[發明專利]一種新型FEI850離子束修補機電子中和漏斗在審

申請號：	202110266066.5	申請日：	2021-03-11
公開（公告）號：	CN112885689A	公開（公告）日：	2021-06-01
發明（設計）人：	華衛群;尤春;薛文卿;顧夢星;張月圓;劉維維;季書鳳	申請（專利權）人：	無錫中微掩模電子有限公司
主分類號：	H01J37/317	分類號：	H01J37/317;H01J37/32
代理公司：	連云港聯創專利代理事務所(特殊普通合伙) 32330	代理人：	劉剛
地址：	214000 江***	國省代碼：	江蘇;32
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摘要：
搜索關鍵詞：	一種新型 fei850 離子束修補機電中和漏斗
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【權利要求書】：

1.一種新型FEI850離子束修補機電子中和漏斗，包括電子中和漏斗本體(2)，其特征在于：所述電子中和漏斗本體(2)的一側安裝有支撐連桿(1)，所述支撐連桿(1)的頂部安裝有工藝氣體管道(3)，所述工藝氣體管道(3)的端部安裝有工藝氣體噴嘴(4)，所述電子中和漏斗本體(2)的中間位置處開設有中心孔(5)，所述電子中和漏斗本體(2)的內部設置有內側面(6)和最低面(7)。

2.根據權利要求1所述的一種新型FEI850離子束修補機電子中和漏斗，其特征在于：所述電子中和漏斗本體(2)的材質設置為石墨材質。

3.根據權利要求1所述的一種新型FEI850離子束修補機電子中和漏斗，其特征在于：所述電子中和漏斗本體(2)的中心孔(5)位置高于電子中和漏斗本體(2)內部內側面(6)的最低面(7)。

4.根據權利要求1所述的一種新型FEI850離子束修補機電子中和漏斗，其特征在于：所述電子中和漏斗本體(2)的內側面設置為鋸齒狀。

5.根據權利要求1所述的一種新型FEI850離子束修補機電子中和漏斗，其特征在于：所述工藝氣體噴嘴(4)設置在電子中和漏斗本體(2)的中心孔(5)位置。

6.根據權利要求1所述的一種新型FEI850離子束修補機電子中和漏斗，其特征在于：所述中心孔(5)設置在電子中和漏斗本體(2)內部的最低面(7)位置處。

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