[發(fā)明專利]掩膜版清洗運送系統(tǒng)和方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110231062.3
• 申請日: 2021-03-02
• 公開（公告）號: CN113025986A
• 公開（公告）日: 2021-06-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張久杰;季淵
• 申請（專利權(quán)）人: 南京昀光科技有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/24;C23C14/04;B08B3/08;B08B3/12;B08B13/00;B65G49/00
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 孟金喆

1.一種掩膜版清洗運送系統(tǒng)，其特征在于，包括：中轉(zhuǎn)腔室和清洗腔室；

所述清洗腔室中設(shè)置有傳送機構(gòu)；所述清洗腔室中設(shè)置有清洗機構(gòu)；

所述傳送機構(gòu)用于將待清洗的所述掩膜版從所述中轉(zhuǎn)腔室傳送至清洗腔室供所述清洗機構(gòu)清洗；以及用于通過將清洗后的所述掩膜版從所述清洗腔室傳送至所述中轉(zhuǎn)腔室；

其中，所述中轉(zhuǎn)腔室與蒸鍍機的設(shè)定腔室密閉連通。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜版清洗運送系統(tǒng)，其特征在于，所述傳送機構(gòu)包括第一抓取單元和第二抓取單元；所述傳送機構(gòu)用于通過所述第一抓取單元抓取所述中轉(zhuǎn)腔室中待清洗的掩膜版，并將待清洗的所述掩膜版?zhèn)魉椭燎逑辞皇夜┧銮逑礄C構(gòu)清洗；以及用于通過所述第二抓取單元抓取清洗后的掩膜版，并將清洗后的所述掩膜版?zhèn)魉椭了鲋修D(zhuǎn)腔室。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩膜版清洗運送系統(tǒng)，其特征在于，所述清洗腔室包括傳遞區(qū)和清洗區(qū)，所述傳送機構(gòu)包括位于傳遞區(qū)的第一傳送模塊和位于所述傳送區(qū)和所述清洗區(qū)的第二傳送模塊；所述清洗腔室中還設(shè)置有第一承載機構(gòu)，所述第一傳送模塊包括所述第一抓取單元和所述第二抓取單元；

所述第一傳送模塊用于通過所述第一抓取單元從所述中轉(zhuǎn)腔室抓取待清洗的所述掩膜版，并將待清洗的所述掩膜版?zhèn)魉椭了龅谝怀休d機構(gòu)；

所述第二傳送模塊用于將承載有待清洗的所述掩膜版的所述第一承載機構(gòu)傳送至所述清洗區(qū)，并在清洗后將承載有清洗后的所述掩膜版的所述第一承載機構(gòu)傳送至所述傳遞區(qū)；

所述第一傳送模塊還用于通過所述第二抓取單元從所述傳遞區(qū)的第一承載機構(gòu)抓取清洗后的所述掩膜版，并將所述清洗后的所述掩膜版?zhèn)魉椭了鲋修D(zhuǎn)腔室。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩膜版清洗運送系統(tǒng)，其特征在于，所述掩膜版清洗運送系統(tǒng)還包括位于傳遞區(qū)的旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，所述旋轉(zhuǎn)機構(gòu)用于在所述第一傳送模塊將待清洗的所述掩膜版沿第一方向放置在所述第一承載機構(gòu)后，驅(qū)動所述第一承載機構(gòu)旋轉(zhuǎn)第一設(shè)定角度，以使待清洗的所述掩膜版沿第二方向放置；

以及用于在所述第二傳送模塊將第一承載機構(gòu)傳送至所述旋轉(zhuǎn)機構(gòu)后，驅(qū)動所述第一承載機構(gòu)旋轉(zhuǎn)第二設(shè)定角度，以使清洗后的所述掩膜版沿第一方向放置；

其中，所述掩膜版沿所述第一方向放置時，所述掩膜版的第一表面平行水平面；所述掩膜版沿所述第二方向放置時，所述掩膜版的第二表面平行所述水平面；所述第一表面為所述掩膜版具有掩膜圖案的表面，所述第二表面為所述掩膜版不具有掩膜圖案的表面。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掩膜版清洗運送系統(tǒng)，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)機構(gòu)處還設(shè)置有烘烤機構(gòu)，所述烘烤機構(gòu)用于對清洗后的所述掩膜版進(jìn)行烘烤以使清洗后的所述掩膜版干燥。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩膜版清洗運送系統(tǒng)，其特征在于，所述第二傳送機構(gòu)包括第一導(dǎo)軌和第三抓取單元，所述第三抓取單元用于抓取所述傳遞區(qū)的承載有待清洗的所述掩膜版的所述第一承載機構(gòu)并通過所述第一導(dǎo)軌傳送至所述清洗區(qū)；

以及用于抓取所述清洗區(qū)的承載有清洗后的所述掩膜版的所述第一承載機構(gòu)并通過所述第一導(dǎo)軌傳送至所述傳遞區(qū)。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩膜版清洗運送系統(tǒng)，其特征在于，所述第一傳送模塊為雙臂機械手，所述雙臂結(jié)構(gòu)手包括第一機械手和第二機械手，所述第一機械手作為所述第一抓取單元，所述第二機械手作為所述第二抓取單元。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜版清洗運送系統(tǒng)，其特征在于，所述中轉(zhuǎn)腔室包括上料門，所述上料門用于控制所述中轉(zhuǎn)腔室和外界的連通狀態(tài)；所述中轉(zhuǎn)腔室與所述清洗腔室之間設(shè)置有第一連通控制門，所述第一連通控制門用于控制所述中轉(zhuǎn)腔室和所述清洗腔室的連通狀態(tài)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1或8所述的掩膜版清洗運送系統(tǒng)，其特征在于，所述中轉(zhuǎn)腔室與所述設(shè)定腔室通過密閉通道連通，所述中轉(zhuǎn)腔室和/或蒸鍍機的設(shè)定腔室在與所述密閉通道的相接口處設(shè)置有第二連通控制門。