[發明專利]一種可重復使用的掩膜版蝕刻液生產設備

在審

• 申請號: 202110255637.5
• 申請日: 2021-03-09
• 公開（公告）號: CN113018966A
• 公開（公告）日: 2021-06-25
• 發明（設計）人: 錢超;楊柯;牛恩眾;余強根
• 申請（專利權）人: 常州高光半導體材料有限公司
• 主分類號: B01D36/02
• 分類號: B01D36/02;B01D29/64;B01D29/68
• 代理公司: 南京縱橫知識產權代理有限公司 32224
• 代理人: 董成

本發明涉及環保設備技術領域，且公開了一種可重復使用的掩膜版蝕刻液生產設備，包括過濾箱，所述過濾箱的底面固定連接有支撐架，所述過濾箱頂部的內側設置有第一過濾部件，所述第一過濾部件頂部的內側固定套接有進液管，所述過濾箱中部的內側設置有自清理部件，所述自清理部件的正面固定安裝有同步傳動部件。本發明通過第一過濾部件與二次過濾網板相互配合形成雙重過濾機構，繼而分別對蝕刻機產生的廢蝕刻液進行針對大雜質的離心過濾以及針對小雜質的流延過濾，完成對廢蝕刻液為循環再生處理前的預處理作業，大大降低后續離子膜電解設備、循環設備等設備的作業負荷以及各種設備內部的存渣量。

技術領域

本發明涉及環保設備技術領域，具體為一種可重復使用的掩膜版蝕刻液生產設備。

背景技術

掩膜版是由石英玻璃作為襯底，在其上面鍍上一層金屬鉻和感光膠，成為一種感光材料，然后把已設計好的電路圖形通過電子激光設備曝光在感光膠上，被曝光的區域會被顯影出來，而后在金屬鉻上形成電路圖形，成為類似曝光后的底片的光掩模版，然后應用于對集成電路進行投影定位，通過集成電路光刻機對所投影的電路進行光蝕刻，而蝕刻所采用的蝕刻液則是一種銅版畫雕刻用原料，從理論上講，凡能氧化銅而生成可溶性銅鹽的試劑，都可以用來蝕刻敷銅箔板，而隨著我國對企業環保等方面重視，蝕刻液的可重復使用課題就成為現技術領域中研究的重點，目前針對蝕刻液的回收再生工藝流程通常為：對蝕刻機加工產生的廢蝕刻液進行回收至廢液收集設備中，然后進行電解，即將廢液收集設備中的廢蝕刻液泵送至離子膜電解設備中進行電解，隨后再調整酸堿值：即把電解后的廢蝕刻液通過管道流入循環設備中，循環設備將廢蝕刻液的pH值調配到正常參數，一部分泵送回離子膜電解設備中循環使用，而另一部分則過濾后輸送到蝕刻機中，由此實現蝕刻液的重復使用，降低對加工廢液對環境的污染，但是在最初的收集工序中缺乏針對性的預處理過濾設備，進而導致了后續各工序設備的處理壓力以及效率都有較大的影響，再者現有的一些過濾設備雖然也能解決上述問題，但是普遍存在過濾方式單一，效果不理想以及自身清理麻煩等問題，因此，綜上所述問題，本申請提供一種可重復使用的掩膜版蝕刻液生產設備。

發明內容

本發明提供了一種可重復使用的掩膜版蝕刻液生產設備，解決了上述背景技術中提出的問題。

本發明提供如下技術方案：一種可重復使用的掩膜版蝕刻液生產設備，包括過濾箱，所述過濾箱的底面固定連接有支撐架，所述過濾箱頂部的內側設置有第一過濾部件，所述第一過濾部件頂部的內側固定套接有進液管，所述過濾箱中部的內側設置有自清理部件，所述自清理部件的正面固定安裝有同步傳動部件，所述同步傳動部件的一側固定安裝有動力部件，所述自清理部件的底部設置有二次過濾網板，所述二次過濾網板固定套接在過濾箱中部的內側，所述二次過濾網板的底部設置有反沖洗部件和第一泵送部件，所述反沖洗部件以及第一泵送部件的一側均固定套接在過濾箱底部的內側，所述過濾箱的底部設置有第二泵送部件。

精選的，所述第一過濾部件的內部包括有過濾網筒，且過濾網筒中部的內側固定套接有第一傳動軸，所述第一傳動軸頂部的表面固定安裝有軸承套，所述軸承套中部的表面固定套接有密封板，所述密封板通過螺絲固定安裝在過濾箱頂部的內側，所述第一傳動軸的頂端固定安裝有第一伺服電機。

精選的，所述密封板的表面固定套接有第一密封圈，且第一密封圈活動套接在過濾箱頂部的內側，所述密封板的頂面固定連接有把手。

精選的，所述自清理部件的內部包括有兩個螺旋桿，且兩個螺旋桿活動套接在過濾箱中部的內側，兩個所述螺旋桿的底面與二次過濾網板的頂面活動連接，兩個所述螺旋桿一端的外側各設置有一個輸渣管，兩個所述輸渣管的一端均固定套接在過濾箱中部側壁的內部，兩個所述輸渣管另一端的表面螺紋連接有防漏蓋。

精選的，所述防漏蓋的頂面活動連接有第二密封圈，且第二密封圈固定套接在輸渣管另一端的表面。