[發(fā)明專利]光罩、顯示面板在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110262879.7 | 申請日: | 2021-03-11 |
| 公開(公告)號: | CN112859507A | 公開(公告)日: | 2021-05-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 練文東 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/00 | 分類號: | G03F1/00 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570 | 代理人: | 遠(yuǎn)明 |
| 地址: | 518132 廣東省深*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 面板 | ||
1.一種光罩,其特征在于,包括第一開口以及圍繞所述第一開口的掩膜條;
所述掩膜條包括靠近所述第一開口的第一部分和遠(yuǎn)離所述第一開口的第二部分;
其中,所述第二部分的所述平均厚度大于所述第一部分的平均厚度,所述第一部分和所述第二部分圍成連通所述第一開口的總空間,所述總空間包括第一空間和位于所述第一空間上并連通所述第一空間的第二空間,所述第一部分包括圍繞所述第一空間的第一壁,所述第二部分包括圍繞所述第二空間的第二壁,所述第一壁與所述第二壁具有接觸部,所述第二壁在所述接觸部處與水平面的夾角小于所述第一壁在所述接觸部處與所述水平面的夾角。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光罩,其特征在于,所述掩膜條包括連接于所述第二部分的遠(yuǎn)離所述第一部分的一側(cè)的第三部分,所述第三部分的平均厚度大于所述第二部分的平均厚度,所述第三部分包括圍繞所述第一空間的第三壁,所述第二壁在所述接觸部處與所述水平面的所述夾角以及所述第一壁在所述接觸部處與所述水平面的所述夾角均為銳角。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光罩,其特征在于,所述第一壁為凹向所述掩膜條的弧面,所述第二壁為平面,所述第三壁為平面。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光罩,其特征在于,在所述第三部分至所述第一開口的方向上,所述第二部分的厚度變小。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光罩,其特征在于,所述第一壁為凹向所述掩膜條的弧面,所述第二壁為凹向所述掩膜條的弧面,所述第三壁為平面。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光罩,其特征在于,所述光罩還包括連接于所述第二部分與所述第三部分的第四部分,所述第四部分的平均厚度大于所述第二部分的平均厚度,所述第四部分的所述平均厚度小于所述第三部分的平均厚度。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光罩,其特征在于,所述第四部分的遮擋表面為平面,或者所述第四部分的遮擋表面為凹向所述掩膜條的弧面。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光罩,其特征在于,在所述第一開口至所述第三部分的方向上,所述第二部分的寬度大于所述第一部分的寬度。
9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光罩,其特征在于,所述第三部分的平均厚度為100毫米~250毫米,所述第二部分的平均厚度為所述第三部分的平均厚度的二分之一。
10.一種顯示面板,其特征在于,所述顯示面板包括由權(quán)利要求1~9中任一項(xiàng)所述的光罩制作而成的膜層。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計(jì)工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備





