[發明專利]流體溫度控制裝置及光刻設備

在審

• 申請號: 202110243411.3
• 申請日: 2021-03-05
• 公開（公告）號: CN113359896A
• 公開（公告）日: 2021-09-07
• 發明（設計）人: 張利;周二虎;曹紅波
• 申請（專利權）人: 北京華卓精科科技股份有限公司
• 主分類號: G05D23/20
• 分類號: G05D23/20;F16L41/03;F16L41/16;F16K11/02;F16K11/22;F17D1/08;F17D3/01;F17D3/18;G03F7/20;H05K7/20;H02K9/193
• 代理公司: 北京薈英捷創知識產權代理事務所(普通合伙) 11726
• 代理人: 李夢寧

本發明提供了一種流體溫度控制裝置及光刻設備，涉及半導體加工領域，為解決現有光刻設備無法滿足不同部件的不同冷卻需求的問題而設計。該流體溫度控制裝置包括溫水分流系統、冷水分流系統和控制閥，溫水分流系統包括第一溫水入口、第一溫水出口和第二溫水出口，冷水分流系統包括第一冷水入口、第一冷水出口和第二冷水出口；控制閥包括第二溫水入口、第二冷水入口和第一混合水出口，第二溫水入口與第二溫水出口連通，第二冷水入口與第二冷水出口連通，第一混合水出口被配置為向光刻設備的第三組件通入溫水與冷水的混合水。本發明提供的流體溫度控制裝置及光刻設備能夠滿足不同部件的不同冷卻需求。

技術領域

本發明涉及半導體加工領域，具體而言，涉及一種流體溫度控制裝置及光刻設備。

背景技術

在新一代光刻設備中，有許多部件(如：電控箱、電機和線纜臺等)都需要進行水冷。根據實際工況的需要，一些部件需要恒定溫度的冷卻水冷卻即可，但是有一些部件，根據光刻設備工作的需要，其使用狀態經常發生變化，時而需要高速運轉，此時，該部件的散熱量非常大；時而又處于非工作狀態，此時，該部件基本沒有散熱。但是，即使是溫度的微小變化，也會引起較大的加工誤差，因此，需要光刻設備的內部保持在恒定的溫度。故，對于這些部件，需要根據其實際工作狀態為其提供不同溫度的冷卻水，當這些部件高速運轉、散熱量大時，就為其提供溫度較低的冷卻水，當這些部件低速運轉或者處于非工作狀態時，此時散熱量較小，就為其提供溫度較高的冷卻水，以保證周圍環境溫度的穩定性，從而保證光刻設備的加工精度。

然而，目前的光刻設備中，無法滿足不同部件的不同冷卻需求。

發明內容

本發明的第一個目的在于提供一種流體溫度控制裝置，以解決現有光刻設備無法滿足不同部件的不同冷卻需求的技術問題。

本發明提供的流體溫度控制裝置，包括溫水分流系統、冷水分流系統和控制閥，其中，所述溫水分流系統包括第一溫水入口以及均與所述第一溫水入口連通的第一溫水出口和第二溫水出口，所述冷水分流系統包括第一冷水入口以及均與所述第一冷水入口連通的第一冷水出口和第二冷水出口，所述第一溫水出口被配置為向光刻設備的第一組件通入溫水，所述第一冷水出口被配置為向光刻設備的第二組件通入冷水；所述控制閥包括第二溫水入口、第二冷水入口和與所述第二溫水入口、所述第二冷水入口二者連通的第一混合水出口，所述第二溫水入口與所述第二溫水出口連通，所述第二冷水入口與所述第二冷水出口連通，所述第一混合水出口被配置為向光刻設備的第三組件通入溫水與冷水的混合水。

進一步地，所述控制閥還包括第一閥芯和第二閥芯，所述第一閥芯設置在所述第二溫水入口處，所述第一閥芯被配置為控制所述第二溫水入口的通流面積，所述第二閥芯設置在所述第二冷水入口處，所述第二閥芯被配置為控制所述第二冷水入口的通流面積。

進一步地，所述冷水分流系統包括第一分流塊，所述第一分流塊內設置有冷水流道和混合水流道，其中，所述冷水流道的入口形成所述第一冷水入口，所述冷水流道的出口形成所述第一冷水出口；所述混合水流道的入口通過連接管與所述第一混合水出口連通，所述第一分流塊還開設有與所述混合水流道連通的第二混合水出口，所述第一混合水出口通過所述連接管、所述第二混合水出口向所述第三組件通入混合水。

進一步地，所述第一混合水出口處設置有直角接頭，所述連接管通過所述直角接頭連接在所述第一混合水出口處。

進一步地，所述流體溫度控制裝置還包括第一溫度傳感器，所述第一溫度傳感器安裝于所述第一分流塊，且所述第一溫度傳感器的感測部伸入所述混合水流道。

進一步地，所述流體溫度控制裝置還包括第二溫度傳感器，所述第二溫度傳感器安裝于所述第一分流塊，且所述第二溫度傳感器的感測部伸入所述冷水流道。

進一步地，所述溫水分流系統包括第二分流塊，所述第二分流塊內設置有溫水流道和與所述溫水流道連通的分支流道，所述溫水流道的入口形成所述第一溫水入口，所述溫水流道的出口形成所述第一溫水出口，所述分支流道的出口與所述第二溫水入口連通。