[發明專利]一種管靶材及其用途

在審

• 申請號: 202110227697.6
• 申請日: 2021-03-01
• 公開（公告）號: CN113025971A
• 公開（公告）日: 2021-06-25
• 發明（設計）人: 姚力軍;邊逸軍;潘杰;王學澤;侯娟華
• 申請（專利權）人: 寧波江豐電子材料股份有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C4/067;C23C4/16
• 代理公司: 北京遠智匯知識產權代理有限公司 11659
• 代理人: 王巖

本發明提供一種管靶材及其用途，所述管靶材包括管體及內孔，所述內孔兩端分別設置有第一螺孔和第二螺孔，所述第一螺孔內設置有第一螺紋，所述第二螺孔內設置有第二螺紋，所述管體側面設置有鉻硅合金層；所述管靶材結構簡單，易加工，將所述管靶材應用于濺射鍍膜中，使用效果良好能夠滿足更高層次的要求，延長了使用壽命。

技術領域

本發明涉及靶材技術領域，尤其涉及一種管靶材及其用途。

背景技術

濺射鍍膜技術是用離子轟擊靶材表面，把靶材的原子被擊出的現象稱為濺射。濺射產生的原子沉積在基體表面成膜稱為濺射鍍膜。通常是利用氣體放電產生氣體電離，其正離子在電場作用下高速轟擊陰極靶體，擊出陰極靶體原子或分子，飛向被鍍基體表面沉積成薄膜。

濺射靶材是半導體集成電路制備過程中重要的原材料之一，靶材的材質主要包括Al、Ni、Cu、Ti、W、貴金屬及其合金等，主要用于集成電路中接觸、通孔、互連線、阻擋層、封裝等物理氣相沉積薄膜的制備。濺射過程中，用加速的離子轟擊靶材表面使表面的原子沉積在基底表面。靶材在使用過程中，靶材的使用壽命是重要因素。

CN211443406U公開了一種旋轉濺射靶材管口保護裝置，管口保護裝置包括一用于蓋合旋轉濺射靶材的管口的環蓋，環蓋的內側壁與旋轉濺射靶材管口的外側壁之間設置有緊固結構，環蓋通過緊固結構緊固連接于旋轉濺射靶材的管口，環蓋的外側朝中心凸出成型有凸肩，凸肩的內側與旋轉濺射靶材的管口面抵頂配合，但結構較復雜。

CN211388351U公開了一種用于噴砂設備的TFT平面濺射靶材保護結構，保護結構包括有緊貼于TFT平面濺射靶材的基片的上表面的第一保護層、貼附于基片的側面的第二保護層以及包裹設置于TFT平面濺射靶材的背板兩端部的第三保護層。其中，第一保護層完全覆蓋于基片的上表面；第二保護層沿基片的邊緣方向閉合設置，第二保護層的底邊平齊于背板的綁定面，第二保護層的上邊包覆于第一保護層的邊緣；在背板的綁定面，兩個第三保護層的內側邊與第二保護層的底邊包圍形成噴砂區，但結構較復雜。

CN211972432U公開了一種平面濺射靶材，包括主板、固定孔和滑道，所述主板的下方固定有延伸板，所述固定孔的上方安置有限位塊，所述滑道的內部固定有限位塊，所述安裝板的內部安置有固定機構，所述主板的后方固定有背板，且背板的表面設置有水槽，但結構較復雜。

因此，有必要開發一種結構簡單，能夠適用于濺射鍍膜設備，使用效果良好的靶材，有廣泛的應用前景。

發明內容

鑒于現有技術中存在的問題，本發明提供一種管靶材，所述管靶材包括管體及內孔，內孔兩端分別設置有第一螺孔和第二螺孔，第一螺孔內設置有第一螺紋，第二螺孔內設置有第二螺紋，所述管體側面設置有鉻硅合金層，所述管靶材結構簡單，易加工，將所述管靶材應用于濺射鍍膜中，使用效果良好能夠滿足更高層次的要求，延長了使用壽命。

為達此目的，本發明采用以下技術方案：

第一方面，本發明提供一種管靶材，其特征在于，所述管靶材包括管體及內孔；所述內孔兩端分別設置有第一螺孔和第二螺孔；所述第一螺孔內設置有第一螺紋；所述第二螺孔內設置有第二螺紋；所述管體側面設置有鉻硅合金層。

本發明中管靶材應用于濺射鍍膜中，使用效果良好，設置有內孔能夠裝配磁鐵和冷卻裝置，從而實現產品的濺射功能，第一螺孔與第二螺孔起到固定的作用，管體側面設置有鉻硅合金層，是為了更好實現濺射鍍膜的作用，因為管靶材不是平面，表面無法焊接或者焊接工藝困難，噴涂鉻硅合金層是為了應對管靶材的復雜結構，從而代替焊接。

優選地，所述管靶材的材質包括SUS304不銹鋼。

優選地，所述管體的外徑為65～75mm，例如可以是65mm、66mm、67mm、68mm、69mm、70mm、71mm、72mm、73mm、74mm或75mm等。