[發明專利]太陽能電池制備方法

有效

• 申請號: 202110238073.4
• 申請日: 2021-03-04
• 公開（公告）號: CN113036002B
• 公開（公告）日: 2023-04-07
• 發明（設計）人: 請求不公布姓名
• 申請（專利權）人: 蘇州聯諾太陽能科技有限公司
• 主分類號: H01L31/18
• 分類號: H01L31/18;H01L31/0236
• 代理公司: 華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 郭鳳杰

1.一種太陽能電池制備方法，其特征在于，包括：

提供襯底；

對所述襯底進行制絨并進行第一次清洗，形成制絨片；

對所述制絨片進行劃片，形成劃片槽；

對經過劃片后的所述制絨片進行第二次清洗，去除劃片時產生的熔渣；

在經過劃片以及第二次清洗后的所述制絨片上形成電池膜層，從而形成電池片；

沿所述劃片槽對所述電池片進行裂片，形成多片所述太陽能電池；

在劃片前進行所述第一次清洗，所述第一次清洗包括形成疏水潔凈表面，在劃片后進行所述第二次清洗；

設置位于中間區域的劃片槽的深度大于位于邊緣區域的劃片槽的深度。

2.根據權利要求1所述的太陽能電池制備方法，其特征在于，對經過劃片后的所述制絨片進行第二次清洗，去除劃片時產生的熔渣的同時，還去除劃片時產生的微裂紋。

3.根據權利要求2所述的太陽能電池制備方法，其特征在于，所述襯底為硅片，所述第二次清洗的清洗液包括CP溶液。

4.根據權利要求3所述的太陽能電池制備方法，其特征在于，所述清洗液還包括SC1溶液、SC2溶液以及DHF溶液。

5.根據權利要求4所述的太陽能電池制備方法，其特征在于，所述對經過劃片后的所述制絨片進行第二次清洗，包括：

將經過劃片后的所述制絨片依次放入所述SC1溶液、SC2溶液、CP溶液以及DHF溶液中進行清洗。

6.根據權利要求1所述的太陽能電池制備方法，其特征在于，所述劃片槽的深度小于等于所述襯底厚度的90％。

7.根據權利要求6所述的太陽能電池制備方法，其特征在于，所述劃片槽的深度小于等于所述襯底厚度的50％。

8.根據權利要求1所述的太陽能電池制備方法，其特征在于，各所述劃片槽的深度由中間向兩邊逐漸降低。

9.根據權利要求1所述的太陽能電池制備方法，其特征在于，所述在經過劃片以及第二次清洗后的所述制絨片上形成電池膜層，從而形成電池片，包括：

在經過劃片、清洗后的所述制絨片上形成非晶硅膜層，所述非晶硅膜層與所述制絨片形成異質結；

在所述非晶硅膜層上形成透明導電膜層；

在所述透明導電膜層上形成電極層。