[發明專利]一種電化學沉積金屬圖形的方法及設備

在審

• 申請號: 202110237208.5
• 申請日: 2021-03-03
• 公開（公告）號: CN112864281A
• 公開（公告）日: 2021-05-28
• 發明（設計）人: 陳偉文;楊與勝
• 申請（專利權）人: 福建金石能源有限公司
• 主分類號: H01L31/18
• 分類號: H01L31/18;H01L31/0224
• 代理公司: 北京中濟緯天專利代理有限公司 11429
• 代理人: 張磊

本發明涉及一種電化學沉積金屬圖形的方法，它具體步驟包括A.水平排片；B.貼膜成串；C.水平曝光；D.顯影成形；E.電化學沉積；F.退膜蝕刻；G.清潔成品。本發明的目的在于提供一種電化學沉積金屬圖形的方法及設備，其能夠整線水平生產，破片率低，可實現全自動化程度高，產能大，生產作業環境良好。

技術領域

本發明涉及太陽能電池領域，尤其涉及一種電化學沉積金屬圖形的方法及設備。

背景技術

隨著光伏產業的迅速發展，太陽能電池產業化制備技術越來越多樣化，且電池制造成本也低于傳統高溫印刷工藝。利用電化學沉積金屬的工藝便是一種工藝簡單的方法，可以在太陽能電池表面形成銅金屬電極，且電阻率遠低于目前傳統的銀漿印刷電極，具有良好的接觸電阻、填充因子等；同時銅金屬電極形貌具有較好的可塑性，較好的高寬比等。

銅金屬電極制作一般采用龍門電鍍、垂直連續電鍍等，此類設備需要較大的占地面積，同時需借助較復雜的治具方能實現金屬沉積。太陽能電池片厚度一般為120～180um，在采用治具的過程容易產生破片。

發明內容

本發明的目的在于提供一種電化學沉積金屬圖形的方法及設備，其能夠整線水平生產，破片率低，可實現全自動化程度高，產能大，生產作業環境良好。

本發明的目的通過如下技術方案實現：

一種電化學沉積金屬圖形的方法，它具體步驟包括

A.水平排片：將基片沿輸送方向依序水平排布；

B.貼膜成串：將導電帶和感光膜帶貼合在經步驟A水平排片處理的基片上，使基片成串；

C.水平曝光：基片經步驟B貼膜成串處理后，對每個基片區域進行曝光，完成圖形轉移；

D.顯影成形：將經步驟C水平曝光處理的基片進行水平顯影，感光膜帶在基片上形成帶有待電化學沉積的鏤空圖形的干膜；

E.電化學沉積：將經步驟D顯影成形處理的基片水平送入電化學沉積設備，通過導電帶連接電化學沉積設備的陰極，和電化學沉積設備的陽極形成導電閉環，進行水平電化學沉積；

F.退膜蝕刻：將經步驟E電化學沉積處理的基片進行干膜去除，并回收導電帶；

G.清潔成品：將經步驟F退膜蝕刻處理的基片進行清洗并干燥。

一種電化學沉積金屬圖形的設備，它包括貼膜設備、與貼膜設備出片端相連的曝光設備、與曝光設備出片端相連的顯影設備、與顯影設備出片端相連的金屬沉積設備、與金屬沉積設備出片端相連的退膜蝕刻設備以及與退膜蝕刻設備出片端相連的清潔設備；所述貼膜設備包括沿輸送方向延伸且能分別貼設于基片表面兩側的導電帶，所述導電帶位于感光膜和基片之間。

較之現有技術而言，本發明的優點在于：在生產過程中僅使用兩條導電帶，且能具有輔助，具占地面積小，產能大，藥水配置量少等優點。在設備設計上，可以采用密封設計，將電沉積過程產生的氣體及時排出處理，不影響生產作業環境。

附圖說明

圖1是本發明一種電化學沉積金屬圖形的設備的實施例的結構簡圖。

圖2是一種貼膜結構實施例示意圖。

圖3是導電帶與基片的配合結構示意圖。

圖4是一種金屬沉積設備的實施例示意圖。

圖5是圖4的剖切結構示意圖。

圖6是陰極固定組件與導電帶的配合結構示意圖。

圖7是一種沉積傳輸組件的實施例示意圖。

具體實施方式

下面結合說明書附圖和實施例對本發明內容進行詳細說明：