[發明專利]觸摸屏的制備方法及觸摸屏

在審

• 申請號: 202110253894.5
• 申請日: 2021-03-09
• 公開（公告）號: CN113050825A
• 公開（公告）日: 2021-06-29
• 發明（設計）人: 黃麗玉
• 申請（專利權）人: 昆山龍騰光電股份有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041;H01B5/14;H01B13/00
• 代理公司: 上海波拓知識產權代理有限公司 31264
• 代理人: 蔡光仟

本發明實施例提供的觸摸屏的制備方法及觸摸屏，該觸摸屏包括基板、第一透明電極層、金屬層、第一平坦層和第二透明導電層和第二平坦層，通過使第一透明電極層和第一金屬層共用一道光罩，使得該第一透明電極層在基板的第一區域形成對位電極并在基板的第二區域形成過橋電極，且對位電極與過橋電極同步形成。不僅可以使對位電極與第一區域的金屬層完全重疊，從而避免由對位不良造成的線路短路，另外，釋放出來的制程間隙有利于縮小觸控屏的邊框，同時節省光罩和一次曝光制程。

技術領域

本發明涉及觸摸屏領域，尤其涉及一種觸摸屏的制備方法及觸摸屏。

背景技術

On Cell是指將觸摸屏嵌入到顯示屏的彩色濾光片基板和偏光片之間的方法，即在液晶面板上配觸摸傳感器，相比In Cell技術難度降低不少。由于只需在彩色濾光片基板和偏光板之間形成簡單的透明電極圖案等，因此容易確保成品率。另外，像素內的有效顯示區域的面積也不會減小，幾乎不會由此發生畫質劣化現象。

目前，On cell技術中的ITO搭橋工藝有5道制程，分別為ITO1制程、Metal制程、OC1制程、ITO2制程和OC2制程。其中，ITO1制程有兩個作用，其中一個作用是在搭橋位置用于導通ITO2，此時ITO1上方不用疊加外圍金屬；另一個作用是疊加設置在外圍金屬線(Metal)下方，提高金屬附著力和降低線路阻抗。

因此，ITO搭橋工藝在不同區域的結構并不相同，而且在外圍金屬線路(Metal)與ITO1疊加設置時，為預防由于對位不良引起的線路短路不良，線間距設計較大，不利于制造窄邊框的產品。

發明內容

本發明的目的在于提供一種觸摸屏的制備方法及觸摸屏，以解決上述現有技術中存在的技術問題。

本發明解決其技術問題是采用以下的技術方案來實現的。

本發明提供一種觸摸屏的制備方法，包括步驟：

提供一基板，所述基板包括第一區域和第二區域；

在所述基板上依次形成第一透明電極層和金屬層；

在形成有所述金屬層的所述基板上形成第一平坦層；

在形成有所述第一平坦層的所述基板上形成第二透明電極層；

其中，在所述基板上依次形成第一透明電極層和金屬層包括：

在形成有所述金屬層的所述基板上形成光阻層；

利用光罩對所述光阻層進行曝光、顯影，使所述光阻層在所述第一區域和所述第二區域分別形成對位光阻和過橋光阻；

利用所述對位光阻和過橋光阻依次對所述金屬層和所述第一透明電極層進行處理，使所述第一透明電極層在所述基板的所述第一區域和所述第二區域分別形成對位電極和過橋電極，并去除所述第二區域的所述金屬層。

在本發明的一個實施例中，在所述基板上依次形成第一透明電極層和金屬層還包括：

在所述基板上形成第一透明電極層；

在形成有所述第一透明電極層的所述基板上形成金屬層；

在形成有所述金屬層的所述基板上形成光阻層；

利用光罩對所述光阻層進行曝光、顯影，使所述光阻層在所述第一區域和所述第二區域分別形成對位光阻和過橋光阻，所述過橋光阻的厚度小于所述對位光阻的厚度；

利用所述對位光阻和所述過橋光阻對所述金屬層進行處理，使所述金屬層在所述第一區域和所述第二區域分別形成對位金屬層和過橋金屬層；

利用所述對位光阻和所述過橋光阻對所述第一透明電極層進行處理，使所述第一透明電極層在所述第一區域和所述第二區域分別形成所述對位電極與所述過橋電極；