[發(fā)明專利]生成虛擬目標模型的方法、裝置、設備及可讀存儲介質(zhì)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110260909.0 | 申請日: | 2021-03-10 |
| 公開(公告)號: | CN112862929A | 公開(公告)日: | 2021-05-28 |
| 發(fā)明(設計)人: | 牛興帥 | 申請(專利權(quán))人: | 網(wǎng)易(杭州)網(wǎng)絡有限公司 |
| 主分類號: | G06T13/20 | 分類號: | G06T13/20 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205 | 代理人: | 霍莉莉;劉芳 |
| 地址: | 310052 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 生成 虛擬 目標 模型 方法 裝置 設備 可讀 存儲 介質(zhì) | ||
1.一種生成虛擬目標模型的方法,其特征在于,包括
獲取一預設圖案以及所述預設圖案對應的高度信息;
根據(jù)所述高度信息,將所述預設圖案轉(zhuǎn)換成三維虛擬模型;
在所述三維虛擬模型上添加與所述三維虛擬模型的高度信息對應的紋理貼圖,生成虛擬目標模型。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述根據(jù)所述第一高度信息,將所述預設圖案轉(zhuǎn)換成三維虛擬模型,包括:
將所述預設圖案轉(zhuǎn)換為高度值為所述第一高度信息的立體模型;
對所述立體模型進行切割,得到頂部面積小于底部面積的切割模型;
對所述切割模型進行扭曲處理,得到所述三維虛擬模型。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,所述對所述立體模型進行切割,得到頂部面積小于底部面積的切割模型,包括:
利用預設斜率對所述立體模型從頂部到底部進行切割,以得到頂部面積小于底部面積的切割模型。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,其特征在于,預先設置有配置參數(shù),所述配置參數(shù)中包括預設斜率范圍,所述預設斜率為所述預設斜率范圍中的最小值。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,其特征在于,所述對所述切割模型進行扭曲處理,得到所述三維虛擬模型,包括:
在所述切割模型的表面添加噪點,對設置有所述噪點的區(qū)域進行扭曲處理;
和/或,在所述切割模型的表面添加多邊形,對設置有所述多邊形的區(qū)域進行扭曲處理,生成所述三維虛擬模型。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其特征在于,所述在所述切割模型的表面添加噪點,對設置有所述噪點的區(qū)域進行扭曲處理;在所述切割模型的表面添加多邊形,對設置有所述多邊形的區(qū)域進行扭曲處理,包括:
在所述切割模型和/或者第二扭曲模型的表面添加第一噪點,對設置有所述第一噪點的區(qū)域進行第一扭曲處理得到第一扭曲模型;
在所述第一扭曲模型的表面添加第二噪點和四邊形,對設置有所述第二噪點、所述多邊形的區(qū)域進行第二扭曲處理,得到所述第二扭曲模型;
在所述第二扭曲模型的表面添加第三噪點,對設置有所述第三噪點的區(qū)域進行第三扭曲處理得到所述三維虛擬模型。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,其特征在于,所述第一扭曲模型包括第一扭曲子模型、第三扭曲子模型;所述第二扭曲模型包括第二扭曲子模型、第四扭曲子模型;
在所述切割模型的表面添加第一噪點,對設置有所述第一噪點的區(qū)域進行第一扭曲處理得到第一扭曲子模型;
在所述第一扭曲子模型的表面添加第二噪點和四邊形,對設置有所述第二噪點、所述多邊形的區(qū)域進行第二扭曲處理,得到所述第二扭曲子模型;
在所述第二扭曲子模型的表面添加第一噪點,對設置有所述第一噪點的區(qū)域進行第一扭曲處理得到第三扭曲子模型;
在所述第三扭曲子模型的表面添加第二噪點和四邊形,對設置有所述第二噪點、所述多邊形的區(qū)域進行第四扭曲處理,得到所述第四扭曲子模型。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-7任一項所述的方法,其特征在于,所述在所述三維虛擬模型上添加與所述三維虛擬模型的高度信息對應的紋理貼圖,生成虛擬目標模型,包括:
根據(jù)所述三維虛擬模型的高度信息,在所述三維虛擬模型的表面添加第一紋理貼圖,得到第一模型;
在所述第一模型的表面確定第二紋理覆蓋區(qū)域,并在所述第二模型的第二紋理覆蓋區(qū)域添加第二紋理貼圖,得到第二模型;
在所述第二模型的表面確定第三紋理覆蓋區(qū)域,并在所述第二模型的第三紋理覆蓋區(qū)域添加第三紋理貼圖,得到所述虛擬目標模型。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其特征在于,所述在所述第一模型的表面確定第二紋理覆蓋區(qū)域,包括:
對所述第一模型進行頂部正交投射,并根據(jù)投射覆蓋區(qū)域、第一預設區(qū)域,確定所述第一模型的第二紋理覆蓋區(qū)域。
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