[發明專利]觸摸屏的制備方法及觸摸屏

在審

• 申請號: 202110253894.5
• 申請日: 2021-03-09
• 公開（公告）號: CN113050825A
• 公開（公告）日: 2021-06-29
• 發明（設計）人: 黃麗玉
• 申請（專利權）人: 昆山龍騰光電股份有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041;H01B5/14;H01B13/00
• 代理公司: 上海波拓知識產權代理有限公司 31264
• 代理人: 蔡光仟

1.一種觸摸屏的制備方法，其特征在于，包括步驟：

提供一基板(100)，所述基板(100)包括第一區域(A1)和第二區域(A2)；

在所述基板(100)上依次形成第一透明電極層(11)和金屬層(12)；

在形成有所述金屬層(12)的所述基板(100)上形成第一平坦層(13)；

在形成有所述第一平坦層(13)的所述基板(100)上形成第二透明電極層(14)；

其中，在所述基板(100)上依次形成第一透明電極層(11)和金屬層(12)包括：

在形成有所述金屬層(12)的所述基板(100)上形成光阻層(21)；

利用光罩(31)對所述光阻層(21)進行曝光、顯影，使所述光阻層(21)在所述第一區域(A1)和所述第二區域(A2)分別形成對位光阻(211)和過橋光阻(212)；

利用所述對位光阻(211)和過橋光阻(212)依次對所述金屬層(12)和所述第一透明電極層(11)進行處理，使所述第一透明電極層(11)在所述基板(100)的所述第一區域(A1)和所述第二區域(A2)分別形成對位電極(111)和過橋電極(112)，并去除所述第二區域(A2)的所述金屬層(12)。

2.如權利要求1所述的觸摸屏的制備方法，其特征在于，在所述基板(100)上依次形成第一透明電極層(11)和金屬層(12)還包括：

在所述基板(100)上形成第一透明電極層(11)；

在形成有所述第一透明電極層(11)的所述基板(100)上形成金屬層(12)；

在形成有所述金屬層(12)的所述基板(100)上形成光阻層(21)；

利用光罩(31)對所述光阻層(21)進行曝光、顯影，使所述光阻層(21)在所述第一區域(A1)和所述第二區域(A2)分別形成對位光阻(211)和過橋光阻(212)，所述過橋光阻(212)的厚度小于所述對位光阻(211)的厚度；

利用所述對位光阻(211)和所述過橋光阻(212)對所述金屬層(12)進行處理，使所述金屬層(12)在所述第一區域(A1)和所述第二區域(A2)分別形成對位金屬層(121)和過橋金屬層(122)；

利用所述對位光阻(211)和所述過橋光阻(212)對所述第一透明電極層(11)進行處理，使所述第一透明電極層(11)在所述第一區域(A1)和所述第二區域(A2)分別形成所述對位電極(111)和所述過橋電極(112)；

對所述對位光阻(211)和所述過橋光阻(212)進行處理，減小所述對位光阻(211)的厚度，并去除所述過橋光阻(212)以使所述過橋金屬層(122)露出；

去除所述過橋金屬層(122)；

去除所述對位光阻(211)。

3.如權利要求1所述的觸摸屏的制備方法，其特征在于，所述光罩(31)為半色調掩膜版或者灰色調掩膜版。

4.如權利要求2所述的觸摸屏的制備方法，其特征在于，利用所述對位光阻(211)和所述過橋光阻(212)對所述金屬層(12)進行處理的步驟具體包括，利用所述對位光阻(211)和所述過橋光阻(212)對所述金屬層(12)進行濕蝕刻或者干蝕刻處理。

5.如權利要求2所述的觸摸屏的制備方法，其特征在于，利用所述對位光阻(211)和所述過橋光阻(212)對所述第一透明電極層(11)進行處理的步驟具體包括：

利用所述對位光阻(211)和所述過橋光阻(212)對所述第一透明電極層(11)進行濕蝕刻或者干蝕刻處理。

6.如權利要求2所述的觸摸屏的制備方法，其特征在于，對所述對位光阻(211)和所述過橋光阻(212)進行處理，減小所述對位光阻(211)的厚度，并去除所述過橋光阻(212)以使所述過橋金屬層(122)露出的步驟具體包括：

對所述對位光阻(211)和所述過橋光阻(212)進行灰化處理，減小所述對位光阻(211)的厚度，并去除所述過橋光阻(212)以使所述過橋金屬層(122)露出。