[發明專利]陣列基板及其制備方法、顯示面板

有效

• 申請號: 202110251698.4
• 申請日: 2021-03-08
• 公開（公告）號: CN113035923B
• 公開（公告）日: 2023-04-18
• 發明（設計）人: 孟秋華;劉明
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: H10K59/126
• 分類號: H10K59/126;H10K59/12;H10K50/86;H10K71/00
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 柴亮;姜春咸

本發明提供一種陣列基板及其制備方法、顯示面板，屬于顯示技術領域，其可至少部分解決在現有的顯示面板中由于外界環境光的反射率高而影響顯示效果的問題。本發明的一種陣列基板，具有陣列排布的多個像素單元，每個所述像素單元具有顯示區以及圍繞所述顯示區且與所述顯示區連接的非顯示區，每個所述像素單元包括：襯底；顯示結構，位于所述襯底上，用于向遠離所述襯底的一側發光；防反光層，位于所述襯底上，且位于所述非顯示區中，用于吸收來自外界射的光。

技術領域

本發明屬于顯示技術領域，具體涉及一種陣列基板及其制備方法、顯示面板。

背景技術

隨著顯示技術的不斷發展以及用戶對顯示面板的要求不斷提高，顯示面板的顯示性能也在逐步改進。

現有技術中的一種顯示面板，具有陣列排布的多個像素單元，相鄰兩像素單元之間設置有黑矩陣，然而為了保證顯示區的出光率，該黑矩陣并未完全覆蓋非顯示區，即黑矩陣和顯示區之間的具有較小的間隔。當外界環境光照射到該顯示面板時，黑矩陣能夠避免在外界環境光在部分非顯示區中發生反射。

然而，外界環境光會在該顯示面板的黑矩陣與顯示區之間的間隔區中發生反射，從而使得該顯示面板的外界環境光的反射率較高，進而影響顯示效果。

發明內容

本發明至少部分解決現有的顯示面板的外界環境光的反射率高的問題，提供一種減少外界環境光的反射率的陣列基板。

解決本發明技術問題所采用的技術方案是一種陣列基板，具有陣列排布的多個像素單元，每個所述像素單元具有顯示區以及圍繞所述顯示區且與所述顯示區連接的非顯示區，每個所述像素單元包括：

襯底；

顯示結構，位于所述襯底上，用于向遠離所述襯底的一側發光；

防反光層，位于所述襯底上，且位于所述非顯示區中，用于吸收來自外界射的光。

進一步優選的是，每個所述像素單元還包括：黑矩陣，位于所述顯示結構遠離所述襯底的一側，所述黑矩陣與所述顯示區之間具有間隔；所述防反光層比所述黑矩陣更靠近所述顯示區，且所述防反光層在所述襯底上的正投影與所述黑矩陣在所述襯底上的正投影連接。

進一步優選的是，所述防反光層的至少一個邊緣沿著所述顯示區和所述非顯示區的邊界分布。

進一步優選的是，所述顯示結構包括：反射電極層，位于所述襯底上，所述反射電極層由所述顯示區延伸至所述非顯示區，所述防反光層位于所述反射電極層遠離所述襯底的一側。

進一步優選的是，每個所述像素單元還包括：像素限定層，至少部分位于所述反射電極層遠離所述襯底的一側，且位于所述非顯示區中，用于限定所述顯示區；所述防反光層位于所述像素限定層和所述反射電極層之間。

進一步優選的是，所述顯示結構還包括：發光層，至少部分位于所述反射電極層遠離所述襯底的一側；透明電極層，至少部分位于所述發光層遠離所述襯底的一側。

進一步優選的是，每個所述像素單元還包括：第一保護層，位于所述反射電極層和所述發光層之間。

進一步優選的是，每個所述像素單元還包括：第二保護層，位于所述反射電極層和所述襯底之間。

進一步優選的是，所述防反光層的形成材料包括黑色金屬氧化，所述反射電極層的形成材料包括銀或鋁中的任意一種。

解決本發明技術問題所采用的技術方案是一種陣列基板的制備方法，基于上述的陣列基板，所述陣列基板具有陣列排布的多個像素單元，每個所述像素單元具有顯示區以及圍繞所述顯示區且與所述顯示區連接的非顯示區，所述方法包括：

在襯底上形成防反光層以及顯示結構，其中，所述防反光層位于所述非顯示區中，用于吸收來自外界射的光。