3)內(nèi)，所述探測器組件(4)用于接收經(jīng)所述氣體吸收池(3)照射過來的紅外光線。

2.如權(quán)利要求1所述的非分散紅外光線帶補償氣室方式的交叉干擾處理裝置，其特征在于，所述氣室(2)連接于所述紅外光源發(fā)射器(1)與氣體吸收池(3)之間，并位于所述氣體吸收池(3)的一端，所述探測器組件(4)裝設(shè)于所述氣體吸收池(3)的另一端。

3.如權(quán)利要求1所述的非分散紅外光線帶補償氣室方式的交叉干擾處理裝置，其特征在于，所述紅外光源發(fā)射器(1)包括光源安裝板(11)以及發(fā)射器(12)；所述光源安裝板(11)連接于所述氣室(2)上，所述發(fā)射器(12)夾設(shè)于所述光源安裝板(11)和氣室(2)內(nèi)。

4.如權(quán)利要求3所述的非分散紅外光線帶補償氣室方式的交叉干擾處理裝置，其特征在于，所述非分散紅外光線帶補償氣室方式的交叉干擾處理裝置還包括第一窗片(8)，所述第一窗片(8)夾設(shè)于所述光源安裝板(11)與氣室(2)之間，所述發(fā)射器(12)發(fā)射的紅外光線能夠透過所述第一窗片(8)照射至所述氣室(2)內(nèi)。

5.如權(quán)利要求3所述的非分散紅外光線帶補償氣室方式的交叉干擾處理裝置，其特征在于，所述光源安裝板(11)與氣室(2)之間夾設(shè)有第一密封圈(5)；所述氣室(2)與氣體吸收池(3)之間夾設(shè)有第二密封圈(6)；所述氣體吸收池(3)與探測器組件(4)之間夾設(shè)有第三密封圈(7)。

6.如權(quán)利要求1所述的非分散紅外光線帶補償氣室方式的交叉干擾處理裝置，其特征在于，所述進氣口(31)和出氣口(32)均設(shè)置于所述氣體吸收池(3)的頂面，且所述進氣口(31)與出氣口(32)間隔設(shè)置。

7.如權(quán)利要求1所述的非分散紅外光線帶補償氣室方式的交叉干擾處理裝置，其特征在于，所述非分散紅外光線帶補償氣室方式的交叉干擾處理裝置還包括第二窗片(9)，所述第二窗片(9)夾設(shè)于所述氣室(2)與氣體吸收池(3)之間，所述氣室(2)內(nèi)的紅外光線能夠透過所述第二窗片(9)照射至所述氣體吸收池(3)內(nèi)。

8.如權(quán)利要求1所述的非分散紅外光線帶補償氣室方式的交叉干擾處理裝置，其特征在于，所述非分散紅外光線帶補償氣室方式的交叉干擾處理裝置還包括第三窗片(10)，所述第三窗片(10)夾設(shè)于所述氣體吸收池(3)與探測器組件(4)之間，所述氣體吸收池(3)內(nèi)的紅外光線能夠透過所述第三窗片(10)照射至所述探測器組件(4)上。

9.如權(quán)利要求1所述的非分散紅外光線帶補償氣室方式的交叉干擾處理裝置，其特征在于，所述探測器組件(4)包括探測器安裝板(41)以及探測器(42)；所述探測器安裝板(41)安裝于所述氣體吸收池(3)上，所述探測器(42)夾設(shè)于所述氣體吸收池(3)與探測器安裝板(41)內(nèi)。