[發(fā)明專利]掩膜安裝裝置及方法、成膜裝置及方法、以及基板載置器

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110267602.3
• 申請日: 2021-03-12
• 公開（公告）號: CN113388806B
• 公開（公告）日: 2023-06-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 鈴木健太郎
• 申請（專利權(quán)）人: 佳能特機株式會社
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;C23C14/34;H10K71/20
• 代理公司: 中國貿(mào)促會專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038
• 代理人: 史雁鳴

本發(fā)明提供一種在將掩膜安裝到被保持于基板載置器并被輸送的基板上時，可以提高成膜精度的技術(shù)。根據(jù)本發(fā)明，在只由基板載置器支承機構(gòu)(8)支承與構(gòu)成基板(5)的周緣部的多個邊中的沿著規(guī)定方向配置的一對相對的邊相對應(yīng)的基板載置器(9)的一對周緣區(qū)域時的基板載置器(9)的撓曲量dc，比只由掩膜支承機構(gòu)(16)支承與構(gòu)成掩膜(6)的周緣部的多個邊中沿著規(guī)定方向配置的一對相對的邊相對應(yīng)的掩膜(6)的一對周緣區(qū)域時的掩膜(6)的撓曲量dm大。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及掩膜安裝裝置、成膜裝置、掩膜安裝方法、成膜方法、電子器件制造方法、掩膜、基板載置器、以及基板載置器-掩膜組。

背景技術(shù)

作為制造有機EL(有機發(fā)光二極管)顯示器的方法，已知有通過經(jīng)由以規(guī)定的圖樣形成開口的掩膜在基板上成膜來形成規(guī)定圖樣的膜的掩膜成膜法。在掩膜成膜法中，在將掩膜與基板的位置對準(zhǔn)之后，使掩膜與基板貼緊，進行成膜。

在專利文獻1中，記載了使基板保持在卡盤板(也稱作“基板載置器”)上，由卡盤板輸送基板。并且，在專利文獻1中，記載了將被卡在卡盤板上的狀態(tài)下的基板送入對準(zhǔn)室，在對準(zhǔn)室內(nèi)與掩膜對準(zhǔn)位置，將掩膜與基板貼合。

現(xiàn)有技術(shù)文獻

專利文獻

專利文獻1：韓國公開特許第10－2018－0067031號公報

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明所要解決的課題

近年來，為了增大有機EL顯示器的面積及提高生產(chǎn)效率，要求利用大尺寸的基板進行成膜。一般地，在有機EL顯示器的制造時，大多使用玻璃、樹脂等的薄板作為基板，若基板的尺寸變大，則在水平地保持基板時的撓曲變大。

在掩膜成膜法中，利用與基板大致相同大小的掩膜進行成膜。因此，在對大面積的基板進行成膜時，使用大面積的掩膜，不僅基板撓曲，掩膜也容易撓曲。在專利文獻1中，通過將基板卡到卡盤板上來消除基板的撓曲，但是，如上所述，在大面積的情況下，掩膜也產(chǎn)生撓曲。當(dāng)在該狀態(tài)下將基板靠近掩膜而使掩膜緊貼基板時，整個接合面的均勻貼緊變得困難，存在著會在形成于基板與掩膜箔之間的間隙中產(chǎn)生不能允許的大的間隙的情況。雖然考慮過在將基板靠近掩膜之后，使磁鐵靠近基板的背面(基板的與掩膜相對向的面的相反一側(cè)的面)而將掩膜箔向基板側(cè)牽引，但是，當(dāng)基板與掩膜箔之間的間隙過大時，存在著不能利用磁力對掩膜箔進行牽引來使其貼緊于基板的情況。

這樣，過去，存在著在將掩膜安裝到被保持于基板載置器的基板上時，在基板與掩膜箔之間產(chǎn)生大的間隙，基板與掩膜的貼緊不充分，成膜精度會降低的課題。

本發(fā)明是鑒于上述課題而做出的，其目的在于提供一種技術(shù)，在將掩膜安裝到被保持于基板載置器來進行輸送的基板上時，能夠提高成膜精度。

解決課題的手段

為了解決上述課題，本發(fā)明的掩膜安裝裝置配備有：

支承基板載置器的基板載置器支承機構(gòu)，所述基板載置器保持基板；

支承掩膜的掩膜支承機構(gòu)；以及

移動機構(gòu)，所述移動機構(gòu)使所述基板載置器支承機構(gòu)和所述掩膜支承機構(gòu)中的至少一方移動，以便對所述基板載置器從所述掩膜隔離開的隔離狀態(tài)與所述基板載置器載置于所述掩膜上的安裝狀態(tài)進行切換，其特征在于，

所述基板載置器支承機構(gòu)具有：

支承所述基板載置器的沿著第一方向的第一邊的周緣部的第一基板載置器支承部；以及

支承所述基板載置器的沿著所述第一方向的第二邊的周緣部的第二基板載置器支承部，

所述掩膜支承機構(gòu)具有：

支承所述掩膜的沿著所述第一方向的第一掩膜邊的周緣部的第一掩膜支承部；以及