[發(fā)明專利]基片輸送系統(tǒng)、真空基片輸送模塊和基片輸送方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110224166.1
• 申請日: 2021-03-01
• 公開（公告）號: CN113394143A
• 公開（公告）日: 2021-09-14
• 發(fā)明（設計）人: 網(wǎng)倉紀彥;北正知
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會社
• 主分類號: H01L21/677
• 分類號: H01L21/677
• 代理公司: 北京尚誠知識產(chǎn)權代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳;徐飛躍

本發(fā)明提供一種基片輸送系統(tǒng)、真空基片輸送模塊和基片輸送方法。基片輸送系統(tǒng)包括基片處理模塊、大氣基片輸送模塊、第1真空基片輸送模塊、第2真空基片輸送模塊、負載鎖定模塊和真空基片輸送機械臂。第1真空基片輸送模塊與大氣基片輸送模塊和基片處理模塊相鄰地配置，具有第1輸送空間。第2真空基片輸送模塊配置在第1真空基片輸送模塊之上或之下，具有與第1輸送空間連通的第2輸送空間，且具有俯視時比第1真空基片輸送模塊小的外形尺寸。負載鎖定模塊配置在大氣基片輸送模塊與第2真空基片輸送模塊之間。真空基片輸送機械臂配置在第1輸送空間內(nèi)或者第2輸送空間內(nèi)，能夠輸送基片。根據(jù)本發(fā)明，能夠削減基片處理系統(tǒng)的設置面積。

技術領域

本發(fā)明的各種側(cè)面和實施方式涉及基片輸送系統(tǒng)、真空基片輸送模塊和基片輸送方法。

背景技術

專利文獻1中記載了具有3個用于載置基片輸送容器的承載器載置臺的半導體制造裝置，該基片輸送容器保存規(guī)定個數(shù)的作為處理對象的晶片。專利文獻1的半導體制造裝置在大氣氣氛下具有輸送晶片的第1輸送室。專利文獻1的半導體制造裝置具有用于將室內(nèi)切換為大氣氣氛和真空氣氛以使晶片待機的、例如左右并排2個的負載鎖定室。專利文獻1的半導體制造裝置包括：在真空氣氛下輸送晶片的第2輸送室；和用于對被送入的晶片實施工藝處理的例如4個處理模塊。此外，專利文獻1中記載了設置于第1輸送室內(nèi)的輸送裝置。專利文獻1的輸送裝置中，基臺構成為借助驅(qū)動機構而能夠沿第1輸送室的長度方向移動且可升降，能夠在對準室與基片輸送容器之間交接晶片。

現(xiàn)有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2015-18875號公報。

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的問題

本發(fā)明提供能夠削減基片處理系統(tǒng)的設置面積的基片輸送系統(tǒng)、真空基片輸送模塊和基片輸送方法。

用于解決問題的技術手段

本發(fā)明的一側(cè)面為基片輸送系統(tǒng)，其包括基片處理模塊、大氣基片輸送模塊、第1真空基片輸送模塊、第2真空基片輸送模塊、負載鎖定模塊和真空基片輸送機械臂。第1真空基片輸送模塊與大氣基片輸送模塊和基片處理模塊相鄰地配置，具有第1輸送空間。第2真空基片輸送模塊配置在第1真空基片輸送模塊之上或之下，具有與第1輸送空間連通的第2輸送空間，且具有俯視時比第1真空基片輸送模塊小的外形尺寸。負載鎖定模塊配置于大氣基片輸送模塊與第2真空基片輸送模塊之間。真空基片輸送機械臂配置在第1輸送空間內(nèi)或者第2輸送空間內(nèi)，構成為能夠在第1輸送空間與基片處理模塊之間在第1高度輸送基片。此外，真空基片輸送機械臂構成為能夠在第1輸送空間與第2輸送空間之間輸送基片。此外，真空基片輸送機械臂構成為能夠在第2輸送空間與負載鎖定模塊之間在與第1高度不同的第2高度輸送基片。

發(fā)明效果

依照本發(fā)明的各種側(cè)面和實施方式，能夠削減基片處理系統(tǒng)的設置面積。

附圖說明

圖1是表示一實施方式中的基片處理系統(tǒng)的一個例子的俯視圖。

圖2是表示圖1中的基片處理系統(tǒng)的A-A截面的一個例子的圖。

圖3是表示圖2中的基片處理系統(tǒng)的B-B截面的一個例子的圖

圖4是表示圖2中的處理系統(tǒng)的C-C截面的一個例子的圖。

圖5是表示基片輸送方法的一個例子的流程圖。

圖6是表示輸送基片時的基片處理系統(tǒng)的一個例子的截面圖。

圖7是表示輸送基片時的基片處理系統(tǒng)的一個例子的截面圖。

圖8是表示輸送基片時的基片處理系統(tǒng)的一個例子的截面圖。

圖9是表示輸送基片時的基片處理系統(tǒng)的一個例子的截面圖。