[發明專利]一種組合型反射膜及其制備方法

有效

• 申請號: 202110229161.8
• 申請日: 2021-03-02
• 公開（公告）號: CN113151783B
• 公開（公告）日: 2022-04-19
• 發明（設計）人: 覃家祥;陶友季;王受和;祁黎;王俊;呂天一
• 申請（專利權）人: 中國電器科學研究院股份有限公司
• 主分類號: C23C14/08
• 分類號: C23C14/08;C23C14/10;C23C14/30;G02B5/08
• 代理公司: 廣州知友專利商標代理有限公司 44104
• 代理人: 宣國華;劉艷麗

1.一種組合型反射膜，其特征是包括底部膜層、中部膜層和頂部膜層，所述中部膜層由不同光學厚度的高折射率材料和低折射率材料交替形成，所述高折射率材料為HfO₂和Ta₂O₅或HfO₂和ZrO₂，所述低折射率材料為SiO₂，所述頂部膜層由不同光學厚度的Ta₂O₅和SiO₂交替沉積形成，或所述頂部膜層由不同光學厚度的ZrO₂和SiO₂交替沉積形成；

所述底部膜層用于提高短波紫外光反射率，所述底部膜層由不同光學厚度的HfO₂和SiO₂交替形成，所述底部膜層的結構為(aHbL)^x(cHbL)^y(dHbL)^z，其中H為高折射率材料HfO₂，L為低折射率材料SiO₂，a、c、d均為H的光學厚度系數，b為L的光學厚度系數，x、y和z則為膜層數；

所述中部膜層用于提高中波紫外光反射率，所述中部膜層的結構為(iHjAbL)^w，其中H為高折射率材料HfO₂，A為高折射率材料Ta₂O₅或ZrO₂，i和j分別為H和A的光學厚度系數，L為低折射率材料SiO₂，b為L的光學厚度系數，w則為膜層數；

所述頂部膜層用于提高長波紫外光反射率和耐久性，所述頂部膜層結構為(eAbL)^u(fAbL)^vfA，其中A為高折射率材料Ta₂O₅或ZrO₂，L為低折射率材料SiO₂，e、f均為A的光學厚度系數，b為L的光學厚度系數，u、v則為膜層數；

所述a的數值大小為0.10~0.20，所述b的數值大小為0.20~0.30，所述c的數值大小0.15~0.25，所述d的數值大小為0.20~0.30，所述x、y、z的數值大小均為5~15，所述底部膜層的物理厚度為2.00~3.00μm；

所述i的數值大小為0.05~0.15，所述j的數值大小為0.15~0.30，所述b的數值大小為0.20~0.30，所述w的數值大小為5~15，所述中部膜層的物理厚度為0.80~1.50μm；

所述e的數值大小0.20~0.35，所述f的數值大小為0.30~0.40，所述b的數值大小為0.20~0.30，所述u、v的數值大小均為5~15，所述頂部膜層的物理厚度為1.5~2.5μ。

2.權利要求1所述組合型反射膜的制備方法，其特征是包括以下步驟：基片選取，在所述基片上采用等離子體輔助電子束蒸發沉積法依次進行底部膜層沉積、中部膜層沉積和頂部膜層沉積，獲得組合型反射膜。