[發明專利]陣列基板及其制備方法、顯示面板

有效

• 申請號: 202110251698.4
• 申請日: 2021-03-08
• 公開（公告）號: CN113035923B
• 公開（公告）日: 2023-04-18
• 發明（設計）人: 孟秋華;劉明
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: H10K59/126
• 分類號: H10K59/126;H10K59/12;H10K50/86;H10K71/00
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 柴亮;姜春咸

1.一種陣列基板，其特征在于，具有陣列排布的多個像素單元，每個所述像素單元具有顯示區以及圍繞所述顯示區且與所述顯示區連接的非顯示區，每個所述像素單元包括：

襯底；

顯示結構，位于所述襯底上，用于向遠離所述襯底的一側發光；

防反光層，位于所述襯底上，且位于所述非顯示區中，用于吸收來自外界射的光；

所述顯示結構包括：

反射電極層，位于所述襯底上，所述反射電極層由所述顯示區延伸至所述非顯示區，所述防反光層位于所述反射電極層遠離所述襯底的一側；

所述顯示結構還包括：

發光層，至少部分位于所述反射電極層遠離所述襯底的一側；

透明電極層，至少部分位于所述發光層遠離所述襯底的一側；

每個所述像素單元還包括：第一保護層，位于所述反射電極層和所述發光層之間，所述第一保護層與對應的顯示單元中的防反光層同層設置；所述防反光層包括黑金屬氧化層，所述第一保護層為對黑金屬氧化層進行透明化處理后形成的透光膜層；

每個所述像素單元還包括：像素限定層，至少部分位于所述反射電極層遠離所述襯底的一側，且位于所述非顯示區中，用于限定所述顯示區；所述防反光層位于所述像素限定層和所述反射電極層之間，且所述防反光層的至少一個邊緣沿著所述顯示區和所述非顯示區的邊界分布。

2.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，每個所述像素單元還包括：

黑矩陣，位于所述顯示結構遠離所述襯底的一側，所述黑矩陣與所述顯示區之間具有間隔；

所述防反光層比所述黑矩陣更靠近所述顯示區，且所述防反光層在所述襯底上的正投影與所述黑矩陣在所述襯底上的正投影連接。

3.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，每個所述像素單元還包括：第二保護層，位于所述反射電極層和所述襯底之間。

4.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述反射電極層的形成材料包括銀或鋁中的任意一種。

5.一種陣列基板的制備方法，其特征在于，基于權利要求1至4中任意一項所述的陣列基板，所述陣列基板具有陣列排布的多個像素單元，每個所述像素單元具有顯示區以及圍繞所述顯示區且與所述顯示區連接的非顯示區，所述方法包括：

在襯底上形成防反光層以及顯示結構，其中，所述防反光層位于所述非顯示區中，用于吸收來自外界射的光；

所述顯示結構包括：

反射電極層，位于所述襯底上，所述反射電極層由所述顯示區延伸至所述非顯示區，所述防反光層位于所述反射電極層遠離所述襯底的一側；

所述顯示結構還包括：

發光層，至少部分位于所述反射電極層遠離所述襯底的一側；

透明電極層，至少部分位于所述發光層遠離所述襯底的一側；

每個所述像素單元還包括：第一保護層，位于所述反射電極層和所述發光層之間，所述第一保護層與對應的顯示單元中的防反光層同層設置；

在襯底上形成防反光層以及顯示結構包括：

在所述襯底上形成反射電極層；

在所述襯底上形成防反光材料層；

在所述防反光材料層遠離所述襯底的一側形成像素限定層，所述像素限定層用于限定所述顯示區；

以所述像素限定層為掩膜版對所述防反光材料層進行改性處理，以使位于所述顯示區的防反光材料層透光，以形成所述防反光層和所述第一保護層；

依次形成發光層、透明電極層以及黑矩陣；

其中，所述防反光層包括黑金屬氧化層，所述第一保護層為對黑金屬氧化層進行透明化處理后形成的透光膜層。

6.根據權利要求5所述的制備方法，其特征在于，所述透明電極層的透光率為40%至60%。

7.一種顯示面板，其特征在于，包括權利要求1至4中任意一項所述的陣列基板。