[發明專利]掩膜安裝裝置及方法、成膜裝置及方法、以及基板載置器

有效

• 申請號: 202110267602.3
• 申請日: 2021-03-12
• 公開（公告）號: CN113388806B
• 公開（公告）日: 2023-06-16
• 發明（設計）人: 鈴木健太郎
• 申請（專利權）人: 佳能特機株式會社
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;C23C14/34;H10K71/20
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 史雁鳴

1.一種掩膜安裝裝置，配備有：

基板載置器支承機構，所述基板載置器支承機構支承基板載置器，所述基板載置器保持基板；

掩膜支承機構，所述掩膜支承機構支承掩膜；以及

移動機構，所述移動機構使所述基板載置器支承機構和所述掩膜支承機構中的至少一方移動，以便對所述基板載置器從所述掩膜隔離開的隔離狀態和所述基板載置器載置于所述掩膜上的安裝狀態進行切換，其特征在于，

所述基板載置器支承機構具有：

第一基板載置器支承部，所述第一基板載置器支承部支承所述基板載置器的沿著第一方向的第一邊的周緣部；以及

第二基板載置器支承部，所述第二基板載置器支承部支承所述基板載置器的沿著所述第一方向的第二邊的周緣部，

所述掩膜支承機構具有：

第一掩膜支承部，所述第一掩膜支承部支承所述掩膜的沿著所述第一方向的第一掩膜邊的周緣部；以及

第二掩膜支承部，所述第二掩膜支承部支承所述掩膜的沿著所述第一方向的第二掩膜邊的周緣部，

在所述隔離狀態下，所述第一基板載置器支承部以及所述第二基板載置器支承部支承所述基板載置器，以便使所述基板載置器的撓曲量dc成為第一撓曲量，

在所述隔離狀態下，所述第一掩膜支承部以及所述第二掩膜支承部支承所述掩膜，以便使所述掩膜的撓曲量dm成為比所述第一撓曲量小的第二撓曲量，

所述基板載置器具有多個就位構件，所述多個就位構件被設置在保持所述基板的保持面的外側，比所述基板向所述掩膜突出，

在從所述多個就位構件中的任一個與所述掩膜接觸起直到所述多個就位構件全部與所述掩膜接觸為止的期間，在所述就位構件與所述掩膜之間產生的摩擦力變得比在所述基板載置器與所述第一基板載置器支承部以及所述第二基板載置器支承部之間產生的摩擦力大。

2.如權利要求1所述的掩膜安裝裝置，其特征在于，

所述基板載置器的撓曲量dc是所述第一邊的高度與所述第一邊和所述第二邊之間的中央部的高度之差，

所述掩膜的撓曲量dm是所述第一掩膜邊的高度與所述第一掩膜邊和所述第二掩膜邊之間的中央部的高度之差。

3.如權利要求1所述的掩膜安裝裝置，其特征在于，

所述基板載置器的撓曲量dc是所述第一邊或者所述第二邊的高度與所述基板載置器的位于最低位置的低部的高度之差，

所述掩膜的撓曲量dm是所述第一掩膜邊或者所述第二掩膜邊的高度與所述掩膜的位于最低位置的低部的高度之差。

4.如權利要求1所述的掩膜安裝裝置，其特征在于，

在從所述隔離狀態向所述安裝狀態切換時，所述基板載置器之中的在所述隔離狀態下位于最低位置的部分最先與所述掩膜接觸。

5.如權利要求4所述的掩膜安裝裝置，其特征在于，

在從所述隔離狀態向所述安裝狀態切換時，所述基板載置器的所述位于最低位置的部分與所述掩膜中的在所述隔離狀態下位于最低位置的部分接觸。

6.如權利要求4所述的掩膜安裝裝置，其特征在于，

所述基板載置器具有就位構件，所述就位構件被設置在保持所述基板的保持面的外側，比所述基板向所述掩膜突出，

所述就位構件被設置在所述基板載置器的所述位于最低位置的部分中。

7.如權利要求1所述的掩膜安裝裝置，其特征在于，

所述多個就位構件與所述掩膜接觸的接觸面積比所述基板載置器與所述第一基板載置器支承部以及所述第二基板載置器支承部接觸的接觸面積大。

8.如權利要求1所述的掩膜安裝裝置，其特征在于，

所述多個就位構件與所述掩膜之間的摩擦系數比所述基板載置器與所述第一基板載置器支承部以及所述第二基板載置器支承部之間的摩擦系數大。

9.如權利要求1所述的掩膜安裝裝置，其特征在于，

所述多個就位構件的與所述掩膜的接觸部由金屬制的構件構成。