[發明專利]一種高效ITO廢靶回收再利用的方法

在審

• 申請號: 202110242917.2
• 申請日: 2021-03-05
• 公開（公告）號: CN112960690A
• 公開（公告）日: 2021-06-15
• 發明（設計）人: 唐智勇
• 申請（專利權）人: 株洲火炬安泰新材料有限公司
• 主分類號: C01G19/02
• 分類號: C01G19/02;C01G15/00;C22B7/00;C22B58/00
• 代理公司: 長沙鑫澤信知識產權代理事務所(普通合伙) 43247
• 代理人: 刁飛

本發明公開了一種高效ITO廢靶回收再利用的方法，屬于ITO靶材回收技術領域，該方法包括以下步驟：S1、清洗：用丙酮擦拭ITO廢靶表面，然后用超聲波清洗干凈，干燥后備用；S2、電弧氣化：將清洗后的ITO廢靶放入直流電弧氣化反應室中，通入100?200V直流電壓產生的電弧，以將ITO廢靶熔化、氣化；S3、粉末回收：將氣化后的ITO廢靶驟冷，然后經分級收粉系統，得到ITO粉末。本發明In的回收率較高，且具有高效、環保節能等優點。

技術領域

本發明涉及ITO靶材回收技術領域，更具體地說，它涉及一種高效ITO廢靶回收再利用的方法。

背景技術

銦錫氧化物ITO是重要的半導體陶瓷材料，主要成分為In₂O₃、SnO₂，通過四價錫摻雜到氧化銦晶格中而增強其導電性。ITO薄膜因其優良的透明、導電、隔熱以及紅外反射、雷達波透過等綜合性能，在光電子、傳感器、太陽能和寬頻譜隱身等高技術領域具有廣泛應用前景，還可作為電化學反應的電極有效分解工業廢物。采用ITO靶材通過真空鍍膜等途徑制備的ITO薄膜已成為TFT-LCD、PDP等平板顯示器不可或缺的關鍵材料，也促使ITO靶材發展成令人矚目的戰略性高科技產業。

工業應用中，ITO靶材濺射鍍膜的利用率一般僅為30-40％，剩余的部分成為廢靶材，再加上靶材成型過程中產生的邊角料、切削、廢品，利用廢靶材回收金屬In成為再生In的主要來源，占再生In總量的50-60％。因此，研究經濟、高效的ITO廢靶回收技術很有意義。

傳統ITO廢靶回收技術的核心在于In、Sn的有效分離。利用In、Sn性質的差別，將其分離的方法有電解、水解沉淀、堿法分離、置換等方法，這些方法都存在In、Sn分離不徹底，效率較低等不足。靶材中的貴金屬In不能夠完全回收，并且金屬Sn也會以廢料的形式被浪費，還會污染空氣。

有鑒于此，本發明提供一種高效ITO廢靶回收再利用的方法。

發明內容

針對現有技術存在的不足，本發明的目的在于提供一種高效ITO廢靶回收再利用的方法，具有高效、環保節能等優點。

為實現上述目的，本發明提供了如下技術方案：

一種高效ITO廢靶回收再利用的方法，包括以下步驟：

S1、清洗

用丙酮擦拭ITO廢靶表面，然后用超聲波清洗干凈，干燥后備用；

S2、電弧氣化

將清洗后的ITO廢靶放入直流電弧氣化反應室中，通入100-200V直流電壓產生的電弧，以將ITO廢靶熔化、氣化；

S3、粉末回收

將氣化后的ITO廢靶驟冷，然后經分級收粉系統，得到ITO粉末。

進一步優選為：在步驟S1中，通過60-70℃的純凈水對ITO廢靶超聲波清洗30-40min。

進一步優選為：在步驟S1中，所述ITO廢靶純度為99.99％，In₂O₃/SnO₂的質量比為9∶1。

進一步優選為：在步驟S3中，所述分級收粉系統包括依次管道連接的沉降器、風機、旋風收粉器和布袋收粉器。

進一步優選為：所述布袋收粉器包括支腿、固定塊、支撐桿、筒體、出粉管、排灰機構、濾袋、底筒和進氣管；

所述筒體包括固定筒體及與所述固定筒體上下滑動配合的活動筒體，所述濾袋包括固定濾袋和活動濾袋，所述固定濾袋固定在所述固定筒體內，所述活動濾袋可拆卸連接在所述活動濾袋下端，以使所述活動濾袋與所述固定濾袋連通；