[發(fā)明專利]一種高光亮復(fù)合鍍鎳層有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110247092.3 | 申請日: | 2021-03-05 |
| 公開(公告)號: | CN112981500B | 公開(公告)日: | 2022-05-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 趙琳琳 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市康恒電子有限公司 |
| 主分類號: | C25D15/00 | 分類號: | C25D15/00;C25D3/12;C01G39/06;C01B33/12;B82Y40/00;B82Y30/00 |
| 代理公司: | 深圳市中科創(chuàng)為專利代理有限公司 44384 | 代理人: | 尹益群 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市龍崗*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 光亮 復(fù)合 鍍鎳層 | ||
1.一種高光亮復(fù)合鍍鎳層,其特征在于所述鍍鎳層的光亮度GU值為249±15,硬度923HV±50Hv,摩擦系數(shù)為0.27-0.35,所述鍍鎳層的表面垂直的斷面中的無機(jī)納米改性顆粒的面積率為1~15%,所述無機(jī)納米改性顆粒為包覆有氧化硅的硫化鉬材料,所述無機(jī)納米改性顆粒的制備方法如下:
(1)將1.5-2.5 g硫化鉬置于三口燒瓶中,加入45 -50mL質(zhì)量分?jǐn)?shù)為98%的H2SO4和10-15mL質(zhì)量分?jǐn)?shù)為65%-67%的HNO3,密封磁力攪拌15-20 min,水浴加熱于100℃回流處理4-6h,去離子水洗滌至中性,空氣爐中60-70℃干燥12-18h,得到混酸氧化處理的硫化鉬顆粒;
(2)稱取1-1.5g的步驟(1)處理的硫化鉬顆粒加入到三口瓶中,在三口瓶加入1-2ml三乙胺,然后緩慢逐滴加入50-75ml、5-15mmol/L的偶氮類接枝劑溶液,N2保護(hù),室溫條件下攪拌18-24h,使用甲醇多次洗滌,并使用去離子水-乙醇配制2-5wt.%的接枝硫化鉬顆粒水溶液,所述去離子水和乙醇體積比為1:(2-3);
所述偶氮類接枝劑的結(jié)構(gòu)如下:
;
(3)將上述接枝硫化鉬顆粒水溶液置于無內(nèi)襯水熱反應(yīng)釜中,加入適量氨水調(diào)節(jié)pH值為7.5-8,使用純氧氣排空,并使用純氧加壓,使得水熱反應(yīng)釜的壓力為1-1.1Mpa,關(guān)閉純氧進(jìn)氣閥,密封水熱反應(yīng)釜,加熱至180-200℃,于攪拌條件下持續(xù)反應(yīng)24-36h,自然冷卻;
(4)去離子水洗滌,焙燒,獲得氧化硅包覆的硫化鉬改性顆粒。
2.如權(quán)利要求1所述的一種高光亮復(fù)合鍍鎳層,其特征在于所述鍍鎳層的表面垂直的斷面中的無機(jī)納米改性顆粒的面積率為2~10%。
3.如權(quán)利要求1所述的一種高光亮復(fù)合鍍鎳層,其特征在于所述鍍鎳層的表面垂直的斷面中的無機(jī)納米改性顆粒的面積率為3~5%。
4.如權(quán)利要求1所述的一種高光亮復(fù)合鍍鎳層,其特征在于所述鍍鎳層制備過程中使用的鍍液組成如下:硫酸鎳230-240g/L、氯化鎳30-40g/L、硼酸30-35g/L、潤濕劑0.02-0.05g/L、初級光亮劑0.6-0.8g/L、次級光亮劑0.2-0.4g/L、輔助光亮劑0.15-0.25g/L和1-20wt.%無機(jī)納米改性顆粒懸浮溶劑。
5.如權(quán)利要求4所述的一種高光亮復(fù)合鍍鎳層,其特征在于所述初級光亮劑為十二烷基二苯醚二磺酸鈉,所述次級光亮劑為鄰氯苯甲醛,所述輔助光亮劑為亞甲基二萘磺酸鈉。
6.如權(quán)利要求4所述的一種高光亮復(fù)合鍍鎳層,其特征在于所述鍍鎳層制備過程中的工藝參數(shù)為pH值4-6,電鍍參數(shù):陰極電流密度2.5-3A/dm2,攪拌速度5-15rpm,時(shí)間30-50min,溫度40-50℃。
7.如權(quán)利要求1所述的一種高光亮復(fù)合鍍鎳層,其特征在于所述焙燒的溫度為200-300℃,氣氛為空氣。
8.如權(quán)利要求1所述的一種高光亮復(fù)合鍍鎳層,其特征在于所述硫化鉬的粒徑為50-150nm,純度大于99.8%。
9.如權(quán)利要求1所述的一種高光亮復(fù)合鍍鎳層,其特征在于所述水熱過程為程序升溫,由常溫5-6℃/min升至180-200℃。
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