[發(fā)明專利]半導體裝置的制造方法及半導體裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110220033.7 | 申請日: | 2021-02-26 |
| 公開(公告)號: | CN114078713A | 公開(公告)日: | 2022-02-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 大野天頌;德渕圭介;友野章 | 申請(專利權(quán))人: | 鎧俠股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/48 | 分類號: | H01L21/48;H01L21/78;H01L23/498 |
| 代理公司: | 北京律盟知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司 11287 | 代理人: | 楊林勳 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導體 裝置 制造 方法 | ||
本發(fā)明提供一種可以將設(shè)置在半導體晶圓的粘接膜更恰當?shù)胤指畹陌雽w裝置的制造方法及半導體裝置。本實施方式的半導體裝置的制造方法具備如下步驟,即,在半導體晶圓的第1面設(shè)置粘接膜,所述半導體晶圓具有第1面及位于該第1面的相反側(cè)的第2面,且在第1面具有半導體元件及與該半導體元件電連接的凸塊。另外,本制造方法具備如下步驟,即,沿著半導體晶圓的分割區(qū)域,從粘接膜側(cè)形成切口部。另外,本制造方法具備如下步驟,即,沿著切口部,將半導體晶圓單片化成半導體芯片。另外,本制造方法具備如下步驟,即,使半導體芯片的第1面與配線襯底對向,使凸塊在粘接膜內(nèi)連接于配線襯底。
本申請基于2020年08月19日提出申請的在先日本專利申請第2020-138825號的優(yōu)先權(quán)而主張優(yōu)先權(quán)利益,通過引用將其全部內(nèi)容并入本文中。
技術(shù)領(lǐng)域
本實施方式涉及一種半導體裝置的制造方法及半導體裝置。
背景技術(shù)
作為將半導體芯片安裝到配線襯底的方法,已知有倒裝芯片連接。在倒裝芯片連接 中,為了連接部分的可靠性,在半導體芯片與配線襯底之間填充樹脂。作為填充樹脂,例如,有時使用NCF(Non Conductive Film,非導電膜)等粘接膜。例如,通過將貼附有 NCF的半導體晶圓切割,可以獲得帶NCF的單片化的半導體芯片。另外,通過在切割 后的半導體晶圓上貼附NCF并將NCF切斷,也可以獲得帶NCF的單片化的半導體芯 片。
但是,有時在半導體晶圓上的一部分會產(chǎn)生例如NCF沒有完全被分割或NCF蜿蜒地被分割等NCF的分割不良。
發(fā)明內(nèi)容
提供一種可以將設(shè)置在半導體晶圓的粘接膜更恰當?shù)胤指畹陌雽w裝置的制造方 法及半導體裝置。
本實施方式的半導體裝置的制造方法具備如下步驟,即,在半導體晶圓的第1面設(shè)置粘接膜,所述半導體晶圓具有第1面及位于該第1面的相反側(cè)的第2面,且在第1面 具有半導體元件及與該半導體元件電連接的凸塊。另外,本制造方法具備如下步驟,即, 沿著半導體晶圓的分割區(qū)域,從粘接膜側(cè)形成切口部。另外,本制造方法具備如下步驟, 即,沿著切口部,將半導體晶圓單片化成半導體芯片。另外,本制造方法具備如下步驟, 即,使半導體芯片的第1面與配線襯底對向,使凸塊在粘接膜內(nèi)連接于配線襯底。
根據(jù)所述構(gòu)成,能夠提供一種可以將設(shè)置在半導體晶圓的粘接膜更恰當?shù)胤指畹陌?導體裝置的制造方法及半導體裝置。
附圖說明
圖1是表示第1實施方式的半導體裝置的構(gòu)成例的剖視圖。
圖2是表示第1實施方式的半導體晶圓的一例的概略俯視圖。
圖3A是表示第1實施方式的半導體裝置的制造方法的一例的剖視圖。
圖3B是表示繼圖3A后的半導體裝置的制造方法的一例的剖視圖。
圖3C是表示繼圖3B后的半導體裝置的制造方法的一例的剖視圖。
圖3D是表示繼圖3C后的半導體裝置的制造方法的一例的剖視圖。
圖3E是表示繼圖3D后的半導體裝置的制造方法的一例的剖視圖。
圖3F是表示繼圖3E后的半導體裝置的制造方法的一例的剖視圖。
圖3G是表示繼圖3F后的半導體裝置的制造方法的一例的剖視圖。
圖4是表示第2實施方式的半導體裝置的制造方法的一例的剖視圖。
圖5A是表示第3實施方式的半導體裝置的制造方法的一例的剖視圖。
圖5B是表示繼圖5A后的半導體裝置的制造方法的一例的剖視圖。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





