[發明專利]一種等離子表面清潔裝置

在審

• 申請號: 202110247600.8
• 申請日: 2021-03-06
• 公開（公告）號: CN112820619A
• 公開（公告）日: 2021-05-18
• 發明（設計）人: 高佳
• 申請（專利權）人: 東莞市峰谷納米科技有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 廣州市一新專利商標事務所有限公司 44220
• 代理人: 劉興耿

本發明是一種等離子表面清潔裝置，包括主機體，所述主機體一側設有真空泵組，所述主機體兩端還設有惰性氣體箱及活性氣體箱，所述惰性氣體箱與所述活性氣體箱一側分別設有高壓電源及電控箱，所述惰性氣體箱與所述活性氣體箱通過管道與所述主機體相通，所述主機體內部中空形成腔體，本發明中采用石墨作為電極對活性氣體與惰性氣體進行電離，石墨電極與活性氣體反應后生成氣體，不會對被清洗半導體表面造成殘留；被清洗零件以轉動的方式進入不同氛圍進行清洗，大幅度提升了清洗效果，而且結構簡單，使用方便；被清洗零件可以轉動，能夠使被清洗零件的不同位置直面等離子體，確保零件表面被清洗干凈。

技術領域

本發明涉及半導體清洗技術領域，特別涉及一種等離子表面清潔裝置。

背景技術

等離子體是物質的一種存在狀態，通常物質以固態、液態、氣態三種狀態存在，但在一些特殊的情況下有第四種狀態存在，如地球大氣中電離層中的物質，等離子體狀態中存在下列物質：處于高速運動狀態的電子；處于激活狀態的中性原子、分子、原子團（自由基）；離子化的原子、分子；未反應的分子、原子等，但物質在總體上仍保持電中性狀態，在真空腔體里，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產生高能量的無序的等離子體，通過等離子體轟擊被清洗產品表面．以達到清洗目的。

現有的等離子表面清潔裝置多采用金屬電極，金屬電極在對活性氣體電離時，容易與活性氣體發生反應，反應后的氧化物對產品表面造成殘留，而且持續對固定位置進行清洗，不能夠對被清洗零件進行全面清洗。

發明內容

有鑒于此，本發明旨在提出一種等離子表面清潔裝置，以解決現有的等離子表面清潔裝置多采用金屬電極，金屬電極在對活性氣體電離時，容易與活性氣體發生反應，反應后的氧化物對半導體表面造成殘留，而且持續對固定位置進行清洗，不能夠對被清洗零件進行全面清洗的現象。

為達到上述目的，本發明的技術方案是這樣實現的：

一種等離子表面清潔裝置，包括主機體，所述主機體內部中空形成腔體，所述腔體內部設置有隔離板，用于將所述腔體隔離成兩部分，所述腔體中設置有轉動架，所述腔體中設置有石墨電極，所述石墨電極與高壓電源電連接，所述主機體分別與真空泵組、活性氣體箱、惰性氣體箱通過管道連接，所述主機體一側設置有電控箱，所述電控箱分別與所述真空泵組、所述活性氣體箱、所述惰性氣體箱電連接。

進一步的，所述石墨電極共有兩個，分別設置在所述腔體兩側。

進一步的，所述活性氣體箱與所述惰性氣體箱的出氣孔正對所述石墨電極。

進一步的，所述活性氣體箱與所述惰性氣體箱與所述主機體連接的管道上均設置有電磁閥，所述電磁閥與所述電控箱電連接。

進一步的，所述轉動架通過軸與轉動電機連接，所述轉動架上方設置有密封板，所述密封板上開有孔，所述轉動架的軸通過孔與所述轉動電機連接。

進一步的，所述轉動架上設置有多個粘性貼。

進一步的，所述隔離板端部設置有柔性接頭，所述柔性接頭與轉動架接觸連接。

進一步的，所述真空泵組共有兩個，分別通過管道連接所述隔離板兩側的所述腔體。

相對于現有技術，本發明所述的一種等離子表面清潔裝置具有以下優勢：

1、采用石墨作為電極對活性氣體與惰性氣體進行電離，石墨電極與活性氣體反應后生成氣體，不會對被清洗半導體表面造成殘留；

2、被清洗零件以轉動的方式進入不同氛圍進行清洗，大幅度提升了清洗效果，而且結構簡單，使用方便；

3、被清洗零件可以轉動，能夠使被清洗零件的不同位置直面等離子體，確保零件表面被清洗干凈。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例的技術方案，下文中將對本發明實施例的附圖進行簡單介紹。其中，附圖僅僅用于展示本發明的一些實施例，而非將本發明的全部實施例限制于此。