[發(fā)明專利]一種組合型反射膜及其制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110229161.8
• 申請日: 2021-03-02
• 公開（公告）號: CN113151783B
• 公開（公告）日: 2022-04-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 覃家祥;陶友季;王受和;祁黎;王俊;呂天一
• 申請（專利權(quán)）人: 中國電器科學研究院股份有限公司
• 主分類號: C23C14/08
• 分類號: C23C14/08;C23C14/10;C23C14/30;G02B5/08
• 代理公司: 廣州知友專利商標代理有限公司 44104
• 代理人: 宣國華;劉艷麗

本發(fā)明公開了一種組合型反射膜，包括底部膜層、中部膜層和頂部膜層，所述中部膜層由不同光學厚度的高折射率材料和低折射率材料交替形成，其中所述高折射率材料為HfO₂和Ta₂O₅或HfO₂和ZrO₂，所述低折射率材料為SiO₂，所述頂部膜層由不同光學厚度的Ta₂O₅和SiO₂交替沉積形成，或所述頂部膜層由不同光學厚度的ZrO₂和SiO₂交替沉積形成。還公開了該反射膜的制備方法，該反射膜具有高紫外光反射率、大帶寬、高耐久性，且在酸堿試驗、濕熱老化試驗、紫外光暴露試驗后其反射率和寬帶基本不變，具有高耐久性，為其長期服役提供保障。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于紫外光學薄膜技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種組合型反射膜及其制備方法，尤其是一種具有高紫外光反射率、大帶寬、高耐久性的組合型反射膜及其制備方法。

背景技術(shù)

紫外光在集成電路、曬版、LED、固化、激光器、液晶顯示、醫(yī)療生化等領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用。特別是微電子等產(chǎn)品的超微細化制造過程，需要提高半導(dǎo)體器件、液晶顯示元件、光學制品的成品率，紫外光表面處理技術(shù)已成不可缺少的技術(shù)手段。而紫外光反射膜在紫外光學系統(tǒng)中主要用于反射和收集汞燈、太陽光、激光等光源發(fā)出的紫外光，從而提高工作表面紫外光輻照度以及均勻性的重要光學元件。

理想的紫外光反射膜要求高反射率、大帶寬和高耐久性。不幸的是，這些要求很難同時滿足。金屬鋁膜對紫外光具有高反射率，但其高反射帶寬往往較小，而且由于腐蝕作用的存在，導(dǎo)致其耐久性較差。在前期的工作中，發(fā)現(xiàn)金屬鋁膜在戶外服役1年后，紫外光平均反射率(295-395nm)從原來的99％下降至68％。因此，氧化物薄膜受到了研究人員的廣泛關(guān)注，涌現(xiàn)了HfO₂/SiO₂、HfO₂/MgF₂、ZrO₂/SiO₂及Ta₂O₅/SiO₂等多層氧化物薄膜；但目前所開發(fā)的多層氧化物薄膜基本帶寬均較小，無法進一步拓展反射膜的應(yīng)用范圍。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種組合型反射膜，該反射膜通過設(shè)置用于提高短波紫外反射率的底部膜層、用于提高中波紫外光反射率中部膜層以及用于提高長波紫外反射率和耐久性的頂部膜層，可獲得具有高紫外光反射率、大帶寬和高耐久性的組合型紫外光反射膜。

本發(fā)明的目的還在于提供上述組合型反射膜的制備方法，該方法工藝簡潔，成本低。

為了實現(xiàn)上述第一個目的，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案：一種組合型反射膜，包括底部膜層、中部膜層和頂部膜層，所述中部膜層由不同光學厚度的高折射率材料和低折射率材料交替形成，其中所述高折射率材料為HfO₂和Ta₂O₅或HfO₂和ZrO₂，所述低折射率材料為SiO₂，所述頂部膜層由不同光學厚度的Ta₂O₅和SiO₂交替沉積形成，或所述頂部膜層由不同光學厚度的ZrO₂和SiO₂交替沉積形成。