[發明專利]掩膜版、硅基OLED顯示面板及其制備方法

有效

• 申請號: 202110231858.9
• 申請日: 2021-03-02
• 公開（公告）號: CN113036064B
• 公開（公告）日: 2022-11-29
• 發明（設計）人: 張久杰;季淵
• 申請（專利權）人: 南京昀光科技有限公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;H01L51/00;H01L27/32;B41M5/00
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 孟金喆

1.一種硅基OLED顯示面板的制備方法，其特征在于，包括：利用掩膜版作為掩膜，在像素限定層的開口中形成發光層，其中，至少兩個所述開口中所述發光層的顏色不同；

所述掩膜版包括：掩膜版本體，所述掩膜版本體包括開孔區，所述開孔區包括多個開孔，所述開孔采用激光打孔工藝形成；

所述開孔的側壁與所述掩膜版本體的設定表面的角度等于90度，其中，所述設定表面為所述掩膜版本體的垂直于所述掩膜版厚度方向的表面；

所述掩膜版的厚度與所述開孔的尺寸負相關；所述掩膜版的厚度與開孔的數量正相關；

所述掩膜版的厚度大于或等于20μm；

所述利用掩膜版作為掩膜，包括：

將整面連續無開孔的待處理版體焊接于張網框架，以使所述待處理版體覆蓋形成有電極層和像素限定層的基板；

在正對于所述像素限定層的對應于設定顏色發光層的開口位置處，采用激光打孔工藝形成開孔得到所述設定顏色發光層對應的所述掩膜版。

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述利用掩膜版作為掩膜在像素限定層的開口中形成發光層，包括：

所述利用掩膜版作為掩膜，采用噴墨打印工藝在像素限定層的開口中形成發光層。

3.根據權利要求2所述的硅基OLED顯示面板的制備方法，其特征在于，所述發光層至少包括紅色發光層、綠色發光層和藍色發光層；所述利用掩膜版作為掩膜，采用噴墨打印工藝在像素限定層的開口中形成發光層，包括：

在所述掩膜版遠離所述基板的一側，采用噴墨打印裝置的打印噴頭向所述開口中打印所述設定顏色發光層；

所述設定顏色發光層為紅色發光層、綠色發光層和藍色發光層中的任一種。

4.根據權利要求3所述的硅基OLED顯示面板的制備方法，其特征在于，所述噴墨打印裝置包括多個所述打印噴頭，各所述打印噴頭線性排布。

5.根據權利要求3所述的硅基OLED顯示面板的制備方法，其特征在于，所述像素限定層的開口的尺寸為1-2微米；

所述掩膜版的開孔尺寸小于所述像素限定層的開口的尺寸。

6.一種硅基OLED顯示面板，其特征在于，采用權利要求1-5任一項所述的硅基OLED顯示面板的制備方法制備。