[發(fā)明專利]光罩、顯示面板在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110262879.7 | 申請日: | 2021-03-11 |
| 公開(公告)號: | CN112859507A | 公開(公告)日: | 2021-05-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 練文東 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/00 | 分類號: | G03F1/00 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570 | 代理人: | 遠(yuǎn)明 |
| 地址: | 518132 廣東省深*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 面板 | ||
本發(fā)明實施例公開了一種光罩、顯示面板。光罩包括第一開口以及圍繞第一開口的掩膜條;掩膜條包括第一部分和的第二部分;其中,第二部分的平均厚度大于第一部分的平均厚度,第一部分和第二部分圍成連通第一開口的總空間,總空間包括第一空間和第二空間,第一部分包括圍繞第一空間的第一壁,第二部分包括圍繞第二空間的第二壁,第一壁與第二壁具有接觸部,第二壁在接觸部處與水平面的夾角小于第一壁在接觸部處與水平面的夾角。本發(fā)明實施例通過在現(xiàn)有光罩遠(yuǎn)離現(xiàn)有開口的一側(cè)增加第二空間,增加了光罩開口邊緣區(qū)域鍍膜材料的容納空間,鍍膜材料在沉積過程中可以更快速達(dá)到目標(biāo)膜厚,減小了未達(dá)標(biāo)膜層區(qū)域的面積,改善了鍍膜的工作性能。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及顯示領(lǐng)域,具體涉及一種光罩、顯示面板。
背景技術(shù)
近些年,顯示面板的鍍膜工藝精度要求越來越高。
在不需要鍍膜的區(qū)域,會設(shè)置光罩,在鍍膜過程中,在光罩開口邊緣與鍍膜基板之間會沉積產(chǎn)生未達(dá)標(biāo)膜層區(qū)域(指膜厚未達(dá)到目標(biāo)鍍膜膜厚一定百分比的區(qū)域),當(dāng)顯示面板邊緣區(qū)域的未達(dá)標(biāo)膜層區(qū)域面積過大時,會影響鍍膜的工作性能,目前,請參閱圖1,現(xiàn)有光罩90包括連通開口91的空間92,現(xiàn)有光罩90圍繞所述空間92的壁面在正視視角下呈圓弧形,即壁面的相鄰的兩段在其連接點處與水平面的夾角相等,導(dǎo)致形成的空間92較小,無法承載更多鍍膜材料,限制了鍍膜材料沉積速度,無法減小未達(dá)標(biāo)膜層區(qū)域。
因此,亟需一種光罩、顯示面板以解決上述技術(shù)問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實施例提供一種光罩、顯示面板,可以解決目前鍍膜過程中,光罩開口邊緣與鍍膜基板之間的未達(dá)標(biāo)膜層區(qū)域過大的技術(shù)問題。
本發(fā)明實施例提供一種光罩,包括第一開口以及圍繞所述第一開口的掩膜條;
所述掩膜條包括靠近所述第一開口的第一部分和遠(yuǎn)離所述第一開口的第二部分;
其中,所述第二部分的所述平均厚度大于所述第一部分的平均厚度,所述第一部分和所述第二部分圍成連通所述第一開口的總空間,所述總空間包括第一空間和位于所述第一空間上并連通所述第一空間的第二空間,所述第一部分包括圍繞所述第一空間的第一壁,所述第二部分包括圍繞所述第二空間的第二壁,所述第一壁與所述第二壁具有接觸部,所述第二壁在所述接觸部處與水平面的夾角小于所述第一壁在所述接觸部處與所述水平面的夾角。
在一實施例中,所述掩膜條包括連接于所述第二部分的遠(yuǎn)離所述第一部分的一側(cè)的第三部分,所述第三部分的平均厚度大于所述第二部分的平均厚度,所述第三部分包括圍繞所述第一空間的第三壁,所述第二壁在所述接觸部處與所述水平面的所述夾角以及所述第一壁在所述接觸部處與所述水平面的所述夾角均為銳角。
在一實施例中,所述第一壁為凹向所述掩膜條的弧面,所述第二壁為平面,所述第三壁為平面。
在一實施例中,在所述第三部分至所述第一開口的方向上,所述第二部分的厚度變小。
在一實施例中,所述第一壁為凹向所述掩膜條的弧面,所述第二壁為凹向所述掩膜條的弧面,所述第三壁為平面。
在一實施例中,所述光罩還包括連接于所述第二部分與所述第三部分的第四部分,所述第四部分的平均厚度大于所述第二部分的平均厚度,所述第四部分的所述平均厚度小于所述第三部分的平均厚度。
在一實施例中,所述第四部分的遮擋表面為平面,或者所述第四部分的遮擋表面為凹向所述掩膜條的弧面。
在一實施例中,在所述第一開口至所述第三部分的方向上,所述第二部分的寬度大于所述第一部分的寬度。
在一實施例中,所述第三部分的平均厚度為100毫米~250毫米,所述第二部分的平均厚度為所述第三部分的平均厚度的二分之一。
本發(fā)明的實施例還提供了一種顯示面板,所述顯示面板包括由上述任一種的光罩制作而成的膜層。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備





